一维光子晶体结构聚合物膜的制备方法技术

本发明专利技术涉及一维光子晶体结构聚合物膜的制备方法，涉及光子晶体和分子印迹技术领域。本发明专利技术的技术方案主要包括：包括如下步骤：将模板分子、功能单体、丙烯酰胺、交联剂与甲醇混合，过夜搅拌12小时；加入光引发剂，氮气除氧后即得到前驱液；在洁净的玻璃片上滴加前驱液，用一维光子晶体模板覆盖于溶液上，将其置于紫外灯下照射，引发聚合，聚合后揭下即得一维光子晶体结构聚合物膜。本发明专利技术将光子晶体与分子印迹技术相结合，与传统单一的分子印迹制备检测方法相比，实现了可视化检测，在检测中可通过聚合物膜颜色的变化来判断该分子印迹膜结构的变化。

【技术实现步骤摘要】
一维光子晶体结构聚合物膜的制备方法
本专利技术涉及光子晶体和分子印迹
，具体涉及一维光子晶体结构聚合物膜的制备方法。
技术介绍
分子印迹技术是由模板诱导在聚合物中形成特定识别位点的过程，在传统的分子印迹检测法中，由于使用单一的功能单体进行聚合时，会受到溶液离子强度等的影响，出现溶胀率较大，聚合物破损等，不利于聚合物的制备。
技术实现思路
本专利技术提供一维光子晶体结构聚合物膜的制备方法。采用跨度为761nm，高度为75nm，宽度为350nm的一维光子晶体模板，通过将光子晶体和分子印迹技术相结合，根据不同浓度甲基苯丙胺对分子印迹聚合物膜的作用不同，利用光学光谱仪测定反射峰强度的变化，从而实现对甲基苯丙胺的检测。检测原理为：当白色入射光照射在传感器表面时，反射光的波长符合光栅方程：mλ＝d(sinθ1+θD)，其中m为衍射级数，λ为衍射光波长，θ1为光源入射角；θD为反射角；d为光栅周期。当分子印迹膜与样品分子结合时，样品分子进入分子印迹空腔，产生结构变化，会引起膜上面的台阶高度的改变，从而影响反射光谱的反本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一维光子晶体结构聚合物膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：/n(1)将模板分子、功能单体、丙烯酰胺、交联剂与甲醇混合，过夜搅拌12小时；加入光引发剂，氮气除氧后即得到前驱液；/n(2)在洁净的玻璃片上滴加步骤(1)制备的前驱液，用前驱液布满一维光子晶体模板后置于紫外灯下引发聚合，聚合后揭下即得一维光子晶体结构聚合物膜。/n

【技术特征摘要】
1.一维光子晶体结构聚合物膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
(1)将模板分子、功能单体、丙烯酰胺、交联剂与甲醇混合，过夜搅拌12小时；加入光引发剂，氮气除氧后即得到前驱液；
(2)在洁净的玻璃片上滴加步骤(1)制备的前驱液，用前驱液布满一维光子晶体模板后置于紫外灯下引发聚合，聚合后揭下即得一维光子晶体结构聚合物膜。


2.如权利要求1所述的一维光子晶体结构聚合物膜的制备方法，其特征在于，所述的交联剂为N,N’-亚甲基双丙烯酰胺。


3.如权利要求1所述的一维光子晶体结构聚合物膜的制备方法，其特征在于，所述的光引发剂为光引发剂2959。


4.如权利要求1所述的一维...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭明，靳秀一，姜岚，马少敏，魏桓，
申请(专利权)人：大连大学，
类型：发明
国别省市：辽宁;21