清洗离子光学多极装置制造方法及图纸

一种用于清洗离子光学多极装置的电极的清洗装置包含至少一个基本上纵向的清洗区段、从所述至少一个清洗区段轴向地延伸的至少一个处理区段和从所述至少一个清洗区段轴向地延伸的至少一个方向区段。所述至少一个清洗区段具有比所述至少一个处理区段更大的横截面。所述至少一个方向区段能够允许所述清洗装置在第一轴向方向上的纵向移动，并且阻止所述清洗装置在相反的第二轴向方向上的纵向移动。

【技术实现步骤摘要】
清洗离子光学多极装置
本专利技术涉及一种用于清洗离子光学多极装置的装置和方法。更具体地，本专利技术涉及一种用于在无需将多极装置拆开或者甚至移除多极装置的任何壳体的情况下清洗离子光学多极装置(例如四极装置)的电极的装置。
技术介绍
许多类型的质谱仪包含用于引导和过滤离子的至少一个离子光学多极装置。典型地，此类多极装置是四极装置，其具有围绕中心轴线对称布置的四个平行的细长电极。其它多极装置也是已知的，例如相应地具有六个和八个平行的细长电极的六极装置和八极装置。平行电极的表面限定内部空间或内部通道，离子可以通过所述内部空间或内部通道被引导。施加到多极装置的电极的DC和AC电压感应出电场，所述电场允许具有特定m/z(质荷比)比率的离子穿过多极装置，同时阻挡其它离子，因此形成所谓的质量过滤器。被阻挡的离子可能撞击电极，并且逐渐地在电极上形成沉积物。在传输多极或离子阱的情况下，沉积物也可以通过离子的有限接受或径向喷射来形成。也就是说，沉积物会在多极装置的入口区域或出口区域(包括任何出口狭缝)积聚。显然，此类沉积物会对多极装置的正常运行产生负面影响。因此，有必要定期地清洗多极装置。众所周知，拆卸多极装置并且单独地清洗电极，例如通过将它们浸入液体中并且用刷子或其它清洗工具摩擦它们。还提出了激光清洗。然而，这些方法的缺点是，在重新组装之后，多极装置的电极必须重新对准，以确保装置的正常运行。这种重新校准需要由专业技术人员来完成，并且不能由典型的质谱仪用户来执行。将电极浸入液体中具有另外的缺点，即难以从电极中的任何孔移除液体。此外，多极装置的重新组装可能导致电极的机械损坏。因此，期望能够在不将其分离并且不将其浸入液体中的情况下清洗例如离子光学多极装置的多极装置。
技术实现思路
为了解决现有技术的这些问题，本专利技术提供一种用于清洗离子光学多极装置(例如质谱仪的多极装置)的多个细长电极的清洗装置，所述清洗装置包含至少一个基本上纵向的清洗区段和从所述至少一个清洗区段轴向地延伸的至少一个处理区段，其中所述至少一个清洗区段具有比所述至少一个处理区段更大的横截面。通过提供具有基本上纵向的清洗区段和轴向地延伸的处理区段的清洗装置，可以将清洗装置插入多极装置的电极之间的空间中，并且在无需将多极装置拆开的情况下清洗电极。也就是说，为了适合于清洗电极，清洗装置被布置成使得其可以被插入电极之间，并且清洗装置的纵向设计使得插入成为可能。这移除了将多极装置拆开并且在重新组装之后重新对准电极的需要。所述至少一个清洗区段具有比所述至少一个处理区段更大的横截面，使得所述清洗装置和所述多极装置的电极之间的任何接触主要或仅在清洗区段处。这确保了装置和电极之间的接触仅在装置的期望区域中，也就是说，在清洗区域中，同时避免了处理区段(或多个处理区段)和电极之间的任何不必要的摩擦。本专利技术的装置还包含从所述至少一个清洗区段轴向地延伸的至少一个方向区段。所述至少一个方向区段能够允许所述装置在第一轴向方向上的纵向移动，并且阻止所述装置在相反的第二轴向方向上的纵向移动。此类方向区段被设计成通过在一个方向上比在相反方向上产生更少摩擦来为装置提供优选的插入方向。这进而使所述装置仅在一个方向上移动通过多极装置，因此在单个方向上将任何移除的沉积物移出多极装置。清洗区段可以具有适合于接触和清洗电极的表面的形状。例如，至少一个清洗区段可以具有基本上多边形(例如正方形、六边形或八边形)的横截面形状。替代地或另外地，至少一个清洗区段具有基本上圆形的横截面形状或基本上椭圆形的横截面形状。选择的实际形状也可以取决于多极装置的电极的数量(例如四极、六极或八极)和/或它们的相互取向。在清洗装置包含至少两个清洗区段的实施例中，两个清洗区段可以具有不同的横截面形状和/或不同的横截面尺寸。也就是说，不是所有的清洗区段都需要具有相同的横截面形状和/或相同的横截面尺寸。例如，清洗区段的形状和/或尺寸可以取决于清洗液体是否被施加到特定的清洗区段，以及清洗液体被施加到哪个区段上。然而，在所述装置包含至少两个清洗区段的实施例中，两个清洗区段也可能具有相同的横截面形状和/或横截面尺寸。应理解，在所述装置包含三个清洗区段的实施例中，两个清洗区段可以具有相同的横截面尺寸和/或形状，而一个清洗区段具有不同的横截面尺寸和/或不同的形状。在有利的实施例中，所述装置包含由至少一个间隔区段分开的两个或更多个清洗区段，其中所述至少一个间隔区段具有比所述清洗区段更小的横截面。间隔区段用于将清洗区段和因此施加到那些清洗区段的任何清洗液体间隔开。清洗区段可以以几种不同的方式设计。在实施例中，至少一个清洗区段包含从主体突出的一系列清洗元件，优选地为例如轴的纵向主体。也就是说，在此类实施例中，清洗区段包含多个基本上分开的清洗元件。然而，在其它实施例中，清洗区段可由单个元件构成，例如由皮革或另一个合适的材料制成的基本上管状元件。在至少一个清洗区段包含从主体突出的一系列清洗元件的实施例中，清洗元件可以包含清洗凸缘。此类清洗凸缘可由例如盘形元件构成。至少一些清洗凸缘可从主体基本上垂直地突出。然而，在一些实施例中，至少一些清洗凸缘从主体以锐角突出，使得清洗凸缘在特定方向上具有倾斜，所述倾斜优选地与装置插入多极装置的方向相反，以便不会产生太多摩擦。至少一些清洗凸缘可以基本上是平面的，使得清洗凸缘可由例如扁平的盘构成。然而，至少一些清洗凸缘可以是弯曲的。弯曲的清洗凸缘可以是凸形的或凹形的。可以选择具体的曲率来增加或减少接触电极的清洗凸缘的面积。在合适的实施例中，至少一个清洗区段被布置成可压缩的。可压缩清洗区段允许所述装置容易地用在具有不同尺寸的不同多极装置中，特别是其中由平行的细长电极限定的内部通道或空间的横截面不同的多极装置中。另外，如果可压缩清洗区段是弹性的，那么清洗区段与电极的表面区域接触的压力增加，导致改善的清洗作用。至少一个清洗区段能够吸收和释放清洗液体。这允许清洗液体在装置插入多极装置之前被清洗区段吸收，并且允许清洗液体在插入之后释放，例如当吸收液体的清洗区段是可压缩的时。此类机构使得可以使用所述装置来将清洗液体引入到多极装置中。清洗区段可由不同的材料制成，这取决于它们的特定形状、结构和用途。在某些实施例中，至少一个清洗区段包含纤维素。例如，当清洗区段包含清洗盘时，那些清洗盘可以有利地由纤维素制成。应理解，不同的清洗区段可由不同的材料制成，并且甚至两种或更多种不同的材料可以用于单个清洗区段中。可以有利地使用的其它材料是例如天然或合成皮革或各种塑料。在特别有利的实施例中，所述装置包含由间隔区段分开的三个清洗区段。间隔区段可以具有比清洗区段更小的直径，并且可以具有范围例如从几毫米到几厘米的长度。具有三个连续清洗区段的装置特别适合于使用要插入的第一清洗区段来施加第一清洗液体(例如水)，使用第二清洗区段来施加第二清洗液体(例如有机或其它溶剂)以移除水，以及使用第三清洗区段来干燥。电极上的沉积物在很大程度上可溶于水。在实施例中，可以向水中添加添加剂，例如肥皂。合本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于清洗离子光学多极装置的多个细长电极的清洗装置，所述清洗装置包含至少一个基本上纵向的清洗区段、从所述至少一个清洗区段轴向地延伸的至少一个处理区段和从所述至少一个清洗区段轴向地延伸的至少一个方向区段，其中所述至少一个清洗区段具有比所述至少一个处理区段更大的横截面，并且所述至少一个方向区段能够允许所述清洗装置在第一轴向方向上的纵向移动，并且阻止所述清洗装置在相反的第二轴向方向上的纵向移动。/n

【技术特征摘要】
20190520 GB 1907055.61.一种用于清洗离子光学多极装置的多个细长电极的清洗装置，所述清洗装置包含至少一个基本上纵向的清洗区段、从所述至少一个清洗区段轴向地延伸的至少一个处理区段和从所述至少一个清洗区段轴向地延伸的至少一个方向区段，其中所述至少一个清洗区段具有比所述至少一个处理区段更大的横截面，并且所述至少一个方向区段能够允许所述清洗装置在第一轴向方向上的纵向移动，并且阻止所述清洗装置在相反的第二轴向方向上的纵向移动。


2.根据权利要求1所述的清洗装置，其中至少一个清洗区段具有基本上多边形的横截面形状，正方形、六边形或八边形。


3.根据权利要求1或2所述的清洗装置，其中至少一个清洗区段具有基本上圆形的横截面形状。


4.根据前述权利要求中任一项所述的清洗装置，其中至少一个清洗区段具有基本上椭圆形的横截面形状。


5.根据前述权利要求中任一项所述的清洗装置，其包含至少两个清洗区段，其中两个清洗区段具有不同的横截面形状和/或不同的横截面尺寸。


6.根据前述权利要求中任一项所述的清洗装置，其包含至少两个清洗区段，其中两个清洗区段具有相同的横截面形状和/或横截面尺寸。


7.根据前述权利要求中任一项所述的清洗装置，其包含由至少一个间隔区段分开的两个或更多个清洗区段，其中所述至少一个间隔区段具有比所述清洗区段更小的横截面。


8.根据前述权利要求中任一项所述的清洗装置，其中至少一个清洗区段包含从主体突出的一系列清洗元件。


9.根据权利要求8所述的清洗装置，其中所述清洗元件包含清洗凸缘。


10.根据权利要求9所述的清洗装置，其中至少一些清洗凸缘从所述主体基本上垂直地突出。


11.根据权利要求9或10所述的清洗装置，其中至少一些清洗凸缘以锐角从所述主体突出。


12.根据权利要求9至11中任一项所述的清洗装置，其中至少一些清洗凸缘基本上是平面的。


13.根据权利要求9至12中任一项所述的清洗装置，其中至少一些清洗凸缘是弯曲的。


14.根据前述权利要求中任一项所述的清洗装置，其中至少一个清洗区段被布置成可压缩的。


15.根据前述权利要求中任一项所述的清洗装置，其中至少一个清洗区段能够吸收和释放清洗液体。


16.根据前述权利要求中任一项所述的清洗装置，其中至少一个清洗区段包含纤维素、天然或人造海绵、皮革和/或布。


17.根据前述权利要求中任一项所述的清洗装置，其包含由间隔区段分开的三个清洗区段。


18.根据权利要求1至17中至少一项所述的清洗装置，其中所述方向区段包含从所述主体突出的至少一个柔性元件和邻近所述柔性元件布置的至少一个阻挡元件，所述阻挡元件用于阻挡所述柔性元件在所述阻挡元件的方向...

【专利技术属性】
技术研发人员：JP·豪斯希尔德，A·彼得森，A·凡库斯，
申请(专利权)人：塞莫费雪科学不来梅有限公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE