PDP基板介质层特性测试装置制造方法及图纸

一种ＰＤＰ基板介质层特性测试装置，包括盖板（１）、承片台（３）和耐压测试仪（６），盖板（１）的一边和承片台（３）的一边相铰接，其特征是所述的盖板（１）上设有大面积导电薄膜（２）和电极引出条（２０１，２０２，２０３，２０４，２０５），其中电极引出条（２０２）与大面积导电薄膜（２）相连，电极引出条（２０１，２０３，２０４，２０５）与被测ＰＤＰ基板的前基板和后基板上的电极相对应；在承片台（３）上设有软玻璃密封条（５），该软玻璃密封条（５）的周边与ＰＤＰ基板的周边相匹配，在承片台（３）中安装有无油真空泵（４），无油真空泵（４）的吸气口与承片台（３）上的抽气口（７）相通，耐压测试仪（６）的检测电极与盖板（１）上对应的电极引出条（２０１，２０２，２０３，２０４，２０５）相连。（*该技术在2017年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种平板电视检测技术，尤其是一种平板电视中的基板 介质绝缘特性和耐压特性检测装置，具体地说是一种PDP基板介质层特性测 试装置。技术背景众所周知，在等离体平板电视(PDP)中，作为显示部分的基板由前基板 和后基板组成，在前后基板中均设有一层介质层，该介质层是一层透明的绝 缘层，在交流等离子体显示板工作中起到电极之间隔离及存储电荷作用，因 此介质层的性能的好坏在一定程度上决定了基板的特性。在基板的性能指标 中要求介质层要有较好的绝缘性以及较高的耐压性，因此如何测试介质的绝 缘性和介质的耐压性是检验基板品质的一个标准。目前尚无相应的测试装置 可供使用。
技术实现思路
本技术的目的是针对PDP基板介质特征缺乏相应的检测装置的问 题，设计一种结构简单，使用方便的PDP基板介质层特性测试装置。本技术的技术方案是一种PDP基板介质层特性测试装置，包括盖板l、承片台3和耐压测试 仪6，盖板1的一边和承片台3的一边相铰接，其特征是所述的盖板1上设 有大面积导电薄膜2和电极引出条201， 202， 203， 204， 205，其中电极引 出条202与大面积导电薄膜2相连，电极引出条201本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种ＰＤＰ基板介质层特性测试装置，包括盖板（１）、承片台（３）和耐压测试仪（６），盖板（１）的一边和承片台（３）的一边相铰接，其特征是所述的盖板（１）上设有大面积导电薄膜（２）和电极引出条（２０１，２０２，２０３，２０４，２０５），其中电极引出条（２０２）与大面积导电薄膜（２）相连，电极引出条（２０１，２０３，２０４，２０５）与被测ＰＤＰ基板的前基板和后基板上的电极相对应；在承片台（３）上设有软玻璃密封条（５），该软玻璃密封条（５）的周边与ＰＤＰ基板的周边相匹配，在承片台（３）中安装有无油真空泵（４），无油真空泵（４）的吸气口与承片台（３）上的抽气口（７）相通，耐压测试仪（６）的检测电极与盖板...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：吉志坚，李青，张雄，朱立锋，王保平，林青园，
申请(专利权)人：南京华显高科有限公司，
类型：实用新型
国别省市：84