【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】电磁波检测装置以及信息获取系统相关申请的相互参照本申请主张日本专利申请2018-90178号(2018年5月8日申请)的优先权，并将该申请的公开全部内容引入本申请用于参照。
本专利技术涉及一种电磁波检测装置以及信息获取系统。
技术介绍
现在已知一种将成像于镜器件并由镜器件反射的像进一步成像于拍摄元件的结构(例如，参照专利文献1)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本专利第3507865号公报
技术实现思路
本专利技术的一个实施方式的电磁波检测装置具有第一行进部、检测部以及第二行进部。所述第一行进部具有基准面和沿着所述基准面而配置的多个像素，使入射至所述基准面的电磁波针对每个所述像素向特定的方向行进。所述检测部具有检测面并检测入射至所述检测面的电磁波。所述第二行进部具有与所述基准面对置的第一面、与所述检测面对置的第二面、以及与所述第一面和所述第二面交叉的第三面。所述第三面使向与所述第三面交叉的第一方向行进的电磁波向与所述第一面交叉的第二方向行进。所述第一面使向...
【技术保护点】
1.一种电磁波检测装置，其中，/n具有：/n第一行进部，具有基准面和沿着所述基准面而配置的多个像素，使入射至所述基准面的电磁波针对每个所述像素向特定的方向行进；/n检测部，具有检测面并检测入射至所述检测面的电磁波；以及/n第二行进部，具有与所述基准面对置的第一面、与所述检测面对置的第二面、以及与所述第一面和所述第二面交叉的第三面；/n所述第三面使向与所述第三面交叉的第一方向行进的电磁波向与所述第一面交叉的第二方向行进，/n所述第一面使向所述第二方向行进的电磁波入射至所述基准面，/n所述第一面使从所述基准面再入射的电磁波向与所述第三面交叉的第三方向行进，/n所述第三面使向所述...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180508 JP 2018-0901781.一种电磁波检测装置，其中，
具有：
第一行进部，具有基准面和沿着所述基准面而配置的多个像素，使入射至所述基准面的电磁波针对每个所述像素向特定的方向行进；
检测部，具有检测面并检测入射至所述检测面的电磁波；以及
第二行进部，具有与所述基准面对置的第一面、与所述检测面对置的第二面、以及与所述第一面和所述第二面交叉的第三面；
所述第三面使向与所述第三面交叉的第一方向行进的电磁波向与所述第一面交叉的第二方向行进，
所述第一面使向所述第二方向行进的电磁波入射至所述基准面，
所述第一面使从所述基准面再入射的电磁波向与所述第三面交叉的第三方向行进，
所述第三面使向所述第三方向行进的电磁波向与所述第二面交叉的第四方向行进，
所述第二面将向所述第四方向行进的电磁波向所述检测面射出。
2.如权利要求1所述的电磁波检测装置，其中，
所述第二面所射出的电磁波的行进方向与所述检测面正交。
3.如权利要求1或2所述的电磁波检测装置，其中，
所述第二方向与所述第一面正交。
4.如权利要求1至3中任一项所述的电磁波检测装置，其中，
被所述第一面入射至所述基准面的电磁波的行进方向与所述基准面正交。
5.如权利要求1至4中任一项所述的电磁波检测装置，其中，
所述第一面与所述基准面平行。
6.如权利要求1至5中任一项所述的电磁波检测装置，其中，
所述第四方向与所述第二面正交。
7.如权利要求1至6中任一项所述的电磁波检测装置，其中，
所述第二面与所述检测面平行。
8.如权利要求1至7中任一项所述的电磁波检测装置，其中，
沿所述第一方向行进的电磁波对于所述第三面的入射角小于临界角。
9.如权利要求1至8中任一项所述的电磁波检测装置，其中，
所述第一面通过使从所述基准面再入射的电磁波透过或折射，从而使其向所述第三方向行进。
10.如权利要求1至9中任一项所述的电磁波检测装置，其中，
所述第三面使向所述第三方向行进的电磁波在内部反射，并向所述第四方向行进。
11.如权利要求1至10中任一项所述的电磁波检测装置，其中，
所述第三面使向所述第三方向行进的电磁波在内部全反射，并向所述第四方向行进。
12.如权利要求1至11中任一项所述的电磁波检测装置，其中，
沿所述第三方向行进的电磁波对于所述第三面的入射角为临界角以上。
13.如权利要求1至12中任一项所述的电磁波检测装置，其中，
所述第二行进部具备具有至少三个面的第一棱镜，
所述第一面、所述第二面以及所述第三面分别包含于所述第一棱镜所具有的面。
14.如权利要求13所述的电磁波检测装置，其中，
所述第二行进部还具备至少具有第四面、第五面、第六面的第二棱镜，
所述第四面沿着所述第一棱镜的所述第三面而配置，
所述第五面与电磁波入射至所述第二行进部的方向交叉，
所述第六面与所述第四面以及所述第五面分别交叉。
15.如权利要求14所述的电磁波检测装置，其中，
所述第四面与所述第三面一起形成所述第一棱镜与所述第二棱镜的边界面。
16.如权利要求15所述的电磁波检测装置，其中，
所述第一棱镜的折射率大于所述第二棱镜的折射率。
17.如权利要求14所述的电磁波检测装置，其中，
所述第二行进部在所述第一棱镜的所述第三面与所述第二棱镜的所述第四面之间还具有中间层，
所述第一棱镜的所述第三面形成所述第一棱镜与所述中间层的边界面，
所述第二棱镜的所述第四面形成所述第二棱镜与所述中间层的边界面。
18.如权利要求17所述的电磁波检测装置，其中，
所述第一棱镜的折射率大于所述中间层的折射率。
19.如权利要求17或18所述的电磁波检测装置，其中，
所述中间层包括真空、气体、液体、固体以及非晶中的至少一种。
20.如权利要求17至19中任一项所述的电磁波检测装置，其中，
所述中间层包括空气层。
21.如权利要求17至20中任一项所述的电磁波检测装置，其中，
所述第二行进部包括内部全反射棱镜。
22.如权利要求17至21中任一项所述的电磁波检测装置，其中，
所述中间层包括棱镜。
23.如权利要求14至22中任一项所述的电磁波检测装置，其中，
所述第五面通过使入射的电磁波透过或者折射，从而使其向所述第一方向行进。
24.如权利要求14至23中任一项所述的电磁波检测装置，其中，
还具有第一成像部，所述第一成像部使朝向所述第二行进部行进的电磁波成像，并使其入射至所述第二棱镜的所述第五面。
...
【专利技术属性】
技术研发人员：皆川博幸，竹内绘梨，
申请(专利权)人：京瓷株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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