【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】吸附剂
本专利技术涉及用于去除羰基硫的吸附剂。
技术介绍
已知羰基硫(化学式:COS)为硫化合物的1种,且成为各种催化剂的中毒物质。例如,近年来,其需求增大的丙烯包含微量羰基硫作为杂质,已知如果在不使这样的丙烯纯化的情况下供至聚合工序,则羰基硫会导致丙烯聚合用的催化剂中毒(专利文献1)。作为去除这样的杂质的方法,例如工业上采用有:利用沸点差而将目标物与杂质分离的蒸馏法。然而,已知由于丙烯与羰基硫的沸点接近,因此,难以凭借蒸馏法而完全分离丙烯中所含的羰基硫。另外已知,不限定于丙烯的情况,沸点与羰基硫接近的碳数2~6的烃中所含的羰基硫也同样地难以凭借蒸馏法而完全分离(专利文献2)。如此,作为去除凭借蒸馏法难以分离的羰基硫的方法,已知有如下方法:与吸附剂接触并去除的方法;与吸收液接触并去除的方法;进行水解而去除的方法;等。例如,专利文献3中公开了如下方法:将使氧化铅等负载于氧化铝载体而得到的吸附剂与包含羰基硫的流体接触,从而去除羰基硫。另外,此时,羰基硫与吸附剂中所含的氧化铅接触而被去除。专利文献4 ...
【技术保护点】
1.一种吸附剂,其为用于去除包含烯烃的流体中所含的羰基硫的吸附剂,/n其包含铜的氧化物,且/n包含铝化合物,/n所述铝化合物的含量以Al换算计处于10质量%以上且50质量%以下的范围,/n所述吸附剂的通过氨程序升温脱附测定而算出的100℃以上且200℃以下的温度区域中的NH
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180329 JP 2018-0658541.一种吸附剂,其为用于去除包含烯烃的流体中所含的羰基硫的吸附剂,
其包含铜的氧化物,且
包含铝化合物,
所述铝化合物的含量以Al换算计处于10质量%以上且50质量%以下的范围,
所述吸附剂的通过氨程序升温脱附测定而算出的100℃以上且200℃以下的温度区域中的NH3脱附量处于超过0.001mmol/g且为1mmol/g以下的范围。
2.根据权利要求1所述的吸附剂,其中,所述铝化合物为通过氨程序升温脱附测定而算出的100℃以上且200℃以下的温度区域中的NH3脱附量处于0.01mmol/g以上且10mmol/g以下的范围的铝化合物。
3.根据权利要求2所述的吸附剂,其中,所述铝化合物为选自由氢氧化铝和氧化铝组成的组中的至少1种。
4.根据权利要求3所述的吸附剂,其中,所述氢氧化铝的晶体结构为拟薄水铝石。
5.根据权利要求3所述的...
【专利技术属性】
技术研发人员:小岛千寻,酒井伸吾,八岛崇博,高桥薫,冲田充司,本田一规,
申请(专利权)人:日挥触媒化成株式会社,
类型:发明
国别省市:日本;JP
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