屏下成像装置、屏体模组、显示装置和滤波片的制作方法制造方法及图纸

本申请涉及一种屏下成像装置、屏体模组、显示装置和滤波片的制作方法。应用于透过屏体成像。所述屏下成像装置包括透镜组、滤波片和感应元件。所述透镜组具有焦平面。所述滤波片设置于所述焦平面。光线通过所述屏体和所述透镜组照射至所述滤波片时，由于所述屏体内的阵列结构会形成衍射图样。所述感光元件设置于所述滤波片远离所述透镜组的一侧，用于接收经过所述滤波片的光线。当光线通过所述屏体和所述透镜组照射至所述滤波片后，通过所述滤光片能够过滤掉所述衍射图样中影响图像清晰度的高级次的频谱对应的光线，从而提高衍射现象对成像的影响，提高成像的清晰度。

【技术实现步骤摘要】
屏下成像装置、屏体模组、显示装置和滤波片的制作方法
本专利技术涉及显示
，特别是涉及屏下成像装置、屏体模组、显示装置和滤波片的制作方法。
技术介绍
随着显示技术的发展，人们对显示效果的要求越来越高。目前，全面屏手机是各个厂商研发的重点。为了实现全面屏，将成像装置置于屏下是非常重要的技术路径。但是，由于屏体本身透光性和内部阵列结构对摄像头采光成像的质量造成了很大的影响。其中一个重要的问题是光通过屏体时会产生衍射，使成像模糊不清。
技术实现思路
基于此，有必要针对光通过屏体时会产生衍射，使成像模糊不清的问题，提供一种屏下成像装置、屏体模组、显示装置和滤波片的制作方法。一种屏下成像装置，应用于透过屏体成像，包括：透镜组，具有焦平面；滤波片，设置于所述焦平面；以及感光元件，设置于所述滤波片远离所述透镜组的一侧，用于接收经过所述滤波片的光线。在一个实施例中，所述滤波片设置有遮挡图案，所述遮挡图案用于遮挡所述衍射图样的非中央亮斑区，其中，所述衍射图样为透过所述屏体进入所述透镜组的光衍射在所述透镜组的焦平面形成的图样。在一个实施例中，所述遮挡图案位于所述滤波片靠近所述透镜组的一侧，并位于所述滤波片的表面。在一个实施例中，所述遮挡图案为设置于所述滤波片表面的光吸收层。在一个实施例中，包括支撑架，所述透镜组和所述滤波片分别设置于所述支撑架的两端。一种滤波片的制作方法，所述滤波片用于屏下成像装置，所述制作方法包括：在透镜组的焦平面采集透过屏体进入透镜组的光衍射形成的衍射图样；基于所述衍射图样制作滤波片,所述滤波片的表面设置有遮挡图案，所述遮挡图案用于遮挡通过所述屏体和所述透镜组入射的光线在所述滤波片形成的衍射图样的非中央亮斑区。在一个实施例中，所述在所述透镜组的焦平面采集透过所述屏体进入所述透镜组的光衍射形成的衍射图样包括：提供表面设置有光刻胶层的基底；将所述基底设置于所述透镜组的焦平面；使光线依次通过所述屏体和所述透镜组照射所述光刻胶层形成所述衍射图样。一种滤波片的制作方法，所述滤波片用于屏下成像装置，所述制作方法包括：提供屏体、透镜组和表面设置有光刻胶层的滤波片基体；将所述滤波片基体设置于所述透镜组的焦平面；使光线依次通过所述屏体和所述透镜组照射所述光刻胶层形成衍射图样；去除所述衍射图样中的中央亮斑区对应的所述光刻胶层制成遮挡图案。一种屏体模组，包括：屏体；屏下成像装置，所述屏下成像装置设置于所述屏体，包括：透镜组，具有焦平面；滤波片，设置于所述焦平面；以及感光元件，设置于所述滤波片远离所述透镜组的一侧，用于接收经过所述滤波片的光线。一种显示装置，包括所述的屏体模组。本申请实施例提供一种屏下成像装置、屏体模组、显示装置和滤波片的制作方法。应用于透过屏体成像。所述屏下成像装置包括透镜组、滤波片和感应元件。所述透镜组具有焦平面。所述滤波片设置于所述焦平面。光线通过所述屏体和所述透镜组照射至所述滤波片时，由于所述屏体内的阵列结构会形成衍射图样。所述感光元件设置于所述滤波片远离所述透镜组的一侧，用于接收经过所述滤波片的光线。当光线通过所述屏体和所述透镜组照射至所述滤波片后，通过所述滤光片能够至少部分过滤掉所述衍射图样中影响图像清晰度的高级次的频谱对应的光线，从而提高衍射现象对成像的影响，提高成像的清晰度。附图说明为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本申请一个实施例提供的屏下成像装置结构示意图；图2为本申请一个实施例提供的滤波片形成的衍射图样示意图；图3为本申请一个实施例提供的滤波片表面遮挡图案示意图；图4为本申请另一个实施例提供的屏下成像装置结构示意图；图5为本申请一个实施例提供的滤波片制作流程图；图6为本申请一个实施例提供的屏体模组示意图。附图标记说明：屏下成像装置10透镜组100滤波片200遮挡图案210遮挡点212透光区214衍射图样220亮斑222焦平面230滤波片基体240光刻胶层250感光元件300支撑架410聚焦马达420壳体430红外滤波片440保护膜450屏体500屏体模组20中央亮斑区610非中央亮斑区620具体实施方式为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本专利技术的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本专利技术。但是本专利技术能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本专利技术内涵的情况下做类似改进，因此本专利技术不受下面公开的具体实施例的限制。在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本专利技术的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。在本专利技术中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。在本专利技术中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。<本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种屏下成像装置，应用于透过屏体(500)成像，其特征在于，包括：/n透镜组(100)，具有焦平面(230)；/n滤波片(200)，设置于所述焦平面(230)；以及/n感光元件(300)，设置于所述滤波片(200)远离所述透镜组(100)的一侧，用于接收经过所述滤波片(200)的光线。/n

【技术特征摘要】
1.一种屏下成像装置，应用于透过屏体(500)成像，其特征在于，包括：
透镜组(100)，具有焦平面(230)；
滤波片(200)，设置于所述焦平面(230)；以及
感光元件(300)，设置于所述滤波片(200)远离所述透镜组(100)的一侧，用于接收经过所述滤波片(200)的光线。


2.如权利要求1所述的屏下成像装置，其特征在于，所述滤波片(200)设置有遮挡图案(210)，所述遮挡图案(210)用于遮挡衍射图样的非中央亮斑区，其中，所述衍射图样为透过所述屏体(500)进入所述透镜组(100)的光衍射在所述透镜组(100)的焦平面形成的图样。


3.如权利要求2所述的屏下成像装置，其特征在于，所述遮挡图案(210)位于所述滤波片(200)靠近所述透镜组(100)的一侧，并位于所述滤波片(200)的表面。


4.如权利要求3所述的屏下成像装置，其特征在于，所述遮挡图案(210)为设置于所述滤波片(200)表面的光吸收层。


5.如权利要求1所述的屏下成像装置，其特征在于，包括支撑架(410)，所述透镜组(100)和所述滤波片(200)分别设置于所述支撑架(410)的两端。


6.一种滤波片的制作方法，所述滤波片用于屏下成像装置，其特征在于，所述制作方法包括：
在透镜组(100)的焦平面(230)采集透过屏体(500)进入透镜组(100)的光衍射形成的衍射图样(220)；
基于所述衍射图样(220)制作滤波片(200),所述滤波片(200)的表面设置有遮挡图案(210)，所述遮挡图案(210)用于遮挡通过所述屏体(500)和所述透镜组(100)入射的光...

【专利技术属性】
技术研发人员：关彦涛，方旭阳，窦晓宇，冯士振，马天，刘明星，
申请(专利权)人：合肥维信诺科技有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34