磁共振成像系统技术方案

本发明专利技术公开一种ＭＲＩ系统的生产线，该生产线包括第一ＭＲＩ系统（１０），该系统包括第一轭（１２）和形成设置在上述第一轭上的第一中心组件（３０）的多个磁铁单元（１８）。该生产线还包括第二ＭＲＩ系统（１０），该系统具有第二轭（１２），形成设置在上述第二轭上并构成和上述第一中心组件相同形状的第二中心组件（３０）的多个磁铁单元（１８），以及在上述第二中心组件的周边安装到上述第二轭上的第一磁铁单元组（３２，３４，３６，３８，４０）。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种磁共振成像(MRI)，特别涉及用于组装MRI磁场发生器所用的磁化永磁铁单元的方法和装置。
技术介绍
高均匀磁场对于使用磁共振成像(MRI)和核磁共振(NMR)系统作为医疗器械或化学/生物的装置是非常有用。目前，至少某些可获得的流行且低维护成本的MRI系统利用永磁系统，该永磁系统在预定空间(成像体积)中生成中等范围的均匀场(0.2-0.5特斯拉)。永磁系统通常使用多个永磁铁单元，例如NdFeB，以形成单磁性物体并在上述成像容积内获得希望的高均匀磁场。对于使用永磁铁的MRI系统的磁场发生器来说，用在该装置上的磁铁通常可以由多个磁化单元形成。但是，将非磁化材料单元首先放置在轭板上然后磁化每一单元是困难的。所以，在实际制造中，先构造上述单元然后再对其进行磁化。上述磁化单元接着被设置在轭板上，从而使得每一磁铁单元具有朝上的相同磁极。然后极片被放置在磁化单元的顶部。众所周知，当诸如人体组织的物质受均匀磁场作用时(偏振场B0)，上述组织中的各个旋转磁矩试图和该极化场对齐设置，但是以它们的特征拉莫尔频率随机地绕该极化场旋转进动。如果上述物质或组织受处于x-y平面的磁场影响(激励本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种ＭＲＩ系统的生产线，该生产线包括：第一ＭＲＩ系统（１０），该系统包括：第一轭（１２）；和多个磁铁单元（１８），其形成设置在上述第一轭上的第一中心组件（３０）；第二ＭＲＩ系统（１０），该系统包括：第 二轭（１２）；多个磁铁单元（１８），其形成设置在上述第二轭上的第二中心组件（３０），该中心组件形成为和上述第一中心组件相同的形状；第一磁铁单元组（３２，３４，３６，３８，４０），其在上述第二中心组件的周边安装到上述第二轭上。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：黄金华，徐步新，沈伟俊，罗纳德F洛克纳，
申请(专利权)人：GE医药系统环球科技公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]