喷嘴管理装置、喷嘴管理方法及涂布装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种防止喷嘴前端的干燥,同时防止向基板涂布时发生涂布不均的喷嘴管理装置(30)，该喷嘴管理装置(30)具备：气体生成部(31)，生成含有从喷嘴(20)排出的涂布液(Q1)中的溶剂(Q2)的规定气体(G)；气体供给部(32)，将在气体生成部(31)生成的规定气体(G)供给至喷嘴(20)的周边区域(25)。

【技术实现步骤摘要】
喷嘴管理装置、喷嘴管理方法及涂布装置
本专利技术涉及喷嘴管理装置、喷嘴管理方法及涂布装置。
技术介绍
为了在半导体或玻璃等基板形成薄膜，使用将规定的液体从狭缝喷嘴等喷嘴排出至基板上的涂布装置。作为应用于该涂布装置的构成，已知有如下构成：在未进行向基板的涂布期间，为了清洗狭缝喷嘴的前端或防止其干燥，将喷嘴的前端浸渍于规定的液体或者将规定的液体喷射至喷嘴前端(例如，参考专利文献1)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2012－043949号公报
技术实现思路
专利技术要解决的技术问题然而，若将喷嘴前端浸渍于液体，则由于毛细管现象液体从喷嘴前端浸入狭缝喷嘴的内部，在向基板涂布时有时会发生涂布不均。另外，即使在将液体喷射至喷嘴前端的情况下，有时附着在喷嘴前端的液滴也会浸入狭缝喷嘴的内部，发生同样的问题。鉴于这种情况，本专利技术的目的在于提供能够防止喷嘴前端的干燥，同时防止向基板涂布时发生涂布不均的喷嘴管理装置、喷嘴管理方法及涂布装置。用于解决上述技术问题的方案本专利技术的第1方案的喷嘴管理装置具备：气体生成部，生成含有从喷嘴排出的液体中的溶剂的规定气体；气体供给部，将在气体生成部生成的规定气体供给至喷嘴的周边区域。本专利技术的第2方案的喷嘴管理方法包括：生成含有从喷嘴排出的液体中的溶剂的规定气体；将生成的规定气体供给至喷嘴的周边区域。本方明的第3方案的涂布装置具备：喷嘴，将涂布液涂布于基板；第1方案的喷嘴管理装置。>专利技术效果根据本专利技术的方案，能够防止喷嘴前端的干燥，同时防止向基板涂布时发生涂布不均。附图说明图1是示意性示出第1实施方式的涂布装置的一例的侧视图。图2是示意性示出第1实施方式的涂布装置的一例的俯视图。图3是示出喷嘴的一例的图。图4是示出喷嘴管理装置的一例的图。图5是示出将规定气体供给至喷嘴的前端的供给动作的一例的图。图6是示出第1实施方式的涂布装置的控制方法的一例的流程图。图7是示出第1实施方式的涂布装置的动作的一例的图。图8是示出第1实施方式的涂布装置的动作的一例的图。图9是示出第1实施方式的涂布装置的动作的一例的图。图10是示出第2实施方式的喷嘴管理装置的一例的图。图11是示意性示出第3实施方式的涂布装置的一例的侧视图。图12是示意性示出第4实施方式的涂布装置的一例的侧视图。图13是示意性示出第5实施方式的涂布装置的一例的侧视图。图14是示意性示出第6实施方式的涂布装置的一例的俯视图。具体实施方式以下，参照附图说明本专利技术的实施方式。以下，为了易于理解各构成，在附图中强调一部分或简化一部分来表示，有时实际的结构或形状、比例尺等会有所不同。在附图中，使用XYZ坐标系说明图中的方向。将水平面中的一方向标记为X方向。X方向为后述的台10与喷嘴20之间的相对移动方向。将在水平面中与X方向正交的方向标记为Y方向。将垂直于包括X方向及Y方向的水平面的方向标记为Z方向。此外，X方向、Y方向及Z方向各自的图中的箭头所指的方向为+方向，与箭头所指的方向相反的方向为－方向。[第1实施方式]图1是示意性示出第1实施方式的涂布装置100的一例的侧视图。图2是示意性示出涂布装置100的一例的俯视图。在图1及图2示出的涂布装置100用来涂布用于在基板S的表面形成薄膜的涂布液(液体)。作为在基板S的表面形成薄膜的例子，例如能够例举在扇出型PLP(Fan-outPanelLevelPackage：扇出型面板级封装)技术中，将用于形成由于光的吸收或加热而变质的反应层(分离层)的涂布液涂布在作为基板S的玻璃基板的情况。另外，涂布液也可以是用于形成上述分离层的液体以外的液体，典型而言，也可以是用于形成用于在基板S的表面载置器件等的粘接层的液体，也可以是涂布于基板S的具有感光性的药液(抗蚀剂)等。如图1及图2所示，涂布装置100具备台10、喷嘴20、喷嘴管理装置30、移动装置40及控制部50。例如，台10为在俯视状态下呈矩形的台，在上表面具有载置基板S的载置面11。台10例如设置在建筑物的地板上。载置面11被设定为可支承基板S的尺寸。此外，台10也可以具备对所载置的基板S吸附并保持的吸附机构。在台10的载置面11例如载置有由未图示的基板输送装置从外部输送来的基板S。另外，例如涂布有涂布液Q1等的基板S同样由未图示的基板输送装置从台10的载置面11搬出。此外，涂布装置100也可以具备在台10与未图示的基板保管部之间进行基板S的交接的交接装置，操作者也可以手动操作对台10进行基板S的交接。在台10的上方根据后述的喷嘴20设定有涂布位置P2。涂布位置P2为相对于基板S进行涂布液(液体)Q1的涂布的位置。在本实施方式中，涂布位置P2为喷嘴20开始进行涂布液Q1的涂布的涂布开始位置。涂布位置P2相对于台10的载置面11设定在+X侧且+Z侧的区域。此外，涂布位置P2根据载置在台10的载置面11的基板S的大小或位置而设定。喷嘴20将用于在基板S的表面上形成规定的薄膜的涂布液Q1朝向基板S(朝向下方)排出。图3是示出喷嘴20的一例的图。图3(A)是侧视图，图3(B)是示出图3(A)中沿A－A截面的构成的图。如图3(A)所示，喷嘴20为在Y方向延伸的长条状。在喷嘴20的－Z方向的前端21设有沿Y方向的狭缝状的开口部21a。开口部21a朝向－Z方向(下方)。喷嘴20从开口部21a朝－Z方向排出涂布液Q1等。开口部21a的Y方向的尺寸例如小于被载置面11支承的状态的基板S的Y方向的尺寸，使得涂布液Q1不会被涂布在基板S的周边区域。或者，在开口部21a的Y方向的尺寸大于基板S的Y方向的尺寸的情况下，也可以用规定的闭塞部件等塞住开口部21a中与基板S的外侧对置的部分来进行调整，使其与基板S的Y方向的尺寸相匹配。喷嘴20通过后述的移动装置40可在X方向及Z方向移动。该喷嘴20通过位置检测部22检测其相对于台10的位置(涂布装置100中的位置)。位置检测部22检测喷嘴20的位置，将检测结果发送至控制部50。位置检测部22至少可以检测喷嘴20是否配置在待机位置P1。待机位置P1例如是喷嘴20在没有将涂布液Q1涂布于基板S时退避的位置。另外，待机位置P1为相对于喷嘴20进行维护的位置。作为这样的位置检测部22，例如能够例举在待机位置P1使用光传感器等非接触式的传感器或接触式的传感器等各种传感器的构成等。此外，位置检测部22的构成不限定于使用传感器的构成。例如，位置检测部22也可以是基于后述的移动装置40所产生的喷嘴20的移动量来检测喷嘴20的位置的构成。如图3(B)所示，在喷嘴20的内部设有使涂布液Q1流通至开口部21a的流通部21b、和将涂布液Q1保持在流通路21b的上游侧的涂布液保持部21c。在涂布液保持部21c连接有未图示的涂布液供给装置。该涂布液供给装置具备贮存涂布液的罐和本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种喷嘴管理装置，其特征在于，具备：/n气体生成部，生成含有从喷嘴排出的液体中的溶剂的规定气体；/n气体供给部，将在所述气体生成部生成的所述规定气体供给至所述喷嘴的周边区域。/n

【技术特征摘要】
20190516 JP 2019-0929341.一种喷嘴管理装置，其特征在于，具备：
气体生成部，生成含有从喷嘴排出的液体中的溶剂的规定气体；
气体供给部，将在所述气体生成部生成的所述规定气体供给至所述喷嘴的周边区域。


2.如权利要求1所述的喷嘴管理装置，其特征在于，
所述规定气体为所述溶剂的饱和气体。


3.如权利要求1或2所述的喷嘴管理装置，其特征在于，
所述规定气体为所述液体中的多种所述溶剂混合的混合气体。


4.如权利要求1～3的任一项所述的喷嘴管理装置，其特征在于，
所述规定气体含有所述溶剂的雾。


5.如权利要求1～4的任一项所述的喷嘴管理装置，其特征在于，
所述气体生成部具有加热部，加热所述溶剂而使其汽化。


6.如权利要求5所述的喷嘴管理装置，其特征在于，
所述加热部具有：雾生成部，形成所述溶剂的雾；惰性气体供给部，为使所述雾汽化而供给升温的惰性气体。


7.如权利要求6所述的喷嘴管理装置，其特征在于，
所述气体生成部具有冷却部，冷却含有在所述加热部汽化的所述溶剂的所述惰性气体，使所述溶剂的一部分凝结。


8.如权利要求1～7的任一项所述的喷...

【专利技术属性】
技术研发人员：近藤士朗，
申请(专利权)人：东京应化工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP