一种适于藤蔓作物生长的温室大棚制造技术

技术编号:26350000 阅读:37 留言:0更新日期:2020-11-19 23:18
本实用新型专利技术公开了一种适于藤蔓作物生长的温室大棚,其特征在于,所述温室大棚为密闭的立方体,且立方体的外壁设置若干通风孔;所述立方体内部的顶部向下垂设有若干立杆,用于引导藤蔓植物向上生长;所述立方体内部的顶部还设置有第二生长区,用于使藤蔓植物垂直向下生长攀爬至若干所述立杆。本实用新型专利技术具有,节省种植空间,提高种植藤蔓作物效率的技术效果,可广泛应用于温室大棚制造领域。

【技术实现步骤摘要】
一种适于藤蔓作物生长的温室大棚
本技术涉及温室大棚制造领域,具体为一种适于藤蔓作物生长的温室大棚。
技术介绍
藤蔓作物的种植往往在传统的种植模式中,采用与其他非藤蔓作物一起混种,且采用人工插接立杆的方式引导藤蔓,或者专门设置立架以供藤蔓攀爬,该传统种植藤蔓作物的方式耗费种植时间,且后期翻新的工作量大。
技术实现思路
本技术的专利技术目的在于提供一种适于藤蔓作物生长的温室大棚。本技术解决上述技术问题所采取的技术方案如下:一种适于藤蔓作物生长的温室大棚,所述温室大棚为密闭的立方体,且立方体的外壁设置若干通风孔;所述立方体内部的顶部向下垂设有若干立杆,用于引导藤蔓植物向上生长;所述立方体内部的顶部还设置有第二生长区,用于使藤蔓植物垂直向下生长攀爬至若干所述立杆。优选地,所述第二生长区包括,在所述立方体内部的顶部按照矩形阵列设置若干单独的栽种盒,每个栽种盒间隔设置,且相邻两栽种盒之间通过连杆连接固定,所述藤蔓作物的藤蔓自所述栽种盒之间的空隙伸出下垂至立杆上。优选地,所述立杆自上而下伸出的末本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种适于藤蔓作物生长的温室大棚,其特征在于,所述温室大棚为密闭的立方体,且立方体的外壁设置若干通风孔;/n所述立方体内部的顶部向下垂设有若干立杆,用于引导藤蔓植物向上生长;/n所述立方体内部的顶部还设置有第二生长区,用于使藤蔓植物垂直向下生长攀爬至若干所述立杆。/n

【技术特征摘要】
1.一种适于藤蔓作物生长的温室大棚,其特征在于,所述温室大棚为密闭的立方体,且立方体的外壁设置若干通风孔;
所述立方体内部的顶部向下垂设有若干立杆,用于引导藤蔓植物向上生长;
所述立方体内部的顶部还设置有第二生长区,用于使藤蔓植物垂直向下生长攀爬至若干所述立杆。


2.根据权利要求1所述的适于藤蔓作物生长的温室大棚,其特征在于,所述第二生长区包括,在所述立方体内部的顶部按照矩形阵列设置若干单独的栽种盒,每个栽种盒间隔设置,且相邻两栽种盒之间通过连杆连接...

【专利技术属性】
技术研发人员:颜俊刘靖
申请(专利权)人:武汉交通职业学院
类型:新型
国别省市:湖北;42

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