电子器件用阻挡膜制造技术

本发明专利技术的目的是提供显示优异且持久的阻水性的电子器件用阻挡膜。本发明专利技术的特征在于，将水分透过率(23℃，RH50％)设定为10

Barrier films for electronic devices

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】电子器件用阻挡膜
本专利技术涉及用作用于密封例如有机电致发光(EL)器件、和太阳能电池等电子器件的构件的阻挡膜。
技术介绍
为了避免由水引起的电荷泄漏，对于近年来已开发并投入实际使用的各种电子器件(例如有机电致发光(有机EL)器件、太阳能电池、触摸面板和电子纸)，要求高度的阻水性。作为改善各种塑料基材的性质、特别是阻气性的手段，已知有通过在塑料基材的表面上的气相沉积来形成氧化硅的无机薄膜(无机阻挡层)的技术(专利文献1)。设置有此类无机薄膜的膜已被广泛用作阻挡膜。然而，该阻挡膜不足以满足上述电子器件要求的阻水性。此外，残留在用作塑料基材的树脂中的水导致器件显著劣化。此外，为了满足这些要求，提出了一种阻水性层叠体，其具有在其上层叠有使用吸湿性离子性聚合物作为基质的水分捕捉层的结构(专利文献2)。通过在借助气相沉积等方法在塑料膜的表面上形成的无机阻挡层上涂布用于形成含离子性聚合物的捕捉层的涂料组合物、随后固化，来形成水分捕捉层。在形成捕捉层后，该水分捕捉层显示改善的阻水性。然而，即使通过使用能够显示改善的阻水性的阻挡本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种电子器件用阻挡膜，其特征在于，其具有设定为10

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180330 JP 2018-0692571.一种电子器件用阻挡膜，其特征在于，其具有设定为10-4g/m2/天以下的水分透过率(23℃，RH50％)、和维持为2000ppm以下的含水率。


2.根据权利要求1所述的电子器件用阻挡膜，其中将所述含水率维持在100ppm以下。


3.根据权利要求1所述的电子器件用阻挡膜，其中所述阻挡膜具有至少一层无机阻挡层。


4.根据权利要求3所述的电子器件用阻挡膜，其中所述阻挡膜具有位于所述无机阻挡层下方的塑料基材层。


5.根据权利要求4所述的电子器件用阻挡膜，其中通过使用聚酯树脂、聚酰亚胺树脂或环状烯烃系树脂来形成所述塑料基材层。


6.根据权利要求1所述的电子器件用阻挡膜，其中所述阻挡膜设置有水分捕捉层。

【专利技术属性】
技术研发人员：杉浦千步，小赋雄介，林贤治，川久保祐孝，
申请(专利权)人：东洋制罐集团控股株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP