【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】地毯和其制造方法
本专利技术涉及地毯和其制造方法。
技术介绍
作为地毯,例如要求配置在光源上,在未从光源输出光时用作通常的地毯,另一方面,在紧急时等从光源发射光而用于诱导路径、灯饰等的地毯。专利文献1、2中,公开了上述那样的具有透光性的地毯。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特表2011-505181公报专利文献2:日本特表2012-517263公报。
技术实现思路
专利技术要解决的课题专利文献1、2中记载的地毯在地毯的制造时具有透光性。然而,在使用地毯时,在地毯上人通过、或者脚轮等移动,因此发生倒绒等。如果发生这样的倒绒等,则有包括透光性在内的品质降低的问题。因此,本专利技术的一个方面的目的在于,提供在具有透光性的同时、能够维持包括透光性在内的品质的地毯。用于解决课题的手段本专利技术的第一方面所涉及的地毯具有在1次基布的表面将多个绒头纱栽绒而得到的绒头层、和在上述1次基布的背面侧配置的背衬层,上述地毯的总光线透过率为0.5%以上(以下也称为“条件1”),从上述1次基布的表面侧观察地毯的情况下的明度为30以上(以下也称为“条件2”),上述地毯的伴随摩擦的动态载重所导致的厚度减少率为25%以下(以下称为“条件3”)。上述构成的地毯满足上述条件1和条件,因此具有透光性,满足条件3,因此即使使用地毯,也能够维持包括透光性在内的品质。本专利技术的第一方面所涉及的地毯的一个实施方式中,上述绒头层中的上述绒头纱的栽植密度 ...
【技术保护点】
1.地毯,其具有在1次基布的表面将多个绒头纱栽绒而得到的绒头层、和在前述1次基布的背面侧配置的背衬层,/n前述地毯的总光线透过率为0.5%以上,/n从前述1次基布的表面侧观察前述地毯的情况下的明度为30以上,/n前述地毯的伴随摩擦的动态载重所导致的厚度减少率为25%以下。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180330 JP 2018-0682231.地毯,其具有在1次基布的表面将多个绒头纱栽绒而得到的绒头层、和在前述1次基布的背面侧配置的背衬层,
前述地毯的总光线透过率为0.5%以上,
从前述1次基布的表面侧观察前述地毯的情况下的明度为30以上,
前述地毯的伴随摩擦的动态载重所导致的厚度减少率为25%以下。
2.根据权利要求1所述的地毯,其中,前述绒头层中的前述绒头纱的栽植密度为80~180根/6.45cm2。
3.根据权利要求1或2所述的地毯,其中,
前述1次基布的总光线透过率为60%以上,
前述背衬层的总光线透过率为50%以上。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的地毯,其中,前述绒头层的绒头高度为4~10mm。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的地毯,其中,
前述绒头纱包含聚酰胺系纤维,
前述1次基布为聚酯系长纤维无纺布,
前述背衬层包含氯乙烯树脂和增强材料。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的地毯,其中,前述背衬层的厚度为1~4mm。
7.根据权利要求1~6中任一项所述的地毯,其中,前述背衬层与前述1次基布的前述背面相接。
8.根据权利要求1~7中任一项所述的地毯,其中,前述绒头纱所具有的单纤维的异型度为1.1~8。
9.根据权利要求1~8中任一项所述的地毯,其中,
前述地毯包含2个以上的区域,
前述2个以上的区域各自具有与前述2个以上的区域之中的另外的1个以上的区域不同的总光线透过率。
10.根据权利要求9所述的地毯,其中,从前述1次基布的表面侧观察前述2个以上的各区域的情况下的明度与从前述1次基布的表面侧观察前述2个以上的区域之中的另外的1个以上的区域的情况下的明度不同。
11.地毯,其具有在1次基布的表面将多个绒头纱栽绒而得到的绒头层、和在前述1次基布的背面侧配置的背衬层,
前述地毯包含第1部分和第2部分,
前述第1部分的总光线透过率为0.5%以上,
从前述1次基布的表面侧观察前述第1部分的情况下的明度为30以上,
前述第1部分的伴随摩擦的动态载重所导致的厚度减少率为25%以下,
前述第2部分的总光线透过率低于0.5%。
12.根据权利要求11所述的地毯,其中,前述地毯的前述第1部分中,前述绒头层中的前述绒头纱的栽植密度为80~180根/6.45cm2。
13.根据权利要求11或12所述的地毯,其中,前述地毯的前述第1部分中,
前述1次基布的总光线透过率为60%以上,
前述背衬层的总光线透过率为50%以上。
14.根据权利要求11~13中任一项所述的地毯,其中,前述地毯的前述第1部分中,
前述绒头层的绒头高度为4~10mm。
15.根据权利要求11~14中任一项所述的地毯,其中,前述地毯的前述第...
【专利技术属性】
技术研发人员:松村一也,武田昌信,梶山宏史,长谷和治,
申请(专利权)人:东丽株式会社,
类型:发明
国别省市:日本;JP
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