一种交变电场耦合高频振动辅助基质喷涂方法技术

本发明专利技术公开了一种交变电场耦合高频振动辅助基质喷涂方法。所述基质喷涂方法包括如下步骤：将生物组织制备成组织切片，并置于导电玻片的导电面；在高频振动喷雾器中加入基质溶液；涂覆组织切片的导电玻片贴附于交变电场装置的下电极板上；采用交流电源向两个电极板施加交流电压，即在两个电极板之间形成交变电场，电场交替变化过程中同时进行基质喷涂；采用激光直接照射扫描切片，经质量分析器分析后被质谱检测器检测并记录，然后重构呈现待测分子在组织表面的空间分布图像。采用本发明专利技术方法，可最大限度地避免组织表面待测分子空间信息的改变或丢失，提供内源性分子丰度及原位空间分布信息，而且有助于深刻理解并揭示内源性分子的功能及动态变化。

An alternating electric field coupling high frequency vibration assisted matrix spraying method

【技术实现步骤摘要】
一种交变电场耦合高频振动辅助基质喷涂方法
本专利技术涉及一种交变电场耦合高频振动辅助基质喷涂方法，属于生物

技术介绍
基质辅助激光解吸/电离质谱成像(Matrixassistedlaserdesorption/ionizationmassspectrometry,MALDI-MSI)是目前发展较为成熟的成像技术，该技术无需复杂样本前处理，通过基质辅助实现待测分子离子化，离子化过程中产生较少的离子碎片，可实现对较宽质量范围内多种化合物分子的快速分析。目前MALDI-MSI普遍适用于生物组织表面蛋白质、多肽、脂类、能量代谢产物等多种生物分子原位成像表征。尽管在过去的20年里MALDI-MSI技术取得了巨大的进步，但因单个细胞或组织中存在成千上万的生物分子，因此目前得以原位检测和成像的内源性分子仍然非常有限。对于MALDI-MSI技术，基质选择、晶体参数和合适的沉积方法是提升MALDI-MSI图谱质量的关键因素，并与实现高灵敏度、重现性和改进可视化密切相关。因此基于MALDI-MSI的技术研究主要集中于样品制备体系的建立以及优化方面。近年来本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种交变电场耦合高频振动辅助基质喷涂方法，包括如下步骤：/n(1)将生物组织制备成组织切片，并置于导电玻片的导电面；/n(2)在高频振动喷雾器中加入基质溶液；涂覆所述组织切片的所述导电玻片贴附于交变电场装置的下电极板上，所述导电玻片的非导电面与所述下电极板贴合；/n(3)采用交流电源向所述交变电场装置的两个电极板施加交流电压，即在两个所述电极板之间形成交变电场，电场交替变化过程中同时进行基质喷涂；/n(4)采用激光直接照射扫描切片，经质量分析器分析后被质谱检测器检测并记录，然后重构呈现待测分子在组织表面的空间分布图像。/n

【技术特征摘要】
1.一种交变电场耦合高频振动辅助基质喷涂方法，包括如下步骤：
(1)将生物组织制备成组织切片，并置于导电玻片的导电面；
(2)在高频振动喷雾器中加入基质溶液；涂覆所述组织切片的所述导电玻片贴附于交变电场装置的下电极板上，所述导电玻片的非导电面与所述下电极板贴合；
(3)采用交流电源向所述交变电场装置的两个电极板施加交流电压，即在两个所述电极板之间形成交变电场，电场交替变化过程中同时进行基质喷涂；
(4)采用激光直接照射扫描切片，经质量分析器分析后被质谱检测器检测并记录，然后重构呈现待测分子在组织表面的空间分布图像。


2.根据权利要求1所述的基质喷涂方法，其特征在于：步骤(1)中，所述组织切片的厚度为8～20μm；
所述导电玻片为ITO导电玻片。


3.根据权利要求1或2所述的基质喷涂方法，其特征在于：步骤(2)中，所述基质溶液的浓度可为10～25mg/ml。


4.根据权利要求1-3中任一项所述的基质喷涂方法，其特征在于：步骤(3)中，...

【专利技术属性】
技术研发人员：王晓东，李金铭，秦亮，陈路路，
申请(专利权)人：中央民族大学，
类型：发明
国别省市：北京;11