静密封结构以及具有该静密封结构的压力容器制造技术

本发明专利技术提供静密封结构以及具有该静密封结构的压力容器，压力容器包括容器壳体、由容器壳体内部的空腔形成的容器腔以及开口于容器壳体顶部并与容器腔贯通的凹槽结构，凹槽结构在水平方向的直径大于容器腔在水平方向的直径，在凹槽结构内装配静密封结构，静密封结构包括密封端头和密封组件，密封端头包括头部和与头部连接的密封轴杆，密封组件包括彼此上下接触地外套于密封轴杆部的密封圈和密封挡圈，从而实现了功能分区，功能区的工件如果出现问题，都可以使用新工件进行替换，而无需将整个压力容器报废，降低了使用成本。

Static sealing structure and pressure vessel with static sealing structure

【技术实现步骤摘要】
静密封结构以及具有该静密封结构的压力容器
本专利技术涉及一种静密封结构以及具有该静密封结构的压力容器，特别涉及一种超高压静密封结构，以及具有该结构的超高压压力容器。
技术介绍
工业上使用压力为100MPa以上的容器被称为超高压容器，目前其在石油化工、粉末冶金、金属成型、科研等领域使用广泛。按照现行的我国压力容器的制造标准(GB150.1-150.4-2011)，其制造主要是通过焊接的方式来实现，这样制造出来的压力容器可能存在焊缝缺陷、脆断、应力集中的问题，安全性不高，使用压力最高为35MPa。另外还有一种使用整体滚压成型的工艺来制造压力容器，这种工艺无需焊接，使用压力最高为50MPa。压力容器端部为管螺纹或NPT螺纹，这类螺纹既要连接压力管，又要实现高压密封。如果出现使用不当，出现了螺纹损伤，整个压力容器只能报废，无法进行修复。现在国内的压力容器，结构粗犷，最大使用压力不高，整体安全性不高。随着我国超高压技术的发展，现有的产品难以满足未来发展的需求，所以亟待开发、设计更为合理的压力容器。专利技术内容受到现本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于压力容器的静密封结构，所述压力容器包括容器壳体、由容器壳体内部的空腔形成的容器腔以及开口于容器壳体顶部并与容器腔贯通的凹槽结构，凹槽结构在水平方向的直径大于容器腔在水平方向的直径，在凹槽结构内装配所述静密封结构，其中，/n所述静密封结构包括密封端头和密封组件，所述密封端头包括头部和与头部连接的密封轴杆，所述密封组件包括彼此上下接触地外套于密封轴杆部的密封圈和密封挡圈，/n其中，在装配状态下，密封挡圈的上端面与密封端头的头部的下端面贴合，密封圈的下端面与凹槽结构的下端面贴合，密封圈的断面直径大于装配有密封挡圈处的凹槽结构的半径和密封轴杆半径之差，密封挡圈内外半径之差小于装配有密封挡圈...

【技术特征摘要】
1.一种用于压力容器的静密封结构，所述压力容器包括容器壳体、由容器壳体内部的空腔形成的容器腔以及开口于容器壳体顶部并与容器腔贯通的凹槽结构，凹槽结构在水平方向的直径大于容器腔在水平方向的直径，在凹槽结构内装配所述静密封结构，其中，
所述静密封结构包括密封端头和密封组件，所述密封端头包括头部和与头部连接的密封轴杆，所述密封组件包括彼此上下接触地外套于密封轴杆部的密封圈和密封挡圈，
其中，在装配状态下，密封挡圈的上端面与密封端头的头部的下端面贴合，密封圈的下端面与凹槽结构的下端面贴合，密封圈的断面直径大于装配有密封挡圈处的凹槽结构的半径和密封轴杆半径之差，密封挡圈内外半径之差小于装配有密封挡圈处的凹槽结构半径和密封轴杆半径之差。


2.根据权利要求1所述的静密封结构，其中，所述密封组件还包括装配于密封挡圈与密封圈之间的线密封圈。


3.根据权利要求2所述的静密封结构，其中，所述线密封圈由铍青铜制成。


4.根据权利要求1所述的静密封结构，其中，所述凹槽结构包括内径不同的且形成为一体的固紧槽和密封槽，固紧槽位于密封槽的上方。


5.根据权利要求2至4任一项所述的静密封结构，其中，所述线密封圈包括内圈与外圈，分别套设于密封轴杆的外径侧和密封槽内。


6.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：姚文明，
申请(专利权)人：中国地震局地质研究所，
类型：发明
国别省市：北京;11