一种铝电解电容器用腐蚀箔的腐蚀方法技术

本发明专利技术提供一种腐蚀箔用扩孔腐蚀液添加剂以及使用包含该添加剂的扩孔腐蚀液制备铝电解电容器用腐蚀箔的方法。所述添加剂为聚乙烯吡咯烷酮。本发明专利技术通过在扩孔腐蚀液中引入聚乙烯吡咯烷酮，一方面，聚乙烯吡咯烷酮有很好的水溶性和低毒性，可以稳定存在于扩孔电解液中，起到缓蚀作用，保证腐蚀箔性能稳定；另一方面，聚乙烯吡咯烷酮对银离子具有特异性吸附的作用，当实际生产过程中扩孔腐蚀液中引入银离子时，可以抑制银离子沉积在铝箔表面，快速消除扩孔腐蚀液中银离子的影响。

【技术实现步骤摘要】
一种铝电解电容器用腐蚀箔的腐蚀方法
本专利技术属于电容器用电极材料
，具体涉及一种扩孔腐蚀液用腐蚀箔的腐蚀方法。
技术介绍
铝电解电容器是一种重要的电子元器件，广泛用于滤波、旁路、耦合等
腐蚀箔是构成铝电解电容器的核心原材料，其生产过程主要包括前处理-发孔-扩孔-后处理-烘干工序。前处理主要是去除铝箔表面的油膜和氧化膜，改善铝箔表面发孔状态。在发孔过程中，通常需要在含氯的酸性腐蚀液中施加直流电腐蚀，产生大量初始隧道孔洞。为了保证铝箔孔洞尺寸足够大，以避免在后续化成工序中被阳极氧化膜堵塞，需要进行扩孔处理。扩孔工程通常采用加有缓蚀剂的硝酸腐蚀液中进行电化学腐蚀，如文献“Effectsofpolymercorrosioninhibitoronwideningetchtunnelsofaluminumfoilforcapacitor”(CorrosionScience.2014,78,7-12)详细考察了PSSA对高压箔扩孔过程的影响，发现PSSA对孔洞形貌有很大影响。后处理主要是清除扩孔箔内部存留的氯离子。烘干工序为对铝箔表面进行热处本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种腐蚀箔用扩孔腐蚀液添加剂，其特征在于，所述添加剂为聚乙烯吡咯烷酮。/n

【技术特征摘要】
1.一种腐蚀箔用扩孔腐蚀液添加剂，其特征在于，所述添加剂为聚乙烯吡咯烷酮。


2.根据权利要求1所述的腐蚀箔用扩孔腐蚀液添加剂，其特征在于，所述聚乙烯吡咯烷酮的分子量为3000-80000。


3.根据权利要求1所述的腐蚀箔用扩孔腐蚀液添加剂，其特征在于，所述聚乙烯吡咯烷酮在扩孔腐蚀液中的质量浓度为0.05-1.5g/L。


4.一种铝电解电容器用腐蚀箔的腐蚀方法，包括前处理、发孔腐蚀、扩孔腐蚀和后处理，其特征在于，所述扩孔腐蚀用腐蚀液中含有聚乙烯吡咯烷酮，优选地，所述聚乙烯吡咯烷酮在扩孔腐蚀液中的质量浓度为0.05-1.5g/L。


5.根据权利要求4所述的铝电解电容器用腐蚀箔的腐蚀方法，其特征在于，所述聚乙烯吡咯烷酮的分子量为3000-80000。


6.根据权利要求4或5所述的铝电解电容器用腐蚀箔的腐蚀方法，其特征在于，所述扩孔腐蚀用腐蚀液为含有硝酸、铝离子、磷酸和聚乙烯吡咯烷酮的混合水溶液；优选地，硝酸的质量分数为1.8-6.5％，铝离子的质量分数为0.27-0.8％，磷酸的质量分数为0.2-2.0％；更优选地，扩孔腐蚀的温度为70-75℃，电流密度为0.1-0.3A/cm2，加电时间为6-10min。


7.根据权利要求4所...

【专利技术属性】
技术研发人员：肖远龙，向云刚，祁菁聃，吕根品，何凤荣，
申请(专利权)人：东莞东阳光科研发有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44