一种高遮盖遮瑕液及其制备工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种高遮盖遮瑕液，在产品中加入聚二甲基硅氧烷/乙烯基聚二甲基硅氧烷交联聚合物、乙烯基聚二甲基硅氧烷/聚甲基硅氧烷硅倍半氧烷交联聚合物，使产品保持高遮盖的同时又能服帖；为了配合产品使用感，配方中特意添加大量润肤剂如：异壬酸异壬酯、十三烷醇偏苯三酸酯、辛基聚甲基硅氧烷、聚二甲基硅氧烷交联聚合物等，从而整体上使用感得到进一步提升；产品的色粉经过特殊工艺处理，使得产品能保持高遮盖的同时又能服帖、不干燥、不油腻、清爽自在。

【技术实现步骤摘要】
一种高遮盖遮瑕液及其制备工艺
本专利技术涉及一种高遮盖遮瑕液及其制备工艺，属于化妆品

技术介绍
目前市面上大多数高遮盖的遮瑕液，会出现肤感偏厚重、不服帖、难推快、粉感太强、不透气、易闷妆等情况；本专利技术的产品为油包水体系产品，所得产品的贴服性更好、保持高遮盖的同时更加服帖，滑爽、不干燥。
技术实现思路
针对上述存在的技术问题，本专利技术的目的是：提出了一种高遮盖遮瑕液及其制备工艺。本专利技术的技术解决方案是这样实现的：一种高遮盖遮瑕液，包含以下原料组分：去离子水、环五聚二甲基硅氧烷5％-15％、异壬酸异壬酯3％-8％、异十二烷1％-7％、丁二醇1％-5％、聚二甲基硅氧烷1％-5％、十三烷醇偏苯三酸酯1％-5％、月桂基PEG-9聚二甲基硅氧乙基聚二甲基硅氧烷1％-5％、甘油1％-10％、PEG-10聚二甲基硅氧烷1％-5％、三甲基硅烷氧基硅酸酯0.5％-5％、辛基聚甲基硅氧烷1％-5％、硅石1％-5％、氯化钠0.5％-1％、聚二甲基硅氧烷/乙烯基聚二甲基硅氧烷交联聚合物1％-5％、季铵盐-18膨润土0.1％本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高遮盖遮瑕液，其特征在于，包含以下原料组分：去离子水、环五聚二甲基硅氧烷5％-15％、异壬酸异壬酯3％-8％、异十二烷1％-7％、丁二醇1％-5％、聚二甲基硅氧烷1％-5％、十三烷醇偏苯三酸酯1％-5％、月桂基PEG-9聚二甲基硅氧乙基聚二甲基硅氧烷1％-5％、甘油1％-10％、PEG-10聚二甲基硅氧烷1％-5％、三甲基硅烷氧基硅酸酯0.5％-5％、辛基聚甲基硅氧烷1％-5％、硅石1％-5％、氯化钠0.5％-1％、聚二甲基硅氧烷/乙烯基聚二甲基硅氧烷交联聚合物1％-5％、季铵盐-18膨润土0.1％-1％、云母0.5％-5％、滑石粉0.5％-5％、聚二甲基硅氧烷交联聚合物0.5％-5％...

【技术特征摘要】
1.一种高遮盖遮瑕液，其特征在于，包含以下原料组分：去离子水、环五聚二甲基硅氧烷5％-15％、异壬酸异壬酯3％-8％、异十二烷1％-7％、丁二醇1％-5％、聚二甲基硅氧烷1％-5％、十三烷醇偏苯三酸酯1％-5％、月桂基PEG-9聚二甲基硅氧乙基聚二甲基硅氧烷1％-5％、甘油1％-10％、PEG-10聚二甲基硅氧烷1％-5％、三甲基硅烷氧基硅酸酯0.5％-5％、辛基聚甲基硅氧烷1％-5％、硅石1％-5％、氯化钠0.5％-1％、聚二甲基硅氧烷/乙烯基聚二甲基硅氧烷交联聚合物1％-5％、季铵盐-18膨润土0.1％-1％、云母0.5％-5％、滑石粉0.5％-5％、聚二甲基硅氧烷交联聚合物0.5％-5％、苯氧乙醇0.3％-0.7％、蜂蜡0.3％-0.7％、乙烯基聚二甲基硅氧烷/聚甲基硅氧烷硅倍半氧烷交联聚合物1％-5％、三乙氧基辛基硅烷0.1％-1％、氯苯甘醚0.01％-0.3％、生育酚乙酸酯0.1％-0.5％、乙基己基甘油0.01％-0.05％、EDTA二钠0.05％-0.1％、0.01％-0.05％的甘油聚醚-26、甜菜碱0.01％-0.05％、葡萄糖0.01％-0.05％、0.01％-0.05％的异鲸蜡醇聚醚-10、棉子糖0.01％-0.05％、木芙蓉花提取物0.02％-0.1％、沙棘提取物0.02％-0.1％、环四聚二甲基硅氧烷0.005％-0.01％、生育酚0.01％-0.02％、透明质酸钠0.02％-0.1％、CI77891、CI77491、CI77499、CI77492、CI77002。


2.一种高遮盖遮瑕液的制备工艺，其特征在于，包括以下步骤：
①先将去离子水与氯苯甘醚和EDTA二钠、氯化钠充分搅拌均匀，转速为600-800rp...

【专利技术属性】
技术研发人员：李继承，
申请(专利权)人：苏州安特化妆品股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32