【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基板支撑件、真空处理设备及基板处理系统
实施方式涉及用于真空处理的基板支撑件。本公开内容的实施方式特别地涉及用于处理基板的基板支撑件、真空处理设备及基板处理系统，所述基板支撑件具有支撑主体和附接至支撑主体的干粘着组件，所述真空处理设备包括真空腔室、在真空腔室内的基板支撑件及处理站。本公开内容的实施方式还涉及包括将基板固持于非垂直位置中的用于处理基板的方法。
技术介绍
已知在基板上进行层沉积的各种技术，例如热蒸发(thermalevaporation)、化学气相(chemicalvapor)、化学气相沉积(CVD)及物理气相沉积(PVD)(诸如溅射沉积)。溅射沉积工艺可用于在基板上沉积材料层(例如绝缘材料层)。这包含将材料从靶材射出到基板上。利用在等离子体区中产生的离子撞击待沉积于基板上的靶材材料，以将靶材材料的原子从靶材表面逐出(dislodge)。逐出的原子可在基板上形成材料层。在反应溅射沉积工艺中，逐出的原子可与等离子体区中的气体(例如是氮或氧)反应，以在基板上形成靶材材料的氧化物、氮化物或氮氧化物。涂布...
【技术保护点】
1.一种基板支撑件，用于支撑具有待处理的前表面和相对的后表面的基板，所述基板支撑件的特征在于包括：/n支撑主体；及/n干粘着组件，所述干粘着组件被附接至所述支撑主体，所述干粘着组件具有一或多个干粘着元件，其中所述一或多个干粘着元件于所述后表面在至少一中心区域和一外区域中支撑所述基板。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种基板支撑件，用于支撑具有待处理的前表面和相对的后表面的基板，所述基板支撑件的特征在于包括：
支撑主体；及
干粘着组件，所述干粘着组件被附接至所述支撑主体，所述干粘着组件具有一或多个干粘着元件，其中所述一或多个干粘着元件于所述后表面在至少一中心区域和一外区域中支撑所述基板。
2.如权利要求1所述的基板支撑件，其中所述基板支撑件被配置为将所述基板固持于非垂直位置，所述基板的所述后表面被附接至所述一或多个干粘着元件并且所述基板的所述前表面面向下。
3.如权利要求1所述的基板支撑件，其中所述干粘着组件被配置为在所述支撑主体上形成一或多个固持件。
4.如权利要求2所述的基板支撑件，其中所述干粘着组件被配置为在所述支撑主体上形成一或多个固持件。
5.如权利要求3所述的基板支撑件，其中所述一或多个固持件被可移动地布置于所述支撑主体上。
6.如权利要求4所述的基板支撑件，其中所述基板支撑件进一步包括被配置成能于径向向外方向或径向向内方向上移动的四个固持件。
7.如权利要求5所述的基板支撑件，其中所述基板支撑件进一步包括被配置成能于径向向外方向和径向向内方向上移动的四个固持件。
8.如权利要求1至7的任一项所述的基板支撑件，其中所述干粘着组件被配置为具有附接区，所述附接区对应于所述基板的所述后表面的至少75％。
9.如权利要求1至7的任一项所述的基板支撑件，其中所述一或多个干粘着元件包括在所述支撑主体的第一区之上的第一粘着结构以...
【专利技术属性】
技术研发人员：西蒙·刘，安科·赫尔密西，莱内尔·欣特舒斯特，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：新型
国别省市：美国;US
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。