基板支撑件、真空处理设备及基板处理系统技术方案

描述一种基板支撑件(100)，用于支撑具有待处理的前表面(102)和相对的后表面(115)的基板(101)。所述基板支撑件包括支撑主体和附接至支撑主体的干粘着组件(240)，所述干粘着组件具有一或多个干粘着元件(121)，其中所述一或多个干粘着元件于后表面在至少一中心区域和一外区域中支撑基板。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基板支撑件、真空处理设备及基板处理系统
实施方式涉及用于真空处理的基板支撑件。本公开内容的实施方式特别地涉及用于处理基板的基板支撑件、真空处理设备及基板处理系统，所述基板支撑件具有支撑主体和附接至支撑主体的干粘着组件，所述真空处理设备包括真空腔室、在真空腔室内的基板支撑件及处理站。本公开内容的实施方式还涉及包括将基板固持于非垂直位置中的用于处理基板的方法。
技术介绍
已知在基板上进行层沉积的各种技术，例如热蒸发(thermalevaporation)、化学气相(chemicalvapor)、化学气相沉积(CVD)及物理气相沉积(PVD)(诸如溅射沉积)。溅射沉积工艺可用于在基板上沉积材料层(例如绝缘材料层)。这包含将材料从靶材射出到基板上。利用在等离子体区中产生的离子撞击待沉积于基板上的靶材材料，以将靶材材料的原子从靶材表面逐出(dislodge)。逐出的原子可在基板上形成材料层。在反应溅射沉积工艺中，逐出的原子可与等离子体区中的气体(例如是氮或氧)反应，以在基板上形成靶材材料的氧化物、氮化物或氮氧化物。涂布的材料可用于数个应用及数个
中。例如，涂布的材料可用于微电子领域中，诸如用于制造半导体装置。而且，用于显示器的基板可使用物理气相沉积工艺进行涂布。另外的应用包括绝缘面板、有机发光二极管(OLED)面板、具有薄膜晶体管(TFT)、彩色滤光片或类似物的基板。在当前的发展中，例如在移动装置和电视屏幕或类似物的领域中，高分辨率显示器(highresolutiondisplay)是有益的。在目前具有高分辨率的移动装置以及大型4k/8k电视机(TV-set)等的发展中，例如在PVD处理期间，非常低水平的颗粒到达基板是有益的。由于成本和效率的原因，工业倾向于处理越来越大的基板。大型基板，特别是大型玻璃盘(largeglassdisk)在处理过程中难以操控。在处理操作之前，基板在运输或对准期间特别容易受到表面的损坏、破损或划伤。在基板处理期间，提供夹具以在基板的边缘上固持基板。玻璃固定件抓握玻璃边缘周围。使用夹具固持基板导致由于玻璃掩模对准(遮蔽效应)造成的颗粒问题和均匀性问题，增加的玻璃掩模间隙影响颗粒水平和层均匀性，并最终在夹具上导致侧面沉积。
技术实现思路
鉴于上述，提供一种用于基板处理的基板支撑件、一种真空处理设备、用于处理基板的方法、及一种基板处理系统。根据一个实施方式，提供一种基板支撑件，所述基板支撑件用于支撑具有待处理的前表面和相对的后表面的基板。基板支撑件包括支撑主体和附接至支撑主体的干粘着组件，所述干粘着组件具有一或多个干粘着元件，其中所述一或多个干粘着元件于所述后表面的至少一中心区域和一外区域中支撑基板。根据一个实施方式，所述基板支撑件被配置为将所述基板固持于非垂直位置，所述基板的后表面被附接至所述一或多个干粘着元件并且所述基板的前表面面向下。根据一个实施方式，所述干粘着组件被配置为在所述支撑主体上形成一或多个固持件。根据一个实施方式，所述一或多个固持件被可移动地布置于所述支撑主体上。根据一个实施方式，所述基板支撑件进一步包括被配置成能于径向向外方向或径向向内方向上移动的四个固持件。根据一个实施方式，所述基板支撑件进一步包括被配置成能于径向向外方向和径向向内方向上移动的四个固持件。根据一个实施方式，所述干粘着组件被配置为具有附接区，所述附接区对应于所述基板的所述后表面的至少75％。根据一个实施方式，所述一或多个干粘着元件包括在所述支撑主体的第一区之上的第一粘着结构以及在所述支撑主体的第二区之上的第二粘着结构。根据一个实施方式，所述一或多个干粘着元件包括壁虎粘着物(Geckoadhesive)。根据另一实施方式，提供一种真空处理设备。所述真空处理设备包括：基板支撑件，所述基板支撑件包括支撑主体和干粘着布置，所述干粘着布置位于支撑主体上且具有一或多个干粘着元件，一或多个干粘着元件被配置为于背表面的至少一中心区域和一外区域中支撑基板；以及处理站，至少部分地位于基板支撑件下方。根据一个实施方式，所述基板支撑件被配置为将处于非垂直位置中的所述基板移入和移出所述处理站。根据一个实施方式，掩模布置于所述基板前，所述掩模覆盖所述基板的边缘区。根据另一实施方式，提供一种基板处理系统。所述基板处理系统包括装载模块、真空传送腔室及真空处理设备。附图说明为了可详细了解上述特征，可通过参考实施方式获得以上简要概述的更特定描述。附图有关于实施方式且描述于下：图1绘示具有包括中心固持件和外固持件的干粘着组件的示例性基板支撑件的俯视示意图；图2绘示包括中心固持件和外固持件的基板支撑件的另一示例的俯视示意图；图3绘示包括中心固持件和具有闭环状设计(closed-ring-likedesign)的外固持件的基板支撑件的另一示例的俯视示意图；图4绘示包括四个可移动的固持件的基板支撑件的实施方式的另一示例的俯视示意图；图5绘示包括四个可移动的中心固持件和四个可移动的外固持件的基板支撑件的实施方式的另一示例的俯视示意图；图6绘示示例性基板支撑件的侧视截面示意图，在所述基板撑件的支撑主体的表面上包括干粘着组件；图7绘示真空处理设备的实施方式的截面示意图，其中基板的前表面在处理站上方被支撑于非垂直位置。图8绘示覆盖基板前表面的一部分的掩模的放大视图。图9绘示一流程图，其示出了根据本文描述的实施方式的用于处理基板的方法。图10绘示另一流程图，其示出了根据本文描述的实施方式的用于处理基板的另一方法。具体实施方式现将详细描述各种实施方式，实施方式的一个或多个示例绘示于图中。在以下对附图的描述中，相同的元件符号意指相同的元件。一般而言，仅针对个别实施方式的不同处作描述。各个示例被提供为解释的手段，并不意为限制。此外，所描绘或叙述为一个实施方式的一部分的特征可用于其它实施方式、或与其它实施方式一同使用，以产生又另一实施方式。本说明书中意欲包括此类的修改与变形。在以下对于附图的描述中，相同的元件符号意指相同或相似的元件。一般而言，仅针对个别实施方式的不同处作描述。除非另有说明，否则对一个实施方式中的一部分或方面的描述也适用于另一个实施方式中的对应部分或方面。根据本公开内容的实施方式，提供一种基板支撑件，所述基板支撑件用于支撑具有待处理的前表面和相对的后表面的基板。所述基板支撑件包括支撑主体和附接至支撑主体的干粘着组件，干粘着组件具有一或多个干粘着元件，其中一或多个干粘着元件于后表面的至少一中心区域和一外区域支撑基板。具有干粘着物，例如壁虎吸盘(geckochuck)，的基板支撑件使得能够以非垂直基板定向进行基板处理，特别是基板面向下，亦即将基板至少部分地设置在基板载体下方。干粘着组件使得不仅能够固持玻璃边缘(如所提供的那样例如使用夹具系统)，而且还可以额外固持基板(例如玻璃)的中心区域或中间区本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板支撑件，用于支撑具有待处理的前表面和相对的后表面的基板，所述基板支撑件的特征在于包括：/n支撑主体；及/n干粘着组件，所述干粘着组件被附接至所述支撑主体，所述干粘着组件具有一或多个干粘着元件，其中所述一或多个干粘着元件于所述后表面在至少一中心区域和一外区域中支撑所述基板。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种基板支撑件，用于支撑具有待处理的前表面和相对的后表面的基板，所述基板支撑件的特征在于包括：
支撑主体；及
干粘着组件，所述干粘着组件被附接至所述支撑主体，所述干粘着组件具有一或多个干粘着元件，其中所述一或多个干粘着元件于所述后表面在至少一中心区域和一外区域中支撑所述基板。


2.如权利要求1所述的基板支撑件，其中所述基板支撑件被配置为将所述基板固持于非垂直位置，所述基板的所述后表面被附接至所述一或多个干粘着元件并且所述基板的所述前表面面向下。


3.如权利要求1所述的基板支撑件，其中所述干粘着组件被配置为在所述支撑主体上形成一或多个固持件。


4.如权利要求2所述的基板支撑件，其中所述干粘着组件被配置为在所述支撑主体上形成一或多个固持件。


5.如权利要求3所述的基板支撑件，其中所述一或多个固持件被可移动地布置于所述支撑主体上。


6.如权利要求4所述的基板支撑件，其中所述基板支撑件进一步包括被配置成能于径向向外方向或径向向内方向上移动的四个固持件。


7.如权利要求5所述的基板支撑件，其中所述基板支撑件进一步包括被配置成能于径向向外方向和径向向内方向上移动的四个固持件。


8.如权利要求1至7的任一项所述的基板支撑件，其中所述干粘着组件被配置为具有附接区，所述附接区对应于所述基板的所述后表面的至少75％。


9.如权利要求1至7的任一项所述的基板支撑件，其中所述一或多个干粘着元件包括在所述支撑主体的第一区之上的第一粘着结构以...

【专利技术属性】
技术研发人员：西蒙·刘，安科·赫尔密西，莱内尔·欣特舒斯特，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：新型
国别省市：美国;US