【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】阵列基板以及显示装置
本公开至少一个实施例涉及一种阵列基板以及显示装置。
技术介绍
目前,“硬屏”显示器在市场的占比逐渐增加,“硬屏”显示器为共面转换液晶显示器。以高级超维场转换(ADS)显示模式为例,其常黑模式和液晶分子水平旋转实现显示的方式使其具有“硬屏”、宽视角和高色彩饱和度等特点。
技术实现思路
本公开的至少一实施例提供一种阵列基板,包括:衬底基板;多个像素单元,设置在所述衬底基板上,每个所述像素单元包括有效显示区,至少一个所述像素单元的有效显示区内设置有遮光层,所述遮光层位于所述有效显示区的边缘,且所述遮光层远离所述衬底基板一侧的表面为反射面。所述遮光层设置在宽度为20-50微米的环状区域内,所述环状区域的外侧边界为所述有效显示区的边界。例如,所述遮光层设置在宽度为20微米的环状区域内。例如,所述有效显示区中被所述环状区域围绕的区域为透光区。例如,所述遮光层的形状为环形。例如,所述遮光层为宽度为15-40微米的环形。例如,所述遮光层的外侧边界与所述环状区域
【技术保护点】
1.一种阵列基板,包括:/n衬底基板;/n多个像素单元,设置在所述衬底基板上,每个所述像素单元包括有效显示区,至少一个所述像素单元的有效显示区内设置有遮光层,所述遮光层位于所述有效显示区的边缘,且所述遮光层远离所述衬底基板一侧的表面为反射面,/n其中,所述遮光层设置在宽度为20-50微米的环状区域内,所述环状区域的外侧边界为所述有效显示区的边界。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种阵列基板,包括:
衬底基板;
多个像素单元,设置在所述衬底基板上,每个所述像素单元包括有效显示区,至少一个所述像素单元的有效显示区内设置有遮光层,所述遮光层位于所述有效显示区的边缘,且所述遮光层远离所述衬底基板一侧的表面为反射面,
其中,所述遮光层设置在宽度为20-50微米的环状区域内,所述环状区域的外侧边界为所述有效显示区的边界。
2.根据权利要求1所述的阵列基板,其中,所述遮光层设置在宽度为20微米的环状区域内。
3.根据权利要求1或2所述的阵列基板,其中,所述有效显示区中被所述环状区域围绕的区域为透光区。
4.根据权利要求1-3任一项所述的阵列基板,其中,所述遮光层的形状为环形。
5.根据权利要求4所述的阵列基板,其中,所述遮光层为宽度为15-40微米的环形。
6.根据权利要求4或5所述的阵列基板,其中,所述遮光层的外侧边界与所述环状区域的外侧边界重合。
7.根据权利要求1-6任一项所述的阵列基板,其中,所述像素单元包括显示电极,所述显示电极为平坦的电极,
其中,所述显示电极在所述衬底基板上的正投影与所述遮光层在所述衬底基板上的正投影有交叠。
8.根据权利要求7所述的阵列基...
【专利技术属性】
技术研发人员:赵彦礼,李晓吉,王志会,朱昌功,文江鸿,刘小龙,刘棵菓,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,重庆京东方光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:北京;11
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