用于建立温度梯度的设备和方法技术

技术编号:26309116 阅读:30 留言:0更新日期:2020-11-10 20:13
本发明专利技术涉及一种用于建立温度梯度的设备(1),所述设备(1)具有至少一个气密工作空间(5),至少一个气密工作空间(5)具有连接到第一电极(2)的第一边界表面(6)和连接到第二电极(3)的第二边界表面(7),其中当电压被施加于第一电极(2)和第二电极(3)之间时,电场可以在第一边界表面(6)和第二边界表面(7)之间被生成于工作空间(5)中,并且其中第一边界表面(6)和第二边界表面(7)之间的距离小于5000nm。为了以高效的方式建立温度梯度,根据本发明专利技术提供第一边界表面(6)具有至少一个场增强装置(特别是尖端(8)),以使得当电压被施加于电极(2、3)时,场增强装置的区域中的电场的场强度大于工作空间(5)中的电场的平均场强度。本发明专利技术还涉及一种用于利用具有气密工作空间(5)的设备(1)使用工作空间(5)内部的并且被施加电场的工作气体来建立温度梯度的方法,气密工作空间(5)具有第一边界表面(6)和第二边界表面(7)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于建立温度梯度的设备和方法本专利技术涉及一种用于建立温度梯度的设备,所述设备包括至少一个气密工作空间,所述至少一个气密工作空间具有连接到第一电极的第一边界表面和连接到第二电极的第二边界表面,其中当电压在工作空间中被施加于第一电极和第二电极之间时,电场可以在第一边界表面和第二边界表面之间被生成,并且其中第一边界表面和第二边界表面之间的距离小于5000nm。另外,本专利技术涉及一种用于利用包括气密工作空间的设备借助于位于工作空间中的工作气体来建立温度梯度的方法,所述气密工作空间具有第一边界表面和第二边界表面,电场被施加于所述工作气体。本专利技术还涉及一种用于传输电能的方法。一开始命名的类型的用于建立温度梯度的设备和方法从现有技术已经变得为人所知。文档AT512577A1具体地公开了用于建立温度梯度的方法以及用于该目的的设备,其中工作气体的分子或原子在工作空间中的阳极和阴极之间振荡,其中在与电场反向的移动中,分子在它们到达阳极之前冷却。热能因此被传送到阳极处的分子,随之分子在阴极的方向上被移动,其中它们经由电场吸收到达阴极的路径上的能量,以使得分子在一与阴极本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于建立温度梯度的设备(1),所述设备(1)具有至少一个气密工作空间(5),所述至少一个气密工作空间(5)具有连接到第一电极(2)的第一边界层(6)和连接到第二电极(3)的第二边界层(7),其中当电压在所述工作空间(5)中被施加于所述第一电极(2)和所述第二电极(3)之间时,电场可以在所述第一边界表面(6)和所述第二边界表面(7)之间被生成,并且其中所述第一边界表面(6)和所述第二边界表面(7)之间的距离小于5000nm,其特征在于,所述第一边界表面(6)包括至少一个场增强装置,特别是尖端(8),以使得如果电压被施加于所述电极(2、3),则所述场增强装置的区域中的电场的场强度大于所述工...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180130 AT A50086/20181.一种用于建立温度梯度的设备(1),所述设备(1)具有至少一个气密工作空间(5),所述至少一个气密工作空间(5)具有连接到第一电极(2)的第一边界层(6)和连接到第二电极(3)的第二边界层(7),其中当电压在所述工作空间(5)中被施加于所述第一电极(2)和所述第二电极(3)之间时,电场可以在所述第一边界表面(6)和所述第二边界表面(7)之间被生成,并且其中所述第一边界表面(6)和所述第二边界表面(7)之间的距离小于5000nm,其特征在于,所述第一边界表面(6)包括至少一个场增强装置,特别是尖端(8),以使得如果电压被施加于所述电极(2、3),则所述场增强装置的区域中的电场的场强度大于所述工作空间(5)中的电场的平均场强度。


2.如权利要求1所述的设备(1),其特征在于,所述场增强装置处的电场强度比所述工作空间(5)中的平均电场强度大至少10倍,优选地100倍,特别是1000倍。


3.如权利要求1或2所述的设备(1),其特征在于,所述场增强装置被实施为至少在端侧为大致锥形,并且具有小于30°的锥角。


4.如权利要求1至3之一所述的设备(1),其特征在于,所述场增强装置与所述第二边界表面(7)的距离小于所述第一边界表面(6)和所述第二边界表面(7)之间的最大边界表面间隔(10)的90%,优选地小于80%。


5.如权利要求1至4之一所述的设备(1),其特征在于,所述工作空间(5)被实施为使得当电压被施加于所述电极(2、3)之间时,电场在所述工作空间(5)中被获得,所述电场在所述工作空间(5)的大于50%以上基本上是均匀的,优选地所述工作空间(5)的大于70%以上,特别是所述工作空间(5)的大于90%以上。


6.如权利要求1至5之一所述的设备(1),其特征在于,所述工作空间(5)被实施为使得当电压被施加时,电场在所述工作空间(5)中被形成,所述电场在与所述至少一个场增强装置间隔小于1000nm、特别是小于500nm、优选地小于200nm的区域的外部基本上是均匀的。


7.如权利要求1至6之一所述的设备(1),其特征在于,所述场增强装置被实施为尖端(8),并且在一端处具有小于10nm2、特别是小于5nm2的面积。


8.如权利要求1至7之一所述的设备(1),其特征在于,所述第一边界表面(6)和所述第二边界表面(7)被实施为基本上平坦的。


9.如权利要求1至8之一所述的设备(1),其特征在于,气体被布置在所述工作空间(5)中,所述气体具有小于5000nm、特别...

【专利技术属性】
技术研发人员:杰拉尔德·博姆鲁道夫·希尔施曼纳齐格弗里德·迈尔霍费尔
申请(专利权)人:杰拉尔德·博姆鲁道夫·希尔施曼纳齐格弗里德·迈尔霍费尔
类型:发明
国别省市:奥地利;AT

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