显示设备及制造该显示设备的方法技术

公开了一种显示设备和制造显示设备的方法，该显示设备包括：基底，包括显示区域、形成在显示区域中的开口区域以及围绕开口区域的至少一部分的非显示区域；像素限定层，形成在基底上并且包括至少一个开口；中间层，设置在至少一个开口中；对电极，覆盖中间层和像素限定层；覆盖层，覆盖对电极。中间层、对电极和覆盖层中的至少一者的端部形成在像素限定层上，并且具有远离至少一个开口减小的厚度。

【技术实现步骤摘要】
显示设备及制造该显示设备的方法本申请要求于2019年5月10日在韩国知识产权局提交的第10-2019-0055167号韩国专利申请和于2020年2月10日在韩国知识产权局提交的第10-2020-0015835号韩国专利申请的优先权和权益，所述两个韩国专利申请的内容通过引用全部包含于此。
一个或更多个实施例涉及一种设备和一种方法，更具体地，涉及一种显示设备和一种制造该显示设备的方法。
技术介绍
近来，显示设备已被用于各种用途。另外，显示设备由于其减小的厚度和更轻的重量趋于被更广泛地使用。由于显示设备中的显示区域的面积的增大，因此越来越多的功能被添加到或链接到显示设备。
技术实现思路
一个或更多个实施例包括一种显示设备以及制造该显示设备的方法，该显示设备包括具有其中可以布置有各种组件的显示区域的显示面板。根据一个或更多个实施例，一种显示设备包括：基底，包括显示区域、位于显示区域中的开口区域以及围绕开口区域的至少一部分的非显示区域；像素限定层，位于基底上并且包括至少一个开口；中间层，设置在至少一个开口中；对本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示设备，所述显示设备包括：/n基底，包括显示区域、位于所述显示区域中的开口区域以及围绕所述开口区域的至少一部分的非显示区域；/n像素限定层，位于所述基底上，并且包括至少一个开口；/n中间层，设置在所述至少一个开口中；/n对电极，覆盖所述中间层和所述像素限定层；以及/n覆盖层，覆盖所述对电极，其中，/n所述中间层、所述对电极和所述覆盖层中的至少一者的端部设置在所述像素限定层上，并且具有远离所述至少一个开口减小的厚度。/n

【技术特征摘要】
20190510 KR 10-2019-0055167;20200210 KR 10-2020-001.一种显示设备，所述显示设备包括：
基底，包括显示区域、位于所述显示区域中的开口区域以及围绕所述开口区域的至少一部分的非显示区域；
像素限定层，位于所述基底上，并且包括至少一个开口；
中间层，设置在所述至少一个开口中；
对电极，覆盖所述中间层和所述像素限定层；以及
覆盖层，覆盖所述对电极，其中，
所述中间层、所述对电极和所述覆盖层中的至少一者的端部设置在所述像素限定层上，并且具有远离所述至少一个开口减小的厚度。


2.根据权利要求1所述的显示设备，其中，所述中间层包括第一功能层和第二功能层中的至少一者。


3.根据权利要求1所述的显示设备，其中，所述中间层、所述对电极和所述覆盖层顺序地堆叠在所述像素限定层上。


4.根据权利要求1所述的显示设备，所述显示设备还包括设置在所述基底上并在所述基底上方隔开的封装基底。


5.根据权利要求1所述的显示设备，所述显示设备还包括设置在所述覆盖层上的薄膜封装层。


6.根据权利要求1所述的显示设备，其中，穿透孔形成在所述开口区域中。


7.一种制造显示设备的方法，所述方法包括：
在基底上形成像素限定层，其中，所述基底包括开口区域和至少部分地围绕所述开口区域的非显示区域；
形成屏蔽单元，所述屏蔽单元覆盖所述像素限定层的一部分、所述开口区域和所述非显示区域；以及
在所述像素限定层和所述屏蔽单元上形成中间层、对电极和覆盖层。


8.根据权利要求7所述的方法，其中，
所述屏蔽单元包括：
第一屏蔽单元，屏蔽所述开口区域；以及
第二屏蔽单元，连接到所述第一屏蔽单元并且在所述像素限定层的上表面上方隔开。


9.根据权利要求8所述的方法，其中，所述第一屏蔽单元和所述第二屏蔽单元分别在不同的高度处形成。


10.根据权利要求8所述的方法，其中，所述屏蔽单元还包括形成在所述第一屏蔽单元下方的粘合单元。


11.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔允祯，金相烈，鲁硕原，俞何岚，曹永勳，崔正珉，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR