【技术实现步骤摘要】
光罩、光罩的制备方法、镀膜产品及镀膜产品的制备方法
本专利技术涉及光学
，具体涉及一种光罩、光罩的制备方法、镀膜产品及镀膜产品的制备方法。
技术介绍
目前，微光学产品在使用前均需在其表面贴膜或镀膜。现有的镀膜方法是提供一开设有盲孔的遮罩，将镀膜介质装设于盲孔内并将其压印在微光学产品表面来实现区域性镀膜。在实现本申请的过程中，专利技术人发现现有技术中至少存在如下问题：由于遮罩的精度较差，这使得通过遮罩获得的镀膜的精度也较小，不能满足微米级或纳米级的精度需求。
技术实现思路
鉴于以上内容，有必要提出一种光罩、光罩的制备方法、镀膜产品及镀膜产品的制备方法，以解决上述问题。本申请的一实施例提供了一种光罩，包括依次层叠设置的感光层、保护层及衬底层，所述光罩具有镀膜孔，所述镀膜孔贯穿所述感光层、所述保护层及所述衬底层的对应位置。上述的光罩具有一贯穿感光层、保护层及衬底层的对应位置的镀膜孔，该镀膜孔可使待镀粒子穿过并到达待镀产品表面，形成镀层，由于镀层是离子或原子层级的粒子堆积而成，该镀层...
【技术保护点】
1.一种光罩，其特征在于，包括依次层叠设置的感光层、保护层及衬底层，所述光罩具有镀膜孔，所述镀膜孔贯穿所述感光层、所述保护层及所述衬底层的对应位置。/n
【技术特征摘要】
1.一种光罩，其特征在于，包括依次层叠设置的感光层、保护层及衬底层，所述光罩具有镀膜孔，所述镀膜孔贯穿所述感光层、所述保护层及所述衬底层的对应位置。
2.如权利要求1所述的光罩，其特征在于，所述光罩为平面结构，所述光罩的镀膜孔在待镀产品表面的投影区域与待镀产品表面的待镀区域重合。
3.如权利要求1所述的光罩，其特征在于，所述光罩为曲面结构，所述光罩的镀膜孔在待镀产品表面的投影区域与待镀产品表面的待镀区域重合。
4.如权利要求1所述的光罩，其特征在于，所述保护层的厚度为0nm-10nm。
5.一种光罩的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
在衬底层的表面依次形成保护层和感光层；
蚀穿所述感光层、所述保护层及所述衬底层，以获得镀膜孔。
6.如权利要求5所述的光罩的制备方法，其特征在于，所述蚀穿所述感光层、所述保护层及所述衬底层，以获得镀膜孔的步骤具体包括：
将预设图形曝光至所述感光层背离所述保...
【专利技术属性】
技术研发人员：李宗政，成纯森，
申请(专利权)人：欧菲微电子技术有限公司，
类型：发明
国别省市：江西;36
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