涂敷膜形成方法和涂敷膜形成装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供涂敷膜形成方法和涂敷膜形成装置。该涂敷膜形成方法在基片形成含有液晶性材料的涂敷膜，该方法包括：一边使保持基片的保持部与涂敷部相对地移动，一边从上述涂敷部释放含有上述液晶性材料的涂敷液，在基片涂敷上述涂敷液而形成涂敷膜的步骤；以及之后在使上述液晶性材料的分子取向的拉伸取向区域与调节上述涂敷膜的温度的调温区域的边界，从供气部对上述涂敷膜的表面供给调温气体的步骤。本发明专利技术能够在基片涂敷含有液晶性材料的涂敷液，使液晶性材料的分子适当地取向而形成涂敷膜。

【技术实现步骤摘要】
涂敷膜形成方法和涂敷膜形成装置
本专利技术涉及涂敷膜形成方法和涂敷膜形成装置。
技术介绍
专利文献1公开了在基片形成光学膜的方法。在该方法中，在基片涂敷含有光学材料的涂敷液形成光学膜之后，将光学膜的周围的气氛减压，使该光学膜干燥。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2018-4862号公报
技术实现思路
专利技术要解决的技术问题本专利技术的技术，在基片涂敷含有液晶性材料的涂敷液，使液晶性材料的分子适当地取向而形成涂敷膜。用于解决技术问题的技术方案本专利技术的一个方式为在基片形成含有液晶性材料的涂敷膜的涂敷膜形成方法，该方法包括：一边使保持基片的保持部与涂敷部相对地移动，一边从上述涂敷部释放含有上述液晶性材料的涂敷液，在基片涂敷上述涂敷液而形成涂敷膜的步骤；以及之后在使上述液晶性材料的分子取向的拉伸取向区域与调节上述涂敷膜的温度的调温区域的边界，从供气部对上述涂敷膜的表面供给调温气体的步骤。专利技术效果依照本专利技术，能够在基片涂敷含有液晶性材料的涂敷液，使液晶性材料的分子适当地取向而形成涂敷膜。附图说明图1是表示本实施方式的涂敷膜形成装置的结构的概略的俯视图。图2是表示本实施方式的涂敷膜形成装置的结构的概略的侧视图。图3是表示保持台和调温部的结构的概略的侧视图。图4是表示涂敷嘴的结构的概略的立体图。图5是本实施方式的涂敷膜形成处理的主要步骤的说明图。图6是表示在基片形成直线偏振膜的情形的说明图。图7是表示在基片形成λ/4波长膜的情形的说明图。图8是表示另一实施方式的调温部的结构的概略的俯视图。图9是表示另一实施方式的调温部的结构的概略的俯视图。图10是表示另一实施方式的涂敷膜形成装置的结构的概略的俯视图。图11是另一实施方式的涂敷膜形成处理的主要步骤的说明图。附图标记说明10涂敷膜形成装置20保持台40涂敷嘴61供气部70移动机构80控制部W基片。具体实施方式在有机发光二极管(OLED：OrganicLightEmittingDiode)中，为了防止外光的反射使用了圆偏振片。圆偏振片是将直线偏振片与波长片(相位差板)以其偏振轴交叉45度的方式层叠而制作的。另外，液晶显示器(LCD：LiquidCrystalDisplay)中，为了控制显示中的旋光度、双折射性，使用了上述直线偏振片和波长片。现有技术中，这样的偏振片和波长片例如使用延伸膜来制作。延伸膜是通过使膜在一个方向上延伸地粘贴，以使其材料中的分子在一个方向上取向的膜。但是，伴随着近年的OLED和LCD的薄型化，要求偏振片和波长片的薄膜化，但是使延伸膜自身的膜厚减小时存在极限，不能得到足够薄的膜。因此，如上述的专利文献1所公开的方法，在基片涂敷含有所希望的材料(液晶性材料)的涂敷液，形成所需的膜厚的涂敷膜，由此实现了薄膜化。具体而言，例如将含有液晶性材料的涂敷液涂敷于基片，使其流延、取向。液晶化合物在涂敷液中形成超分子聚合体，当一边施加剪切应力一边使涂敷液流动时，超分子聚合体在流动方向上取向。在此，利用涂敷液所含的液晶性材料，例如在涂敷后数秒的短时间内存在分子的取向混乱的情况。这一方面，在专利文献1所公开的方法中，用涂敷处理装置在基片上涂敷涂敷液形成涂敷膜之后，用减压干燥装置将涂敷膜的周围的气氛减压，使该涂敷膜干燥。在该情况下，由于将基片从涂敷处理装置输送到减压干燥装置时需要花费时间，即使在涂敷处理装置中使液晶性材料的分子取向，直至将基片输送到减压干燥装置为止时，也存在取向混乱的情况。并且，当像这样取向状态混乱时，偏振片和波长片的光学特性劣化。因此，现有技术的涂敷膜形成方法中存在改善的余地。本专利技术的技术是在基片适当地形成含有液晶性材料的涂敷膜。即，在基片涂敷了涂敷液之后，液晶性材料的分子的取向混乱之前，使涂敷膜结晶化。在本专利技术中，作为液晶性材料，能够使用溶致液晶和热致液晶。溶致液晶是在与水或其它的极性溶剂混合了的状态下成为液晶的。具体而言，在溶致液晶中，当溶剂的量增加时，按照固体(结晶)→液晶→普通液体的顺序依次变化。像这样溶致液晶由溶质(固形成分)决定液晶性。热致液晶是根据成为液晶相的条件在所希望的温度范围成为液晶的。具体而言，关于热致液晶，当提高温度时，按照固体(结晶)→液晶→普通液体的顺序依次地变化。像这样热致液晶由温度决定液晶性。像这样溶致液晶与热致液晶的性质不同，使其结晶化的方法也不同。在使用溶致液晶的情况下，在涂敷膜中的液晶性材料的分子已经取向的状态下，当使涂敷膜的表面干燥后，涂敷膜结晶化。另一方面，在使用热致液晶的情况下，在涂敷膜中的液晶性材料的分子已经取向的状态下，当使涂敷膜冷却后，涂敷膜结晶化。以下，参照附图，对本实施方式的涂敷膜形成装置和涂敷膜形成方法进行说明。此外，在本说明书和附图中，在实质上具有相同功能结构的要素标注相同的附图标记，由此而省略重复的说明。<涂敷膜形成装置的结构>首先，对本实施方式的涂敷膜形成装置的结构进行说明。图1是表示涂敷膜形成装置10的结构的概略的俯视图。图2是表示涂敷膜形成装置10的结构的概略的侧视图。此外，下面，为了使位置关系明确，规定彼此正交的X轴方向、Y轴方向和Z轴方向，将Z轴正方向设为铅垂向上的方向。在本实施方式中，在制造用于OLED的圆偏振片时，以作为涂敷膜将直线偏振膜(直线偏振片)和λ/4波长膜(λ/4波长片)形成在例如玻璃基片等基片(工件)的情况为例进行说明。此外，在形成直线偏振膜和λ/4波长膜之前的基片上，例如层叠地形成有多个有机膜(未图示)等。涂敷膜形成装置10具有处理容器11。在处理容器11的侧面形成基片W的送入送出口(未图示)，在该送入送出口设置有开闭件(未图示)。在处理容器11的内部，设置有作为保持基片W的保持部的保持台20。保持台20以使基片W的涂敷涂敷液的表面朝向上方的方式吸附保持该基片W的背面。另外，保持台20具有在俯视时比基片W小的形状。此外，保持台20的大小并不限定于本实施方式，例如也可以为保持台20具有在俯视时与基片W相同的大小的形状，或者比基片W大的形状。保持台20设置于保持台20的下表面侧的框架30。保持台20例如构成为内置移动机构(未图示)，在框架30上在水平方向(X轴方向和Y轴方向)上能够自由移动。此外，在本实施方式中，移动机构内置于保持台20中，但移动机构的结构并不限定于此，例如也可以为使保持台20在导轨上移动等，移动机构能够采用任意的构成。如图3所示，在保持台20的内部设置有作为基片调温部的加热器21，其对保持台20所保持的基片W进行加热。如图1和图2所示，在保持台20的上方设置有作为涂敷部的涂敷嘴40，其对保持在该保持台20的基片W涂敷涂敷液。涂敷嘴40被固定成不能在水平方向上移动，但是通过移动机构(未图示)能够在铅垂方向上自由移动。另外，涂敷嘴本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种涂敷膜形成方法，其在基片形成含有液晶性材料的涂敷膜，所述涂敷膜形成方法的特征在于，包括：/n一边使保持基片的保持部与涂敷部相对地移动，一边从所述涂敷部释放含有所述液晶性材料的涂敷液，在基片涂敷所述涂敷液而形成涂敷膜的步骤；以及/n之后在使所述液晶性材料的分子取向的拉伸取向区域与调节所述涂敷膜的温度的调温区域的边界，从供气部对所述涂敷膜的表面供给调温气体的步骤。/n

【技术特征摘要】
20190510 JP 2019-0901081.一种涂敷膜形成方法，其在基片形成含有液晶性材料的涂敷膜，所述涂敷膜形成方法的特征在于，包括：
一边使保持基片的保持部与涂敷部相对地移动，一边从所述涂敷部释放含有所述液晶性材料的涂敷液，在基片涂敷所述涂敷液而形成涂敷膜的步骤；以及
之后在使所述液晶性材料的分子取向的拉伸取向区域与调节所述涂敷膜的温度的调温区域的边界，从供气部对所述涂敷膜的表面供给调温气体的步骤。


2.如权利要求1所述的涂敷膜形成方法，其特征在于：
在所述供给调温气体的步骤中，检测所述液晶性材料的分子的取向状态，基于检测结果确定所述边界。


3.如权利要求2所述的涂敷膜形成方法，其特征在于：
在检测所述液晶性材料的分子的取向状态时，一边从照明部对所述涂敷膜照射光，一边用拍摄部拍摄所述涂敷膜。


4.如权利要求1～3中任一项所述的涂敷膜形成方法，其特征在于：
所述液晶性材料为溶致液晶，
在所述涂敷膜形成方法中，
加热从所述涂敷部释放的所述涂敷液，
加热保持部所保持的基片，
加热从所述供气部供给的所述调温气体。


5.如权利要求4所述的涂敷膜形成方法，其特征在于：
从所述涂敷部释放的所述涂敷液的温度、所述保持部所保持的基片的温度、和从所述供气部供给的所述调温气体的温度彼此相同。


6.如权利要求1～3中任一项所述的涂敷膜形成方法，其特征在于：
所述液晶性材料为热致液晶，
加热从所述涂敷部释放的所述涂敷液，
冷却从所述供气部供给的所述调温气体。


7.如权利要求1～3中任一项所述的涂敷膜形成方法，其特征在于：
所述供气部在所述保持部相对所述涂敷部的移动方向上供给所述调温气体。


8.如权利要求1～3中任一项所述的涂敷膜形成方法，其特征在于：
从所述供气部供给的所述调温气体，从排气部被排出。


9.如权利要求8所述的涂敷膜形成方法，其特征在于：
所述供气部和所述排气部彼此交替地设置多个。


10.如权利要求9所述的涂敷膜形成方法，其特征在于：
从多个所述供气部供给的所述调温气体的温度是相同的。


11.一种涂敷膜形成装置，其在基片形成含有液晶性材料的涂敷膜，所述涂敷膜形成装置的特征在于，包括：
保持基片的保持部；
涂敷部，其在所述保持部所保持的基片涂敷含有所述液晶...

【专利技术属性】
技术研发人员：池田文彦，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP