图案的制造方法、光学滤波器的制造方法、固体摄像元件的制造方法、图像显示装置的制造方法、光固化性组合物及膜制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种图案形成性优异并且抑制了在图案之间产生残渣的图案的制造方法、光学滤波器的制造方法、固体摄像元件的制造方法及图像显示装置的制造方法。并且，提供一种光固化性组合物及膜。图案的制造方法包括：使用含有色材和树脂，且固体成分的酸值为1～25mgKOH/g的光固化性组合物在支承体上形成光固化性组合物层的工序；将光固化性组合物层曝光成图案状的工序；及使用含有有机溶剂的显影液对未曝光部的光固化性组合物层进行处理而显影的工序。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】图案的制造方法、光学滤波器的制造方法、固体摄像元件的制造方法、图像显示装置的制造方法、光固化性组合物及膜
本专利技术涉及一种图案的制造方法。更详细而言，涉及一种用含有有机溶剂的显影液进行显影而形成负型图案的图案的制造方法。并且，本专利技术涉及一种包括前述图案的制造方法的光学滤波器的制造方法、固体摄像元件的制造方法及图像显示装置的制造方法。并且，本专利技术涉及一种光固化性组合物及膜。
技术介绍
进行如下，即使用含有色材的光固化性组合物并通过光刻法形成图案而制造滤色器等。作为显影液，从以往使用碱水溶液。并且，也对作为显影液而使用有机溶剂的尝试进行了研究。专利文献1中记载有一种与滤色器的制造方法有关的专利技术，该滤色器的制造方法包括：使用含有可溶于有机溶剂的染料、聚合性化合物及光聚合引发剂，且包含总固体成分中的65质量％以上的染料的着色感放射线性组合物形成着色层的工序；经由掩模将前述着色层曝光成图案状的工序；及使用含有有机溶剂的显影液对经曝光的着色层进行显影的工序。并且，专利文献2中记载有一种与着色层的制造方法有关的专利技术，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种图案的制造方法，其包括：/n使用含有色材和树脂、且固体成分的酸值为1mgKOH/g～25mgKOH/g的光固化性组合物在支承体上形成光固化性组合物层的工序；/n将所述光固化性组合物层曝光成图案状的工序；及/n使用含有有机溶剂的显影液对未曝光部的所述光固化性组合物层进行处理而显影的工序。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180419 JP 2018-0805501.一种图案的制造方法，其包括：
使用含有色材和树脂、且固体成分的酸值为1mgKOH/g～25mgKOH/g的光固化性组合物在支承体上形成光固化性组合物层的工序；
将所述光固化性组合物层曝光成图案状的工序；及
使用含有有机溶剂的显影液对未曝光部的所述光固化性组合物层进行处理而显影的工序。


2.根据权利要求1所述的图案的制造方法，其中，
所述显影液中所含有的有机溶剂的溶解度参数为18MPa0.5～24MPa0.5。


3.根据权利要求1或2所述的图案的制造方法，其中，
所述显影液中所含有的有机溶剂的CLogP值为0～1。


4.根据权利要求1至3中任一项所述的图案的制造方法，其中，
所述光固化性组合物含有具有与所述显影液中所含有的有机溶剂的溶解度参数之差的绝对值为3.5MPa0.5以下的溶解度参数的树脂。


5.根据权利要求1至4中任一项所述的图案的制造方法，其中，
所述光固化性组合物含有具有与所述显影液中所含有的有机溶剂的CLogP值之差的绝对值为2以下的CLogP值的树脂。


6.根据权利要求1至5中任一项所述的图案的制造方法，其中，
所述显影液中所含有的有机溶剂为选自酮系溶剂及醇系溶剂中的至少1种。


7.根据权利要求1至6中任一项所述的图案的制造方法，其中，
所述显影液中所含有的有机溶剂为选自环戊酮、环己酮、异丙醇及乳酸乙酯中的至少1种。


8.根据权利要求1至7中任一项所述的图案的制造方法，其中，
所述色材为颜料。


9.根据权利要求1至8中任一项所述的图案的制造方法，其中，
在所述进行显影的工序之后，包括进而用含有有机溶剂的冲洗液进行冲洗的工序。


10.根据权利要求9所述的图案的制造方法，其中，
所述冲洗液中所含有的有机溶剂的沸点比所述显影液中所含有的有机溶剂的沸点低。


11.根据权利要求9或10所述的图案的制造方法，其中，
所述冲洗液中所含有的有机溶剂的溶解度参数为17MPa0.5～21MPa0.5。


12.根据权利要求9至11中任一项所述的图案的制造方法，其中，
所述冲洗液中所含有的有机溶剂的CLogP值为...

【专利技术属性】
技术研发人员：大河原昂广，长田崇一郎，奈良裕树，中村翔一，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP