防反射膜及光学部件制造技术

本发明专利技术提供一种环境耐久性优异的防反射膜及光学部件。防反射膜具备配置于基材侧的电介质多层膜及层叠设置于电介质多层膜的以水合氧化铝为主要成分的微细凹凸层。电介质多层膜由具有相对高的折射率的高折射率层和具有相对低的折射率的低折射率层的交替层构成，电介质多层膜作为高折射率层及低折射率层中的1个层而包含由氮化硅构成的阻挡层，阻挡层的密度为2.7g/cm

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】防反射膜及光学部件
本专利技术涉及一种防反射膜及具备防反射膜的光学部件。
技术介绍
以往，在透镜等光学部件中，为了减少表面反射引起的透射光的损失和重影、光斑，对光入射面赋予有防反射功能。作为赋予针对可见光的防反射功能的防反射膜，已知有包含节距比可见光的波长短的微细凹凸层的结构(例如，国际公开第2016/031133号(以下，称为专利文献1。))。并且，作为不具备微细凹凸结构的防反射膜，已知有交替层叠低折射率层和高折射率层而成的电介质多层膜(例如，日本特开2009-084143号公报(以下，称为专利文献2。))。专利文献1中，公开有在基材上依次具备交替层叠低折射率层和高折射率层而成的中间层(电介质层)、以氧化铝的水合物为主要成分的微细凹凸层的防反射膜。专利文献2中，公开有由电介质多层膜构成的防反射膜，对具备防反射膜的透明基材，提出了在玻璃的软化温度或接近软化点的温度下的热处理中抑制光学性质发生变化的方法。具体而言，提出有如下内容，即，在与如玻璃基材中所包含的钠离子那样的碱离子接触而容易劣化的层与玻璃基材之间具备遮蔽碱离子的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种防反射膜，其设置于基材的一个表面，/n所述防反射膜具备配置于所述基材侧的电介质多层膜及层叠设置于该电介质多层膜的以水合氧化铝为主要成分的微细凹凸层，/n所述电介质多层膜包含具有相对高的折射率的高折射率层和具有相对低的折射率的低折射率层的交替层，/n所述电介质多层膜包含含有氮化硅的阻挡层来作为所述高折射率层及所述低折射率层中的1个层，/n所述阻挡层的密度为2.7g/cm

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180329 JP 2018-0639001.一种防反射膜，其设置于基材的一个表面，
所述防反射膜具备配置于所述基材侧的电介质多层膜及层叠设置于该电介质多层膜的以水合氧化铝为主要成分的微细凹凸层，
所述电介质多层膜包含具有相对高的折射率的高折射率层和具有相对低的折射率的低折射率层的交替层，
所述电介质多层膜包含含有氮化硅的阻挡层来作为所述高折射率层及所述低折射率层中的1个层，
所述阻挡层的密度为2.7g/cm3以上且厚度为15nm以上且150nm以下。


2.根据权利要求1所述的防反射膜，其中，
所述阻挡层的密度为3.1g/cm3以下。


3.根据权利要求1或2所述的防反射膜，其中，
所述阻挡层的厚度为20nm以上。


4.根据权利要求1至3中任一项所述的防反射膜，其中，
所述阻挡层的厚度为100nm以下。


5.根据权利要求1至4中任一项所述的防反射膜，其中，
所述阻挡层与所述基材相邻而设置。


6....

【专利技术属性】
技术研发人员：中村诚吾，前原佳纪，吉弘达矢，梅田贤一，板井雄一郎，山中英生，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP