【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】最大化地减少化学强化玻璃中的凹痕缺陷的方法相关申请的交叉参考本申请根据35U.S.C.§119要求2019年2月4日提交的系列号为62/800,629的美国临时申请以及2018年3月9日提交的系列号为62/640,792的美国临时申请的优先权权益，本申请以二者各自的内容为基础，并通过参考将其全文纳入本文。
本公开一般涉及用于最大程度地减少化学强化玻璃中的凹痕缺陷的方法，特别是用于在对玻璃强化之前移除玻璃上的污渍和尘粒的方法
技术介绍
玻璃基制品已经被广泛地用作消费电子装置的盖板或窗，所述消费电子装置例如手机、智能手机、平板电脑、视频播放器、信息终端(IT)装置、笔记本电脑、导航系统等。玻璃基制品适用于需要出色的抗断裂性但是又薄又轻的制品的任何应用。玻璃基制品的机械和/或化学可靠性通常受功能性、性能和成本驱使。改进这些制品的机械和/或化学可靠性是持续的目标。化学处理是一种赋予所需的/经策划的/改进的应力分布的强化方法，所述应力分布具有以下参数中的一种或多种：压缩应力(CS)、压缩深度(DOC)和中心张力...
【技术保护点】
1.一种制造玻璃基制品的方法，所述方法包括：/n处理玻璃基基材的至少一个表面，以保护所述至少一个表面不受污染和/或从所述至少一个表面移除污染物，其通过除超声清洁之外的处理进行；以及/n在处理步骤之后，将玻璃基基材暴露于离子交换处理，以形成玻璃基制品。/n
【技术特征摘要】 【专利技术属性】
【国外来华专利技术】20180309 US 62/640,792;20190204 US 62/800,6291.一种制造玻璃基制品的方法，所述方法包括：
处理玻璃基基材的至少一个表面，以保护所述至少一个表面不受污染和/或从所述至少一个表面移除污染物，其通过除超声清洁之外的处理进行；以及
在处理步骤之后，将玻璃基基材暴露于离子交换处理，以形成玻璃基制品。
2.如权利要求1所述的方法，其中，所述玻璃基基材包括精整边缘。
3.如权利要求1所述的方法，其中，所述处理步骤包括：
使所述至少一个表面暴露于高pH浸泡以移除污染物；
离子化所述至少一个表面以移除污染物；和/或
向所述至少一个表面施涂临时涂层以保护所述至少一个表面不受污染，并且在离子交换处理步骤之前移除所述临时涂层。
4.如权利要求1至3中任一项所述的方法，其中，离子交换处理包括自清洁条件。
5.如权利要求4所述的方法，其中，自清洁条件包括：大于或等于7且小于或等于11的pH；和/或大于或等于460℃且小于或等于520℃的温度。
6.如权利要求1至5中任一项所述的方法，其中，离子交换处理包括熔融盐浴，并且所述方法还包括：添加盐以增加熔融盐浴的pH和/或将熔融盐浴的温度设置到大于或等于460℃。
7.如权利要求1至6中任一项所述的方法，其还包括在离子交换处理步骤之前：将玻璃基基材暴露于超声清洁，所述超声清洁包括超声浴，其中，超声浴的pH在大于或等于9的pH至小于或等于13的pH的范围内，并且超声浴的温度在大于或等于40℃至小于或等于70℃的范围内。
8.如权利要求3所述的方法，其包括高pH浸泡，其中，所述高pH浸泡包括溶液，所述溶液的pH大于或等于13且小于或等于14，其温度在大于或等于65℃至小于或等于75℃的范围内，并且持续时间在大于或等于10分钟至小于或等于30分钟的范围内。
9.如权利要求3所述的方法，其包括离子化，其中，所述离子化包括：向所述至少一个表面施涂离子化气体。
10.如权利要求3所述的方法，其包括施涂临时涂层，其中，所述临时涂层包括有机硅烷化合物，并且所述方法还包括：在将玻璃基基材暴露于离子交换处理之前，加热玻璃基基材以移除临时涂层。
11.一种制造玻璃基制品的方法，所述方法包括：获得具有精整边缘的玻璃基基材，对所述玻璃基基材的一个或多个表面进行任选的机械抛光；对玻璃基基材进行超声清洁以形成经清洁的基材；对经清洁的基材进行质量控制检查；装载经清洁的基材；预热经清洁的基材；以及对经清洁的基材进行离子交换处理，其中，改进之处包括：
在超声清洁之前，使所述至少一个表面暴露于高pH浸泡以移除污染物；
在装载之后以及预热之前，离子化所述至少一个表面以移除污染物；和/或
在超声清洁之后以及装载之前，向所述至少一个表面施涂临时涂层以保护所述至少一个表面不受污染，并且在离子交换处理步骤之前移除所述临时涂层。
12.如权利要求11所述的方法，其中，离子交换处理包括熔融盐浴，所述方法还包括：添加盐以增加熔融盐浴的pH和/或将熔融盐浴的温度设置到大于或等于460℃。
13.如权利要求11或12所述的方法，其中，超声清洁包括超声浴，其pH在大于或等于9的pH至小于或等于13的pH的范围内，并且温度在大于或等于40℃至小于或等于70℃的范围内。
14.如权利要求11至13中任一项所述的方法，其还包括：在质量控制检查之后以及装载之前，将经清洁的基材暴露于第二超声清洁。
15.一种制造玻璃基制品的方法，所述方法包括：
将玻璃基基材的至少一个表面暴露于高pH浸泡以移除污染物；
将玻璃基基材暴露于至少一个额外的精整步骤；以及
将玻璃基基材暴露于离子交换处理以形成玻璃基制品。
16.如权利要求15所述的方法，其中，所述高pH浸泡包括溶液，所述溶液的pH大于或等于13且小于或等于14，其温度在大于或等于65℃至小于或等于75℃的范围内，并且持续时间在大于或等于10分钟至小于或等于30分钟的范围内。
17.如权利要求15或16所述的方法，其中，至少一个另外的精整步骤包括：对玻璃基基材进行超声清洁。
18.如权利要求15至17中任一项所述的方法，其还包括：在将玻璃基基材暴露于离子交换处理之前，先离子化所述至少一个表面。
19.如权利要求15至18中任一项所述的方法，其还包括：向玻璃基基材的至少一个表面施涂临时涂层，以及在将玻璃基基材暴露于离子交换处理之前，加热玻璃基基材以移除所述临时涂层。
20.一种制造玻璃基制品的方法，所述方法包括：
向玻璃基基材的至少一个表面施涂临时涂层以保护所述至少一个表面不受污染；
使玻璃基基材暴露于至少一个额外的精整步骤；
加热玻璃基基材以移除临时涂层；以及
在移除临时涂层后，将玻璃基基材暴露于离子交换处理以形成玻璃基制品。
21.如权利要求20所述的方法，其中，所述临时涂层包括有机硅烷化合物。
22.如权利要求21所述的方法，其中，有机硅烷化合物包括十八烷基二甲基三甲氧基甲硅烷基丙基氯化铵。
23.如权利要求20至22中任一项所述的方法，其还包括：在施涂临时涂层之后以及加热玻璃基基材之前，对玻璃基基材进行离子化。
24.如权利要求23所述的方法，其中，离子化包括：向所述至少一个表面施加离子化气体以从玻璃基基材的所述至少一个表面移除任何污染物。
技术研发人员：J·阿明，M·J·德内卡，金宇辉，R·G·曼利，J·M·米斯，P·奥拉姆，V·M·施奈德，C·M·史密斯，孙伟，W·J·瓦尔扎克，张丽英，
申请(专利权)人：康宁股份有限公司，
类型：发明
国别省市：美国;US
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。