一种平面透镜聚焦器件及调控焦距的方法技术

本发明专利技术提供的一种平面透镜聚焦器件包括，基底层，在所述基底层上侧布置一层氧化钼薄层，在所述基底层的下侧布置硅衬底，在所述氧化钼薄层的上侧覆盖金属天线，或者在所述氧化钼薄层下侧与基底层之间嵌入金属天线，在氧化钼薄层上层覆盖石墨烯层；所述石墨烯层与所述硅衬底接通电压，金属天线激发双曲声子激元，通过电压改变石墨烯层的费米能级，调整纳米聚焦的焦距。本发明专利技术提供在石墨烯层与硅衬底之间接通电压，通过改变电压进而改变石墨烯层的费米能级，动态调控焦距的位置，从而实现平面透镜聚焦的焦距调整。本发明专利技术简单易行，且使用的范围广，成本低。

【技术实现步骤摘要】
一种平面透镜聚焦器件及调控焦距的方法
本专利技术涉及纳米聚焦
，特别涉及一种平面透镜聚焦器件及调整纳米聚焦的焦距的方法。
技术介绍
氧化钼是一种双轴材料且具有强烈的各向异性。其在不同剩余射线带内，沿不同光轴的介电函数相反，产生的声子激元具有明显的平面双曲特性，可以控制光沿在某一特殊方向传播，因而在纳米光学中控制与调控光领域具有重要的应用。双曲声子激元是一类特殊的激元，相比较其他传导类型的激元(如等离激元，激子激元)，其具有明显的各向异性以及低损耗特性。在现有技术中，依靠天然氧化钼材料可以实现片内双曲声子激元的激发。石墨烯是SP2杂化形成蜂窝状晶格结构的单原子层二维材料，具有线性能带结构。石墨烯的最大优势在于具有电学可调的载流子浓度，动态改变介电函数。构建平面透镜，实现纳米聚焦对于微纳光学，光控制与调节领域具有重要的应用价值。现有技术中，人们主要依靠超结构，表面构造纳米聚焦的透镜。但是由于微纳加工的影响，会造成较大的光损耗，且由于尺寸的影响，聚集光的范围比较窄。此外，依靠超结构，表面构造纳米聚焦的透镜，制造的成本较高本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种平面透镜聚焦器件，其特征在于，所述器件包括，基底层，在所述基底层上侧布置一层氧化钼薄层，在所述基底层的下侧布置硅衬底；/n在所述氧化钼薄层的上侧覆盖金属天线，或者在所述氧化钼薄层下侧与基底层之间嵌入金属天线，在氧化钼薄层上层覆盖石墨烯层；/n所述石墨烯层与所述硅衬底接通电压，金属天线激发双曲声子激元，通过电压改变石墨烯层的费米能级，调整纳米聚焦的焦距。/n

【技术特征摘要】
20200731 CN 20201076003311.一种平面透镜聚焦器件，其特征在于，所述器件包括，基底层，在所述基底层上侧布置一层氧化钼薄层，在所述基底层的下侧布置硅衬底；
在所述氧化钼薄层的上侧覆盖金属天线，或者在所述氧化钼薄层下侧与基底层之间嵌入金属天线，在氧化钼薄层上层覆盖石墨烯层；
所述石墨烯层与所述硅衬底接通电压，金属天线激发双曲声子激元，通过电压改变石墨烯层的费米能级，调整纳米聚焦的焦距。


2.根据权利要求1所述的器件，其特征在于，所述基底层材料为无机介电材料或有机高分子材料。


3.根据权利要求1所述的器件，其特征在于，所述氧化钼薄层的平面几何尺寸为1μm-500μm，厚度为2nm-5000nm；所述金属天线的几何尺寸为10nm-300μm，厚度为20nm-50μm；所述石墨烯层的平面几...

【专利技术属性】
技术研发人员：滕汉超，胡海，陈娜，胡德波，秦亚灵，其他发明人请求不公开姓名，
申请(专利权)人：国家纳米科学中心，
类型：发明
国别省市：北京;11