【技术实现步骤摘要】
回旋加速器引出nA量级以下束流的调节装置
本技术涉及回旋加速器设备的
，尤其是涉及一种回旋加速器引出nA量级以下束流的调节装置。
技术介绍
回旋加速器能提供电流uA量级束流的强流质子或重离子，通常可应用于质子照射治疗设备。一般而言，回旋加速器由强流离子源、注入线、主磁铁、高频腔等主要系统构成，在使用上还可用来开展单粒子效应实验、质子有效剂量测量实验、白光中子物理实验、放射性核束物理实验、同位素研制等生产或相关实验工作。其中一些生产、实验需要强流质子束流，这还属于回旋加速器的正常工作区间；但是，有些实验例如单粒子效应实验，需要nA量级的束流，这时需要离子源注入极小的离子束流，对于强流离子源设备，在小束流输出时，工作不稳定，导致回旋加速器难以稳定运行。为了使强流回旋加速器能够稳定提供弱束流，有一种产业需求是要在强流离子源工作在稳定输出状态的同时，又能使注入加速器的束流强度相对比较弱，以供弱束流物理实验的使用。中国专利技术专利授权公告号CN107318213B公开了一种高电荷态离子实验装置。该实验装置包括：高...
【技术保护点】
1.一种回旋加速器引出nA量级以下束流的调节装置，其特征在于，所述调节装置包括:/n第一束流挡片，具有第一板状阻拦部以及位于所述第一板状阻拦部一侧的第一冷却部，所述第一板状阻拦部开设有多个平行向等距排列的第一狭缝，所述第一狭缝之间形成为第一挡条部;及，/n第二束流挡片，具有第二板状阻拦部以及位于所述第二板状阻拦部一侧的第二冷却部，所述第二板状阻拦部(21)开设有多个平行向等距排列的第二狭缝，所述第二狭缝之间形成为第二挡条部;/n其中，所述第二束流挡片紧邻且平行地配置于所述第一束流挡片的束流后方，使所述第二狭缝间隔地平行于所述第一狭缝;所述第二束流挡片与所述第一束流挡片之间为...
【技术特征摘要】
1.一种回旋加速器引出nA量级以下束流的调节装置，其特征在于，所述调节装置包括:
第一束流挡片，具有第一板状阻拦部以及位于所述第一板状阻拦部一侧的第一冷却部，所述第一板状阻拦部开设有多个平行向等距排列的第一狭缝，所述第一狭缝之间形成为第一挡条部;及，
第二束流挡片，具有第二板状阻拦部以及位于所述第二板状阻拦部一侧的第二冷却部，所述第二板状阻拦部(21)开设有多个平行向等距排列的第二狭缝，所述第二狭缝之间形成为第二挡条部;
其中，所述第二束流挡片紧邻且平行地配置于所述第一束流挡片的束流后方，使所述第二狭缝间隔地平行于所述第一狭缝;所述第二束流挡片与所述第一束流挡片之间为相互的可平行向移动，其移动方向垂直于所述第一狭缝与所述第二狭缝的狭缝长度方向，由束流方向观测，所述第二挡条部在所述第一狭缝与所述第一挡条部之间的移动能够提供可调节nA量级以下束流的均匀化引出。
2.根据权利要求1所述的回旋加速器引出nA量级以下束流的调节装置，其特征在于，当所述第二束流挡片的数量为一，并且所述第二挡条部的单元宽度不小于所述第一狭缝的单元宽度。
3.根据权利要求2所述的回旋加速器引出nA量级以下束流的调节装置，其特征在于，所述第一束流挡片与所述第二束流挡片为实质相同，包括：所述第二狭缝与所述第二挡条部的数量与尺寸是相同于所述第一狭缝与所述第一挡条部的数量与尺寸，并且所述第二挡条部的单元宽度等于或略大于所述第二狭缝的单元宽度。
4.根据权利要求3所述的回旋加速器引出nA量级以下束流的调节装置，其特征在于，所...
【专利技术属性】
技术研发人员：魏素敏，吕银龙，葛涛，安世忠，
申请(专利权)人：中国原子能科学研究院，
类型：新型
国别省市：北京;11
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