【技术实现步骤摘要】
一种光纤光栅串制备系统
本技术涉及光纤光栅串制备领域,特别涉及一种光纤光栅串制备系统。
技术介绍
目前,制备光纤光栅的主要方法有相位掩模板法、逐点写入法和干涉法,其中,相位掩模板法采用248nm紫外激光器作为刻写光源,光束通过掩模板形成衍射条纹,利用±1级衍射条纹侧面曝光光纤制备光栅结构。该方法对光源要求较低,实际制备的光纤光栅的周期只取决于相位掩模板板条纹的周期,降低了光纤光栅制备工艺的难度。基于紫外激光的相位掩模板法是目前最为普遍采用的制备方法,是制备光纤光栅的标准工艺,该方法使得光纤光栅走向实用化和产业化。但是,在实际的应用过程中往往需要使用多根光栅,单光栅的熔接存在一定的熔接损耗,并且存在熔接缺陷,而现有光纤光栅刻写设备,光纤需要从夹具中取下来重新调整位置,大大影响了光纤光栅串的刻写效率,不利于光纤光栅在各大领域的进一步推广与普及。
技术实现思路
本技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此,本技术提出。本技术的一种实施例解决其技术问题所采用的技术方案是:一种光纤光栅串制备系统 ...
【技术保护点】
1.一种光纤光栅串制备系统,其特征在于,包括:/n准分子激光器(10),所述准分子激光器(10)产生刻写的光源;/n光束调整组件(20),光束调整组件(20)对准分子激光器(10)产生的光源进行滤波和整形;/n掩膜板(30),经光束调整组件(20)调整后的激光照射在掩膜板(30)上形成衍射条纹;/n调整装置(40),所述调整装置(40)上设置有光纤(50),激光经过掩膜板(30)的衍射后在光纤(50)中形成光栅,调整装置(40)能够调节光纤(50)与掩膜板(30)之间的距离以在光纤(50)上形成光栅串。/n
【技术特征摘要】
1.一种光纤光栅串制备系统,其特征在于,包括:
准分子激光器(10),所述准分子激光器(10)产生刻写的光源;
光束调整组件(20),光束调整组件(20)对准分子激光器(10)产生的光源进行滤波和整形;
掩膜板(30),经光束调整组件(20)调整后的激光照射在掩膜板(30)上形成衍射条纹;
调整装置(40),所述调整装置(40)上设置有光纤(50),激光经过掩膜板(30)的衍射后在光纤(50)中形成光栅,调整装置(40)能够调节光纤(50)与掩膜板(30)之间的距离以在光纤(50)上形成光栅串。
2.根据权利要求1所述的一种光纤光栅串制备系统,其特征在于:所述光束调整组件(20)包括顺次排列的取光光阑(21)、柱面镜(22)、整形光阑(23)以及柱透镜(24),所述准分子激光器(10)产生的激光从取光光阑(21)中进入,照射在柱面镜(22)上,再经过整形光阑(23)的整形后进入到柱透镜(24)中,最后照射在掩膜板(30...
【专利技术属性】
技术研发人员:涂彬,梁磊,罗裴,段细云,王慧,曾菲虹,童晓玲,
申请(专利权)人:中山市精量光电子科技有限公司,中山市武汉理工大学先进工程技术研究院,
类型:新型
国别省市:广东;44
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