一种具有磁铁结构的装置制造方法及图纸

一种具有磁铁结构的装置，具有凹坑结构的第一外壳和具有凸起的第二外壳，所述第一外壳内设置有环形分布的第一磁铁结构，所述第二外壳内设置有环形分布的第二磁铁结构，所述第一磁铁结构有至少2个磁铁单元与所述第二磁铁结构的至少2个磁铁单元向对应并可以相互吸附，所述第一外壳包括面向第二外壳的第一侧面具有凹坑结构与凹坑单元，所述第二外壳包括面向第一外壳的第二侧面具有凸起结构与凸起单元，所述第一外壳的第一侧面与第二外壳的第二侧面贴在一起时，所述凸起结构有至少2个凸起单元可以插入所述凹坑结构的对应的凹坑单元内，使得第一外壳与第二外壳难以相对滑动。

【技术实现步骤摘要】
一种具有磁铁结构的装置
本专利技术涉及一种包括分别具有凸起与凹坑结构的两个壳体的装置，通过两个壳体内的磁铁吸引作用实现贴紧，并且通过凸起与凹坑的配合实现两个壳体无法相对滑动的结构设计。
技术介绍
在生活中，经常需要将移动设备垂直或者倾斜、临时性、但是可靠地固定在某个位置，比如将手机固定在汽车的空调出风口。因此有人专利技术了可以调节的夹子结构通过夹持实现固定，又或者通过磁铁吸附设置在移动设备上的铁磁材料来实现固定。但是在实际情况中，夹子结构往往尺寸较大、外观丑陋、适配的移动设备尺寸有限制，而且夹子结构寿命较短，以及有时候需要双手操作。而磁铁吸附铁磁材料的方式，难以解决当与磁铁吸附力垂直的切向力出现时，导致移动设备与磁铁相对滑动，导致铁磁材料与磁铁远离进而吸附力减弱而最终移动设备脱落的现象。因此，需要提出一种体积小、适配范围广、可靠性高、寿命长、适合单手操作的适合移动设备临时固定的结构设计方法，符合社会的需求。
技术实现思路
本专利技术所述的装置具有凹坑结构的第一外壳和具有凸起的第二外壳；所述第一外壳包括面向第二外壳的第一侧面，所述第一侧面表面具有环形分布的、数量为2的倍数的凹坑结构，所述凹坑结构包括至少2个凹坑单元；所述第一外壳内设置有环形分布的第一磁铁结构，所述磁铁结构包括至少两个磁铁单元；所述第二外壳包括面向第一外壳的第二侧面，所述第二侧面表面具有环形分布的、数量为2的倍数的凸起结构，所述凸起结构包括至少2个凸起单元；所述第二外壳内设置有环形分布的第二磁铁结构，所述磁铁结构包括至少两个磁铁单元；所述第一外壳的第一侧面与第二外壳的第二侧面贴在一起时，所述凸起结构有至少2个凸起单元可以插入所述凹坑结构的对应的凹坑单元内，使得第一外壳与第二外壳难以相对滑动，且所述第一磁铁结构有至少2个磁铁单元与所述第二磁铁结构的至少2个磁铁单元向对应，且相互距离最短；在所述第一磁铁结构靠近所述第二磁铁结构的表面具有至少第一磁极A，所述第二磁铁结构靠近所述第一磁铁结构的表面具有至少第二磁极B，A与B为相反的磁极；所述凹坑结构在所述第一侧面的投影的轮廓的第一内切圆与第一外切圆之间的图形为第一环形，且所述第一内切圆与第一外切圆的圆心偏差小于4mm；所述第一磁铁结构在所述第一侧面的投影的轮廓的第二内切圆与第二外切圆之间的图形为第二环形，且第二内切圆与第二外切圆的圆心偏差小于4mm；所述第一环形与第二环形重叠或者相切，且第一环形与第二环形的质心偏差小于4mm；所述凸起结构在所述第二侧面的投影的轮廓的第三内切圆与第三外切圆之间的图形为第三环形，且所述第三内切圆与第三外切圆的圆心偏差小于4mm；所述第二磁铁结构在所述第二侧面的投影的轮廓的第四内切圆与第四外切圆之间的图形为第四环形，且第四内切圆与第四外切圆的圆心偏差小于4mm；所述第三环形与第四环形重叠或者相切，且第一环形与第二环形的质心偏差小于4mm。当所述第一壳体与第二壳体靠近时，所述的第一磁铁结构与第二磁铁结构就会相互吸引，并且随着第一壳体与第二壳体的距离越近吸引力也越大，以及随着第一磁铁结构与第二磁铁结构各自的磁铁单元对应的对数越多吸引力也越大；当所述第一壳体与第二壳体完全贴合，部分或者全部所述凸起单元就会插入所述凹坑单元内，实现第一壳体与第二壳体难以相对滑动的目的。有益效果是通过磁铁吸引力和凹坑与凸起的结合，实现了一种体积小、适配范围广、可靠性高、寿命长、适合单手操作的适合移动设备临时固定的结构。附图说明图1是本专利技术的实施例爆炸图。图2是本专利技术第一外壳的磁铁结构与凹坑结构的实施例。图3是本专利技术第二外壳的磁铁结构与凸起结构的实施例。图4是本专利技术第一外壳的凹坑单元的第一实施例。图5是本专利技术第二外壳的凸起单元的第一实施例。图6是本专利技术第二外壳的凸起单元的第二实施例。图7是本专利技术第二外壳的凸起单元的第三实施例。图8是本专利技术磁铁结构的磁铁单元的第一实施例。图9是本专利技术第一外壳与第二外壳贴紧时的实施例。具体实施方式为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，并不限定本专利技术的应用范围，对于本领域的普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，可以根据这些附图将本专利技术应用于其他类似场景；如本说明书和权利要求书中所示，除非上下文明确提示例外情形“一”、“一个”、“一种”和/或“该”等词语并非特指单数，也可以包括复数。一般来说，术语“包括”或“包含”仅提示包括已明确标识的步骤和元素，而这些步骤和元素不构成一个排它性的罗列，方法或者设备也可能包含其它的步骤或元素。术语“基于”是“至少部分地基于”。术语“一个实施例”表示“至少一个实施例”；术语“另一实施例”表示“至少一个另外的实施例”。如图1所示，本专利技术包括第一外壳1和第二外壳2，以及第一外壳1内的第一磁铁结构3和第二外壳2内的第二磁铁结构4，以及第一外壳1的第一侧面具有凹坑结构5和第二外壳2的第二侧面具有凸起结构6。所述第一磁铁结构3和第二磁铁结构4分别具有环形分布的磁铁单元31和41，所述凹坑结构5具有环形分布的凹坑单元51，所述凸起结构6具有环形分布的凸起单元61。如图2所示，第一外壳1的凹坑结构5在所述第一外壳1的第一侧面的投影的轮廓的第一内切圆52和第一外切圆53之间的图形为第一环形54，且所述第一内切圆52与第一外切圆53的圆心偏差小于4mm；所述第一磁铁结构3在所述第一外壳1的第一侧面的投影的轮廓的第二内切圆32与第二外切圆33之间的图形为第二环形34，且第二内切圆32与第二外切圆33的圆心偏差小于4mm；第一环形54和第二环形34重叠或者相切，且第一环形与第二环形的质心偏差小于4mm。所述凹坑结构5的凹坑单元51在空间中均匀分布。所述第一磁铁结构3的磁铁单元31在空间中均匀分布。如图3所示，第二外壳2的凸起结构6在所述第二外壳2的第二侧面的投影的轮廓的第三内切圆62和第三外切圆63之间的图形为第三环形64，且所述第三内切圆62与第三外切圆63的圆心偏差小于4mm；所述第二磁铁结构4在所述第二外壳2的第二侧面的投影的轮廓的第四内切圆42与第四外切圆43之间的图形为第四环形44，且第四内切圆42与第四外切圆43的圆心偏差小于4mm；第三环形64和第四环形44重叠或者相切，且第一环形与第二环形的质心偏差小于4mm。所述凸起结构6的凸起单元61在空间中均匀分布。所述第二磁铁结构4的磁铁单元41在空间中均匀分布。如图4所示，凹坑结构5的任意一对距离最远的两个凹坑单元511和512之间的距离D1的范围是20mm-60mm，任一凹坑的深度H1的范围是0.2mm-1.5mm，且任一凹坑在与高度H1垂直的平面上形成的横截面上最远两点之间的距离d1的范围是0.5mm-10mm。如图5所示，凸起结构6的任意一对距离最远的两个凸起单元611和612之间的距离D2的范围是20mm-60mm，任一凹坑的深度H2的范围是0.本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种具有磁铁结构的装置，其特征是，包括具有凹坑结构的第一外壳和具有凸起的第二外壳；/n所述第一外壳包括面向第二外壳的第一侧面，所述第一侧面表面具有环形分布的、数量为2的倍数的凹坑结构，所述凹坑结构包括至少2个凹坑单元；/n所述第一外壳内设置有环形分布的第一磁铁结构，所述磁铁结构包括至少两个磁铁单元；/n所述第二外壳包括面向第一外壳的第二侧面，所述第二侧面表面具有环形分布的、数量为2的倍数的凸起结构，所述凸起结构包括至少2个凸起单元；/n所述第二外壳内设置有环形分布的第二磁铁结构，所述磁铁结构包括至少两个磁铁单元；/n所述第一外壳的第一侧面与第二外壳的第二侧面贴在一起时，所述凸起结构有至少2个凸起单元可插入所述凹坑结构的对应的凹坑单元内，使得第一外壳与第二外壳难以相对滑动，且所述第一磁铁结构有至少2个磁铁单元与所述第二磁铁结构的至少2个磁铁单元向对应，且相互距离最短；/n在所述第一磁铁结构靠近所述第二磁铁结构的表面具有至少第一磁极A，所述第二磁铁结构靠近所述第一磁铁结构的表面具有至少第二磁极B，A与B为相反的磁极；/n所述凹坑结构在所述第一侧面的投影的轮廓的第一内切圆与第一外切圆之间的图形为第一环形，且所述第一内切圆与第一外切圆的圆心偏差小于4mm；/n所述第一磁铁结构在所述第一侧面的投影的轮廓的第二内切圆与第二外切圆之间的图形为第二环形，且第二内切圆与第二外切圆的圆心偏差小于4mm；/n所述第一环形与第二环形重叠或者相切，且第一环形与第二环形的质心偏差小于4mm；/n所述凸起结构在所述第二侧面的投影的轮廓的第三内切圆与第三外切圆之间的图形为第三环形，且所述第三内切圆与第三外切圆的圆心偏差小于4mm；/n所述第二磁铁结构在所述第二侧面的投影的轮廓的第四内切圆与第四外切圆之间的图形为第四环形，且第四内切圆与第四外切圆的圆心偏差小于4mm；/n所述第三环形与第四环形重叠或者相切，且第一环形与第二环形的质心偏差小于4mm。/n...

【技术特征摘要】
1.一种具有磁铁结构的装置，其特征是，包括具有凹坑结构的第一外壳和具有凸起的第二外壳；
所述第一外壳包括面向第二外壳的第一侧面，所述第一侧面表面具有环形分布的、数量为2的倍数的凹坑结构，所述凹坑结构包括至少2个凹坑单元；
所述第一外壳内设置有环形分布的第一磁铁结构，所述磁铁结构包括至少两个磁铁单元；
所述第二外壳包括面向第一外壳的第二侧面，所述第二侧面表面具有环形分布的、数量为2的倍数的凸起结构，所述凸起结构包括至少2个凸起单元；
所述第二外壳内设置有环形分布的第二磁铁结构，所述磁铁结构包括至少两个磁铁单元；
所述第一外壳的第一侧面与第二外壳的第二侧面贴在一起时，所述凸起结构有至少2个凸起单元可插入所述凹坑结构的对应的凹坑单元内，使得第一外壳与第二外壳难以相对滑动，且所述第一磁铁结构有至少2个磁铁单元与所述第二磁铁结构的至少2个磁铁单元向对应，且相互距离最短；
在所述第一磁铁结构靠近所述第二磁铁结构的表面具有至少第一磁极A，所述第二磁铁结构靠近所述第一磁铁结构的表面具有至少第二磁极B，A与B为相反的磁极；
所述凹坑结构在所述第一侧面的投影的轮廓的第一内切圆与第一外切圆之间的图形为第一环形，且所述第一内切圆与第一外切圆的圆心偏差小于4mm；
所述第一磁铁结构在所述第一侧面的投影的轮廓的第二内切圆与第二外切圆之间的图形为第二环形，且第二内切圆与第二外切圆的圆心偏差小于4mm；
所述第一环形与第二环形重叠或者相切，且第一环形与第二环形的质心偏差小于4mm；
所述凸起结构在所述第二侧面的投影的轮廓的第三内切圆与第三外切圆之间的图形为第三环形，且所述第三内切圆与第三外切圆的圆心偏差小于4mm；
所述第二磁铁结构在所述第二侧面的投影的轮廓的第四内切圆与第四外切圆之间的图形为第四环形，且第四内切圆与第四外切圆的圆心偏差小于4mm；
所述第三环形与第四环形重叠或者相切，且第一环形与第二环形的质心偏差小于4mm。


2.如权利要求1所述的具有磁铁结构的装置，其特征是，任一凹坑单元到距离其最远的另一凹坑单元的最短距离为D1，D1的范围是20mm-60mm，且任一凹坑单元从所述第一侧面表面下沉的深度为H1，H1的范围是0.2mm-1.5mm，且任一凹坑单元在任意与高度H1垂直...

【专利技术属性】
技术研发人员：邢益涛，
申请(专利权)人：邢益涛，
类型：新型
国别省市：广东;44