一种脉冲微波强化高压低温等离子体化学反应装置制造方法及图纸

一种脉冲微波强化高压低温等离子体化学反应装置，其特征在于：该装置由波导－同轴转换（１）、同轴腔（２）、带重入柱的ＴＭ↓［０１０］谐振腔（３）连接构成；同轴腔（２）的内导体（２１）深入到ＴＭ↓［０１０］谐振腔（３）中，并通过高压引入结构（２２）引入等离子体激发电压。本实用新型专利技术可以使等离子体得到有效控制，从而可以实现等离子体化学合成的产业化。（*该技术在2010年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及化学反应器，特别提供了一种脉冲微波强化高压低温等离子体化学反应装置。与常规直流电弧、高频等离子体相比，微波等离子体具有反应活性高、能量利用率高、纯净无电极污染且密度高等特点，在进行化学合成、材料表面改性等方面有着独特的优势，适用于作高纯度物质的制备和处理，而且工艺效率更高。微波等离子体按其工作压力可以分为低气压(小于760Torr)和高气压(大于760Torr)两种。低气压微波等离子体在薄膜沉积、等离子刻蚀等领域已得到广泛应用，但负压工作条件却无法适用于诸如天然气直接转化、有毒有害工业废气净化等工业应用。为了满足大规模的等离子体化学合成、及发展新型光源的需要，人们在近20年中已经专利技术了多种高气压微波等离子体的激励技术，概括起来主要有以下几种(1)电容耦合微波等离子体的激励技术(CMP)；(2)同轴基表面波微波等离子体的激励技术(Surfatron)；(3)波导基表面波微波等离子体的激励技术(Surfaguide)；(4)TM010谐振腔(MIP)微波等离子体的激励技术。但从化学反应的角度来看，这些传统的高气压微波等离子体激励技术并不适合应用于大多数化学反应，因为几本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种脉冲微波强化高压低温等离子体化学反应装置，其特征在于：该装置由波导一同轴转换（１）、同轴腔（２）、带重入柱的ＴＭ↓［０１０］谐振腔（３）连接构成；同轴腔（２）的内导体（２１）深入到ＴＭ↓［０１０］谐振腔（３）中，并通过高压引入结构（２２）引入等离子体激发电压。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张劲松，杨永进，张军旗，刘强，沈学逊，
申请(专利权)人：中国科学院金属研究所，
类型：实用新型
国别省市：89[中国|沈阳]