一种高密着性MLCC制程用离型膜基膜及其制备方法技术

本发明专利技术公开一种高密着性MLCC制程用离型膜基膜及其制备方法，该发明专利技术产品包括第一层、第二层和第三层，所述第三层的表面涂布有第三层涂布液，所述第三层涂布液的成分及重量份如下：1.5重量份～12重量份的树脂，0.01重量份～0.1重量份的N,N‑二甲基乙醇胺，0.1重量份～1重量份的表面活性剂，0.01重量份～0.5重量份的消泡剂，0.05重量份～1重量份的固化剂，本发明专利技术产品在第三层涂布所使用的树脂经果交联后形成致密的树脂层，可有效阻隔低聚物，防止进入到离型层，降低残余黏着力。

【技术实现步骤摘要】
一种高密着性MLCC制程用离型膜基膜及其制备方法
本专利技术属于聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜及其制备领域，尤其涉及一种高密着性MLCC制程用离型膜基膜及其制备方法。
技术介绍
应用于MLCC制造的聚酯膜材料，它作为MLCC制程的耗材的基础材料。因聚酯薄膜具有低粗糙度、耐热性，在MLCC生产过程中起到支撑作用。在此领域许多研究者采用不同方法来解决聚酯基膜表面的粗糙度及加工性。聚酯薄膜通常是以聚酯为主要原料，采用挤出法制成厚片，再经过纵横双向拉伸制成的薄膜材料。目前聚酯薄膜都采用微米级的无机填料，部分解决了表面性能，但是产品的表面粗糙度Ra仍然大于45nm，翘曲验证，挺度低，并且涂布离型剂后，易转移等问题，无法达到后续用户小尺寸MLCC产品对聚酯薄膜的表面粗糙度、翘曲度、挺度、高密着性等的要求。中国专利CN200480023794.8光学用易胶粘性聚酯薄膜及光学用层叠聚酯薄膜，该专利技术公开了一种能够抑制荧光灯下虹彩状色彩，而且与硬涂层的密着性、高温高湿下的密着性(耐湿热性)优良的光学用胶粘性聚酯薄膜。在双向拉伸聚酯薄膜的至少一面上，涂本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高密着性MLCC制程用离型膜基膜，包括第一层、第二层和第三层，其特征在于，所述第三层的表面涂布有第三层涂布液，所述第三层涂布液的成分及重量份如下：/n

【技术特征摘要】
1.一种高密着性MLCC制程用离型膜基膜，包括第一层、第二层和第三层，其特征在于，所述第三层的表面涂布有第三层涂布液，所述第三层涂布液的成分及重量份如下：



所述的树脂包括丙烯酸、聚酯、聚氨酯，所述丙烯酸、所述聚酯及所述聚氨酯的重量比介于(10～50)：(10～50)：(10～100),所述第二层包含快速结晶料，所述快速结晶料的成分及重量份如下：
无机纳米粒子0.05重量份～0.5重量份
聚酯20重量份～80重量份
所述无机纳米粒子包含纳米二氧化硅、纳米硫酸钡、纳米碳酸钙；所述聚酯包含PET、APET、CPET中一种。


2.根据权利要求1所述的高密着性MLCC制程用离型膜基膜，其特征在于，所述第三层涂布液的pH值介于7.5～10，所述第三层涂布液的粒径介于10nm～200nm，所述第三层涂布液的玻璃化转变温度介于30℃～85℃，所述第三层涂布液的断裂伸长率介于300％～800％。


3.根据权利要求1所述的高密着性MLCC制程用离型膜基膜，其特征在于，所述表面活性剂为改性有机硅氧烷。


4.根据权利要求1所述的高密着性MLCC制程用离型膜基膜，其特征在于，所述流平剂为异丙醇。


5.根据权利要求1所述的高密着性MLCC制程用离型膜基膜，其特征在于，所述消泡剂为有机硅聚醚共聚物。


6.根据权利要求1所述的高密着性MLCC制程用离型膜基膜，其特征在于，所述固化剂为水分散异氰酸盐和异氰酸酯。


7.一种制备如权利要求1-6任一所述的高密着性MLCC制程用离型膜基膜的方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤S1：将第一层的原材料运送至第一挤出机，所述第一层成分及重量份如下：
第一层聚酯基料50重量份～90重量份
第一层聚酯母料10重量份～50重量份
所述第一层聚酯母料的粒径为2um以下；将第二层聚酯基料运送至第二挤出机；将第三层的原材料运送至第三挤出机，所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：李明勇，王强，刘小东，辛嘉庆，孙艳斌，梁雪芬，程凡宝，李宇航，石少进，
申请(专利权)人：江苏东材新材料有限责任公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32