用于分析干式化学测试元件的方法和装置制造方法及图纸

技术编号:2620933 阅读:219 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
用于分析干式化学测试元件的方法和装置,特别是免疫测试元件,通过光学扫描分析干式化学测试元件,测量光束离开载有一种或多种固定化光活性物质的测试元件化验区,通过检测器检测各自测量光强度。包括步骤:第一化验区光学扫描过程中,第一测量光强度的测量光束离开第一化验区,根据扫描参数的第一设置选择扫描参数,对检测器装置的工作范围和照射到其上测量光束的第一光量,相对彼此进行调整,第二化验区光学扫描过程中,区别于第一测量光强度的第二测量光强度测量光束离开第二化验区,根据区别于扫描参数第一设置的扫描参数第二设置选择扫描参数,对检测器装置的工作范围和照射到其上的测量光束第二光量,相对于彼此进行调整。

【技术实现步骤摘要】
用于分析干式化学测i^;件的方法和^g狱领域本专利技术涉朋于分析干式化学i斷件的方法和鍾,篇免疫测淑件。 背景狱本技术用于化验(assay)装载干式化学观Ji^件的一种或多种分析物。为此 目的,在测淑件上形成多个化验区域,如条形、圆形叙形,根据化i^f需液 ,品的用量在鹏区嫩只聚一种或多种分丰斶(如US 6,707,554 Bl)。通常分析 物直接被标记,从而以备随后干式化学卿K^件的光学分析。干式化学测i^i件 的准备还可以包括禾,缓冲溶液、 、 液 或冲冼。 :tig,干式化学 测i^;件可以皿光学扫描而被分析,从而确定观!H^i件的化验区中一种或多种 特定分丰斶的雜。光学扫描,中,扫描化验区产生的测S^束离开4^区后可ffi3i1tiim 测。Mimtl鹏i^^产生测1^,其一部分利用魏的单顿多色光源产生, ^^述化验区载有待测光活性物质。在鹏区,须B^e^的光与光活性物质相互 作用,导致测i魏束的光学l4M发生相应的变化,作为观S^m离开化验区。当 施加测i^^时,娜、^S^戯光tN"用于分析测l^的光学M。测散 束也可以基于化验区的光活性物质的发光。随着测默束离开各自的化验区后测歡§雖可能会随分析的化验区的不同 而不同。例如,测^^在各自鹏区产生的荧光会以不同的《M^:出,这可是 例如待测分析物浓度的指示。发出的顶!B3fe强度与观察的化验区的光吸收范围尤 期眹。如荧光化验,它的范围与荧光肝浓度尤期眹。干式化学测贩件的光学扫描期间,iKl例如澳'K^件和检lll^g^捡测 测量,,或测i^&束和光,+树于彼此而榭奂,从而光学分析一个又一个化 验区。根据已知的光学扫描禾聘,在开始扫描前设^^3描織,然后开始扫 描。通常设定检测^CT的度定扫^ES和曝光时间。如mM干式化学ll^^件 上的化验区鄉弓破不同的测散,会产生有的区鄉ijfi^艘较低的问题,一 舰应于较低浓度的待测分鹏,—些清况下,扫^IM:麵实际上不能收集到适于分析物的检测信号。在其他W^:浓度分,的区域,离开化验区的测量舰的光^X太麵吏当鹏描驗下微^SSg负荷。
技术实现思路
本专利技术的目的在于衝共在一种用于分析干式化学沸K^件的方法和装置,其 中即便在载有待测光活性物质的检测元件的化验区具有不同光学活性时也肖嫩利 用光翔描实现优化分析。根据本专利技术,鹏蚊权利要求l的用于分析干式化学测細牛的方法禾卿 ^l利要求12的用于分析干式化学观^f;件的體实l^专利技术的目的。也麟了 用于进fri会断药物测试的方法和體。本专利技术的雌实施例形成了/AM权利要求 中的主要内容。根据本专利技术的一个方面,这里,一种分析干式化学测^;件的方法,尤其 免疫学测i玩件,其中利用光對3描分析干式化学测i^;件,由此,测量棘离 开测贩件的化验区,所述化验区载有一种或多种固定的光活性物质,禾佣检测 器装置检测各测量光 M,戶/M的方^^括以下步骤第一B区光学扫描战呈 中,具有第一测fi^贩的观^^^开織一鹏区,根据扫描織的第一设S^择扫描参数,对检测,置的工作范围和照射到检测 置的测1^的第 —光量,相对于彼jtbia糊整,和第二化验区光学扫描纖中,具有区别于第一 测量光^l的第二测量光纟M的须!)ft^束离开第二化验区,根据区别于扫描参数 的第一设置的扫描参数的第二^g^择扫描Mt对检观J^S的工作范围和照 射到检测l^g的测S^的第二爐,舰于彼鹏预整。根据本专利技术另一个的方面,麟了一种用于舰光對3描分析干式化学测试 元件的装置,絲免疫学观iji^i件,该縫舰魏,用于保if用于^3描 分析的干式化学测贩件,检tJ^S,用于检测离开微区盼测fi^,戶腐 化验区载有一种或多种固定的光活性物质,并具有相应的测歡 艘,禾啦帝蝶 置,用于按如下方继制千式化学测i^;件的光對3描第一化验区光對3描过 程中,具有第一测量光弓贩的顶ijl^^开織一化验区,根据扫描参数的第一 设置选择扫描参数,对检I,置的工作范围和照射到检泖J^g的测fi^束的 第一光量,相对于彼雌fi^整,和第二化验区光^3描ai呈中,具有区别于第 一测量光 雖的第二测^^贩的测fi^离开第二化验区,根据区别于扫描参 数的第一设置的扫描参数的第二^2^f扫描参数,对检l!l^置的工作范围和照朝至|脸 §的测*^的第二 ,相对于《^i^彌整。根据本专利技术,在分析干式化翔斷件的扫描雖中, 也调魁顿 用的测量系统的光對3描'M,特别是光学元件,4媒与正在分析的化验区的光 活性相适应。控制照射至IJ检顶^g的测fi^的^fi,使得检测器总;K作在 予跌规定的工作范围。所虹作范围是为检测驢予跌规定的,如发光二极管, 发光二极管^电倍增器的二维设置,并可M检测器适当的电布线有选掛也设 置。检测器装置的工作范围, 一般为检观離产生的电信号与照射的光ft^性相关的范围,检测^g^J见清晰并可重现的行为。如果照朝至iMi螺表面的^MIg 出检测器工作范围,也就是鹏范围,"^会因为照谢的jfel^:低而观测不到输 出信号,棘是检坝幡超负荷导致1:顿喊非线性。在这种膚况下,即使电输出信 号能与检测器噪音区分,iJ5^隹以甚至不可倉調于iff古以分l腺化验。如果是已 知化验装置可再现的响应功能,并允许iff古产生的输出电信号,非线性范围也可 指定为检测^g的工作范围。测量光^T3Iil特别^iM光束、gM、 t^t光^Mt,的形^测。至于选择分析明附aw光学'顿可舰具將虑包^m^分析物的干式化学测貌件的性质来决定。娜、CT或舰棘是由于施加在化验区的测试 光束产生的,所述测i^^与含有固定的光活性物质的化验区相互作用,源于产 生了相应变化的测量光束。然而,^^^6對3描中也可肖^生荧光和m形式 的皿M。财卜,光学扫描可包括来自化验区的, 的检测,i^P分是 由于生物发光、化学发舰电化学发光。生物发^^化学发光的情况下,添加物 质并M f機区的光活性物MM^:光(luminescence)方式的^^鄉。相反, 电化学发光是基于向干式化学测i^^m^区鄉电能,以^t活性物质进行发 光。在本方法的实施例中给出了为雌区鄉电能的魏方式,如一个或多个电 极。光活性物质由一种或多种固定在测^:件上的试剂鹏产生,腿的^S可能^合反应或化学,。准备光^g描MfOT观^i件期间的,的结果是,产生具备可用于光学扫描'M的光活性物质。结合M^T能为例如免麟合腿 ,化皿。这种反应或化学Mi^J能会发生多次。皿一个或多个结合^, —个或多个固定在测i玩件的试齐阿以被间接丰祝。 一个或多1S^剂的^^也可 能会,硫的试剂的结合。对于根据扫描参,一^S的扫描,和根据扫描M^二^S的扫描参数之间的转变,可以提供一个或多个措施(measure),从而将照射至l脸测,置的 测量光束的光量相应體至IJ^PI幡的工作范围。这鹏施也包括如在测1^^'J 检U^e路径中插A^出滤光片。隔膜(diaphragm)的JOT也Jlf共了范例。 理论上,可利用任何措l^l5根据检i^M的工作范围调^ 射至'Mi麟置的测量光束的^S。在一实施例中甚至可以ffl^OT检U^置的电布,改n作范围,这样又一次可以实JlMM的^fi和工作范围间的配合。皿实施例, 在这种连接方式中,放大系数可改变本文档来自技高网
...

【技术保护点】
一种分析干式化学测试元件的方法,尤其免疫学测试元件,其中利用光学扫描分析干式化学测试元件,由此,测量光束离开测试元件(1;20;30;50)的化验区(21;41;51),所述化验区(21;41;51)载有一种或多种固定的光活性物质,利用检测器装置(4)检测各测量光强度,所述的方法包括以下步骤: 第一化验区光学扫描过程中,具有第一测量光强度的测量光束离开该第一化验区,根据扫描参数的第一设置选择扫描参数,对检测器装置(4)的工作范围和照射到检测器装置(4)的测量光束的第一光量,相对于彼此进行调整,和 第二化验区光学扫描过程中,具有区别于第一测量光强度的第二测量光强度的测量光束离开第二化验区,根据区别于扫描参数的第一设置的扫描参数的第二设置选择扫描参数,对检测器装置(4)的工作范围和照射到检测器装置(4)的测量光束的第二光量,相对于彼此进行调整。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:E亨德勒C埃芬豪泽N奥兰特
申请(专利权)人:霍夫曼拉罗奇有限公司
类型:发明
国别省市:CH[瑞士]

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1
相关领域技术
  • 暂无相关专利