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一种珠宝抛光打磨一体机制造技术

技术编号:26191878 阅读:25 留言:0更新日期:2020-11-04 04:24
本实用新型专利技术涉及金属工具加工设备技术领域,且公开了一种珠宝抛光打磨一体机,底板的上表面活动连接有方块,方块上表面的中部开设有凹槽,凹槽的上表面固定连接有缓冲棉,缓冲棉的上表面固定连接有光滑垫,当使用者对珠宝进行抛光打磨时,为了防止因珠宝的外部与凹槽的外部直接接触而导致珠宝打磨抛光不均匀的现象出现,在凹槽的外表面固定连接缓冲棉以及在缓冲棉上表面固定连接光滑垫能使珠宝在抛光打磨过程中珠宝的表面受到的摩擦力减小以及让珠宝在抛光打磨过程中与凹槽接触的更切合,珠宝表面抛光打磨的更光滑圆润,极大的避免了珠宝抛光打磨不均匀现象,从而降低珠宝抛光打磨返工率,提高了珠宝的质量。

【技术实现步骤摘要】
一种珠宝抛光打磨一体机
本技术涉及金属工具加工设备
,具体为一种珠宝抛光打磨一体机。
技术介绍
珠宝有广义与狭义之分,狭义的珠宝单指玉石制品,广义的珠宝应包括金、银以及天然材料(矿物、岩石、生物等)制成的,具有一定价值的首饰、工艺品或其他珍藏统称为珠宝,故古代有“金银珠宝”的说法,把金银和珠宝区分出来;随着社会和经济的发展,除了天然宝石和人工宝石外,珠宝的概念应该扩大包含到金、银、首饰等。经营这些物品的行业统称为“珠宝行业”,随着珠宝首饰行业竞争的不断加剧,大型企业间资本运作日趋频繁,国内优秀的珠宝首饰生产企业愈来愈重视对行业市场的研究,特别是对企业发展环境和客户需求趋势变化的深入研究,目前市面上的珠宝抛光机都是抛光与打磨需要分开或者需要换部件达到抛光打磨效果,操作起来过于麻烦,以及珠宝固定过程中会与固定槽产生摩擦导致抛光打磨不均匀,珠宝抛光打磨后返工率高。
技术实现思路
(一)解决的技术问题针对现有技术的不足,本技术提供了一种珠宝抛光打磨一体机,具备一体抛光打磨、防磨损、碎屑回收等优点,解决了目前市面上的珠宝抛光机都是抛光与打磨需要分开或者需要换部件达到抛光打磨效果,操作起来过于麻烦,以及珠宝固定过程中会与固定槽产生摩擦导致抛光打磨不均匀,珠宝抛光打磨后返工率高的问题。(二)技术方案为实现上述一体抛光打磨、防磨损、碎屑回收目的,本技术提供如下技术方案:一种珠宝抛光打磨一体机,包括底板,底板为长方体底板,底板的右侧固定连接有斜板,斜板为三棱柱,底板上表面的左侧固定连接有竖板,竖板为长方体竖板,竖板右侧的中部固定连接有抛光机机体,竖板的右侧远离底板的顶部固定连接有打磨机机体,底板的上表面远离竖板的一侧固定连接有挡板,底板的上表面固定连接有长块,长块为四棱柱,长块的两侧分别与竖板和挡板固定连接,底板的上表面活动连接有方块,方块的内部开设有内槽,内槽与长块大小相适应,方块的内部靠近上表面的一侧开设有凹槽,凹槽为锥形槽,方块的内部靠近下表面的一侧开设有底槽,底槽为方形槽,凹槽于底槽位置相对应,底槽的内部固定连接有收集箱,收集箱为方形箱,收集箱与底槽的大小相适应,收集箱的正面靠近底板的一侧活动连接有推板,推板为方形板,方块的内部开设有滑槽,滑槽为圆柱体,滑槽的顶部与凹槽的底部相通,滑槽的底部与收集箱的顶部相通,凹槽的上表面固定连接有缓冲棉,缓冲棉的上表面固定连接有光滑垫。优选的,所述底板为长方体。优选的,所述斜板为三棱柱。优选的,所述竖板为长方体。优选的,所述长块为四棱柱。优选的,所述内槽与长块大小相适应。优选的,所述凹槽为锥形槽。优选的,所述底槽为方形槽,收集箱为方形箱,收集箱与底槽的大小相适应。优选的,所述滑槽为圆柱体。优选的,所述滑槽的顶部与凹槽的底部相通。优选的,所述滑槽的底部与收集箱的顶部相通。(三)有益效果与现有技术相比,本技术提供了一种珠宝抛光打磨一体机,具备以下有益效果:1、该珠宝抛光打磨一体机,通过凹槽的上表面固定连接有缓冲棉,缓冲棉的上表面固定连接有光滑垫,当使用者对珠宝进行抛光打磨时,为了防止因珠宝的外部与凹槽的外部直接接触而导致珠宝打磨抛光不均匀的现象出现,在凹槽的外表面固定连接缓冲棉以及在缓冲棉上表面固定连接光滑垫能使珠宝在抛光打磨过程中珠宝的表面受到的摩擦力减小以及让珠宝在抛光打磨过程中与凹槽接触的更切合,珠宝表面抛光打磨的更光滑圆润,极大的避免了珠宝抛光打磨不均匀现象,降低了珠宝抛光打磨的返工率。2、该珠宝抛光打磨一体机,通过方块的内部开设有内槽,内槽与长块大小相适应,内槽与长块活动连接,方块可凭借内槽在长块上横向移动,便于在使用者对珠宝进行不同的操作时可以直接通过移动方块来实现,节省了对珠宝不同操作重新拆卸安装的时间。3、该珠宝抛光打磨一体机,在使用者对珠宝进行不同的操作移动方块时,方块在移动到底板右侧时,会被挡板挡住,防止方块在移动过程中从底板上表面脱落后摔坏,影响机器的正常使用。4、该珠宝抛光打磨一体机,通过方块的内部开设有滑槽,滑槽的内部分别与与凹槽和收集箱的内部相通,当使用者对珠宝进行抛光打磨时,珠宝打磨后产生的碎屑会光滑垫顺着滑槽进入收集箱中,更便于珠宝打磨师对珠宝打磨碎屑的收集。5、该珠宝抛光打磨一体机,收集箱305的正面活动连接有推板306,使用者可以通过推开推板306从收集箱305中收取抛光打磨碎屑,节约了使用者收集、清理碎屑的时间。附图说明图1为本技术的正视结构示意图;图2为本技术图1中A处的局部放大结构示意图;图3为本技术图1中方块3的侧视结构示意图。图中:1底板、101斜板、102挡板、103长块、2竖板、201抛光机机体、3方板、301凹槽、302缓冲棉、303光滑垫、304滑槽、305收集箱、306推板、307内槽、308底槽、4打磨机机体。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。请参阅图1-3,本技术一种技术方案:一种珠宝抛光打磨一体机,包括底板1,底板1为长方体板,底板1的右侧固定连接有斜板101,斜板101形状为三棱柱,斜板101用于控制机器的运作,底板1上表面的左侧固定连接有竖板2,竖板2为长方体板,竖板2右侧的中部固定连接有抛光机机体201,抛光机机体201用于对珠宝进行抛光,竖板2的右侧固定连接有打磨机机体4,打磨机机体4位于竖板2的上侧,打磨机机体4用于对珠宝进行打磨,底板1的上表面远离竖板2的一侧固定连接有挡板102,底板1的上表面固定连接有长块103,长块103为四棱柱,长块103的两端分别与竖板2和挡板102固定连接,底板1的上表面活动连接有方块3,方块3的内部开设有内槽307,内槽307与长块103大小相适应,内槽307与长块103活动连接,方块3可凭借内槽307在长块103上横向移动,便于在使用者对珠宝进行不同的操作时可以直接通过移动方块3来实现,方块3在移动到底板1右侧时,会被挡板102挡住,防止方块3在移动过程中从底板1上表面脱落,方块3的上表面开设有凹槽301,凹槽301为锥形槽,方块3的内部开设有底槽308,底槽308位于内槽307的上方,底槽308为方形槽,凹槽301位于底槽308的上方,底槽308的内部固定连接有收集箱305,收集箱305为方形箱,收集箱305与底槽308的大小相适应,收集箱305的正面活动连接有推板306,推板306为方形板,推板306的设立便于使用者通过推开推板回收从滑槽304进入收集箱305的珠宝抛光打磨时产生的碎屑,方块3的内部开设有滑槽304,滑槽304为圆柱体,滑槽304的内部与凹槽301和收集本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种珠宝抛光打磨一体机,包括底板(1),底板(1)上表面的左侧固定连接有竖板(2),竖板(2)右侧的中部固定连接有抛光机机体(201),竖板(2)的右侧固定连接有打磨机机体(4),打磨机机体(4)位于竖板(2)的上侧,其特征在于:所述底板(1)的上表面活动连接有方块(3),方块(3)内部靠近上表面的一侧开设有凹槽(301),凹槽(301)的上表面固定连接有缓冲棉(302),缓冲棉(302)的上表面固定连接有光滑垫(303)。/n

【技术特征摘要】
1.一种珠宝抛光打磨一体机,包括底板(1),底板(1)上表面的左侧固定连接有竖板(2),竖板(2)右侧的中部固定连接有抛光机机体(201),竖板(2)的右侧固定连接有打磨机机体(4),打磨机机体(4)位于竖板(2)的上侧,其特征在于:所述底板(1)的上表面活动连接有方块(3),方块(3)内部靠近上表面的一侧开设有凹槽(301),凹槽(301)的上表面固定连接有缓冲棉(302),缓冲棉(302)的上表面固定连接有光滑垫(303)。


2.根据权利要求1所述的一种珠宝抛光打磨一体机,其特征在于:所述底板(1)上表面远离竖板(2)的一侧固定连接有挡板(102)。


3.根据权利要求1所述的一种珠宝抛光打磨一体机,其特征在于:所述底板(1)的上表面固定连接有长块(103),长块(103)的两端分别...

【专利技术属性】
技术研发人员:赵丽英
申请(专利权)人:杨韵宜
类型:新型
国别省市:贵州;52

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