基于增压气体电离室的剂量校准器中的校准偏置减小制造技术

对于功能性成像中的剂量校准，使用相同长寿命同位素的不同精密源以进行校准，从而避免必须将一个源从一个位置运送到另一位置。找到参考实验室处的基于气体电离室的剂量校准器对长寿命同位素的精密源与具有要用于成像的同位素的源的灵敏度的比率。在临床场所处，使用本地的基于气体电离室的剂量校准器对具有长寿命同位素的另一源的灵敏度的度量和来自远程的基于气体电离室的剂量校准器的比率，以确定本地的基于气体电离室的剂量校准器对放射性药物的同位素的灵敏度。要用于对患者进行成像的放射性药物的偏置和对应剂量基于被校准的放射性药物的活性。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基于增压气体电离室的剂量校准器中的校准偏置减小相关申请本专利文档要求2018年3月7日提交的序列号为62/639,649的美国临时专利申请在35U.S.C.§119(e)下的提交日的权益，该美国临时专利申请通过引用并入本文。
技术介绍
本实施例涉及用于功能性成像的剂量校准。剂量校准被提供以用于定量或其他功能性成像。正电子发射断层扫描（PET）和单光子发射计算机断层扫描（SPECT）是两种类型的功能性或核素成像。功能性成像使用放射性同位素或放射性示踪剂，以确定患者内的新陈代谢功能。检测来自放射性示踪剂的发射。从所检测到的发射重构活性浓度（即，来自不同位置的放射性示踪剂的浓度）。对于定量功能性成像，准确活性浓度和摄取值两者都是期望的。目标是提供没有系统（检测器和剂量校准器）可变性的全局基线，使得两个量中的任一个量中的患者随时间的任何所测量的改变由于新陈代谢原因而引起。所注入的活性是重要的量，不仅为了遵守处方剂量，而且用于在计算定量功能性成像中的摄取值时使用。基于气体电离室的剂量校准器提供剂量的测量结果。被应用于患者的液体同位素（放射性示踪剂或放射本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种针对功能性成像系统的剂量校准的方法，所述方法包括：/n利用第一位置处的第一剂量校准器（20）测量（30）第一同位素的第一源的第一活性；/n根据所述第一活性确定（31）第一表盘设置；/n利用所述第一位置处的第一剂量校准器（20）测量（32）第二同位素的第二源的第二活性，所述第二同位素比所述第一同位素相对短寿命；/n根据所述第二活性确定（33）第二表盘设置；/n利用第二位置处的第二剂量校准器（24）测量（34）所述第一同位素的第三源的第三活性，所述第二位置是与所述第一位置不同的临床或药物场所；/n根据所述第三活性确定（35）第三表盘设置；/n根据所述第三表盘设置以及所述第一表盘设置与所述第...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180307 US 62/6396491.一种针对功能性成像系统的剂量校准的方法，所述方法包括：
利用第一位置处的第一剂量校准器（20）测量（30）第一同位素的第一源的第一活性；
根据所述第一活性确定（31）第一表盘设置；
利用所述第一位置处的第一剂量校准器（20）测量（32）第二同位素的第二源的第二活性，所述第二同位素比所述第一同位素相对短寿命；
根据所述第二活性确定（33）第二表盘设置；
利用第二位置处的第二剂量校准器（24）测量（34）所述第一同位素的第三源的第三活性，所述第二位置是与所述第一位置不同的临床或药物场所；
根据所述第三活性确定（35）第三表盘设置；
根据所述第三表盘设置以及所述第一表盘设置与所述第二表盘设置的比率确定（37）所述第二同位素的放射性药物（26）的第四表盘设置；
测量（36）所述放射性药物（26）的第四活性；以及
利用所述第四表盘设置对所述第四活性进行校准（39）。


2.如权利要求1所述的方法，其中测量（30、34）第一和第三活性包括：在第一和第三源具有根据高纯度锗检测器而确定的活性水平的情况下进行测量（30、34）。


3.如权利要求1所述的方法，其中测量（30、34）第一和第三活性包括：在第一和第三源属于相同第一同位素的不同样本的情况下进行测量（30、34）。


4.如权利要求1所述的方法，其中测量（30、34）第一和第三活性包括在第一和第三源分别被保持在第一和第二剂量校准器（20、24）内的相同位置中的情况下进行测量（30、34），并且测量（32、36）第二和第四活性包括在第二源和放射性药物（26）分别被保持在所述第一剂量校准器（20）和第三剂量校准器内的相同位置中的情况下进行测量（32、36）。


5.如权利要求1所述的方法，其中测量（30、32）所述第一位置处的第一和第二活性包括在参考实验室处进行测量（30、32）。


6.如权利要求1所述的方法，其中确定（31、33、35）第一、第二和第三表盘设置包括：分别基于所测量的第一、第二和第三活性以及第一、第二和第三源的参考活性来确定（31、33、35）灵敏度。


7.如权利要求1所述的方法，其中确定（37）第四表盘设置包括：针对正在针对患者的单光子发射计算机断层扫描（SPECT）成像而配发的放射性药物（26）确定（37）所述第四表盘设置。


8.如权利要求7所述的方法，其中校准（39）包括确定（38）针对所述放射性药物（26）的偏置，且进一步包括基于所述偏置、利用剂量对患者进行SPECT成像。


9.如权利要求1所述的方法，其中测量（36）第四活性包括：在所述放射性药物（26）具有所述第二同位素的样本的情况下测量（36）所述第四活性。


10.如权利要求1所述的方法，其中测量（32）第二活性包括：在所述第二同位素具有一周或更短的半衰期的情况下以及在所述第一同位素具有一年或更长的半衰...

【专利技术属性】
技术研发人员：M·巴塔查尔亚，
申请(专利权)人：美国西门子医疗系统股份有限公司，
类型：发明
国别省市：美国;US