深冷靶低温吸附抑制开启机构制造技术

本发明专利技术公开了一种深冷靶低温吸附抑制开启机构，用于在激光注入靶点前迅速将深冷靶直接暴露，包括：安装于所述悬臂基座上的电机驱动单元，包括驱动电机；安装于所述悬臂基座上的丝杆传动机构，包括运动架，用于将所述驱动电机的转动转化为所述运动架的前后向直线运动；以及前部防护部件，包括从内向外依次设置的、前端开口的低温活动屏和常温活动屏，以及具有导冷、导向作用的低温固定屏和常温固定屏。该深冷靶低温吸附抑制开启机构，低温活动屏和常温活动屏具有伸缩功能，即在对深冷靶进行有效保护，减少杂质气体和有机物质冷冻吸附到靶表面，又可在需要时快速地将深冷靶直接暴露于真空腔体环境内。

【技术实现步骤摘要】
深冷靶低温吸附抑制开启机构
本专利技术属于惯性约束聚变
，具体涉及一种深冷靶的吸附抑制机构。
技术介绍
惯性约束聚变是实现可控热核聚变的有效途径，是探索新能源的有效途径，也是当前发达国家争相占领的科技战略制高点，具有重大的现实及战略意义。相比于常规靶，深冷靶聚变产生的中子数有明显增加，是最有希望率先实现聚变的靶型。但是其目标的实现需要特定的极端物理条件：深冷靶需要保持18K以下超低温以保证靶处于冷冻状态，并需要其温度稳定。需要说明的是，为了稳定保持低温，在打靶前可采用屏蔽罩（如低温冷屏、常温冷屏幕等结构）对深冷靶进行保护并维持温度恒定尽量减少漏热，将深冷靶与真空腔体环境进行隔绝，对靶表面的低温吸附进行有效抑制，以减少真空腔体内杂质吸附于深冷靶表面。同时，在打靶、更换深冷靶时，需要将屏蔽罩在有限空间内快速开启，实现靶的快速暴露以减小温度波动，而且屏蔽罩的开启必须在有限空间内完成，同时在打开过程中，靶点的振动幅度小于±5μm；低温吸附抑制单元打开后，靶点的位置漂移小于5μm，并尽量避免开启动作对深冷靶造成干扰。r>目前，国内外已研本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种深冷靶低温吸附抑制开启机构，其特征在于，包括：悬臂基座（10）、安装于所述的悬臂基座（10）上的电机驱动机构和丝杆传动机构、以及位于所述的悬臂基座（10）前方的防护部件，所述的防护部件包括：位于后部的常温固定屏（15）、低温固定屏（16）以及位于前部的常温活动屏（17）、低温活动屏（18），所述的低温固定屏（16）从所述的悬臂基座（10）内伸出，所述的常温固定屏（15）安装于所述的悬臂基座（10）前部，所述的低温固定屏（16）位于所述的常温固定屏（15）的内部，所述的低温活动屏（18）位于所述的常温活动屏（17）的内部，所述的低温活动屏（18）可前后滑动的套设于所述的低温固定屏（16）...

【技术特征摘要】
1.一种深冷靶低温吸附抑制开启机构，其特征在于，包括：悬臂基座（10）、安装于所述的悬臂基座（10）上的电机驱动机构和丝杆传动机构、以及位于所述的悬臂基座（10）前方的防护部件，所述的防护部件包括：位于后部的常温固定屏（15）、低温固定屏（16）以及位于前部的常温活动屏（17）、低温活动屏（18），所述的低温固定屏（16）从所述的悬臂基座（10）内伸出，所述的常温固定屏（15）安装于所述的悬臂基座（10）前部，所述的低温固定屏（16）位于所述的常温固定屏（15）的内部，所述的低温活动屏（18）位于所述的常温活动屏（17）的内部，所述的低温活动屏（18）可前后滑动的套设于所述的低温固定屏（16）的外部，所述的常温活动屏（17）可前后滑动的套设于所述的常温固定屏（15）的外部，所述的低温固定屏（16）的内部设置有深冷靶（11），所述的常温活动屏（17）、低温活动屏（18）之间通过绝热固定部件（12）连接，所述的丝杆传动机构通过第一连杆（13）连接于所述的常温活动屏（17），工作状态下，所述的电机驱动机构驱动所述的丝杠传动机构，当所述的第一连接杆（13）带动所述的常温活动屏（17）、低温活动屏（18）向后行至后端时，所述的深冷靶（11）处于暴露开启状态，当所述的第一连接杆（13）带动常温活动屏（17）、低温活动屏（18）向前行至前端时，所述的深冷靶（11）处于密封关闭状态。


2.根据权利要求1所述的深冷靶低温吸附抑制开启机构，其特征在于，还包括位于所述的低温活动屏（18）前端的防护盖板（14），该防护盖板（14）通过第二连杆（21）安装于所述的常温固定屏（15）或所述的悬臂基座（10）上。


3.根据权利要求1所述的深冷靶低温吸附抑制开启机构，其特征在于，所述的电机驱动机构包括高速无刷电机（1）、...

【专利技术属性】
技术研发人员：黎军，雷海乐，刘喜川，代飞，王凯，林伟，漆小波，陶朝友，李喜波，刘元琼，
申请(专利权)人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心，
类型：发明
国别省市：四川;51