【技术实现步骤摘要】
一种基于空间聚类的waferbin合并方法
本专利技术涉及半导体制造业
,具体为一种基于空间聚类的waferbin合并方法。
技术介绍
wafer出厂后封装之前对chipdie进行一次CP(circuitprobing)测试,在bincode形成的waferbinmap中,记录了缺陷die的空间分布模式,有经验的工程师依据map的失效模式来识别潜在的工艺问题,但同一失效模式通常是由多个不同的bincode组成,现有的方式是通过人工视检来决定哪些bincode组成同一失效模式,这种模式既耗时又低效。
技术实现思路
针对现有技术的不足,本专利技术提供了一种基于空间聚类的waferbin合并方法,使用后,解决了按单bin分析时失效模式不完整的问题,为后续的良率根因中的共性分析提供了坚实的数据基础。为实现以上目的,本专利技术通过以下技术方案予以实现:一种基于空间聚类的waferbin合并方法包括以下步骤:S1、获取waferbinmap数据;S2、对waferbinmap数据按bin ...
【技术保护点】
1.一种基于空间聚类的wafer bin合并方法,其特征在于,包括以下步骤:/nS1、获取wafer bin map数据;/nS2、对wafer bin map数据按bin code进行分离,形成一个bin code对应一张wafermap的二值图像;/nS3、对上述S2中的二值图像进行中值滤波和膨胀处理,过滤随机性噪声,增强缺陷模式的图像信噪比;/nS4、对经过S3中降噪处理后的bin map按缺陷率进行降序排序,高于一定阈值的binmap予以保留,作为显著性的bin map;/nS5、将S4中显著性bin map列表排序为第一个的作为模板,其余bin map作为待合并项 ...
【技术特征摘要】
1.一种基于空间聚类的waferbin合并方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1、获取waferbinmap数据;
S2、对waferbinmap数据按bincode进行分离,形成一个bincode对应一张wafermap的二值图像;
S3、对上述S2中的二值图像进行中值滤波和膨胀处理,过滤随机性噪声,增强缺陷模式的图像信噪比;
S4、对经过S3中降噪处理后的binmap按缺陷率进行降序排序,高于一定阈值的binmap予以保留,作为显著性的binmap;
S5、将S4中显著性binmap列表排序为第一个的作为模板,其余binmap作为待合并项,遍历待合并项,依次计算其与模板binmap的相似值,判断相似值是否大于所设定的阈值,若是则进入S6,否则返回S4;
S6、将合并后的waferbinmap二值化后作为输出。
2.根据权利要求1所述的一种基于空间聚类的waferbin合并方法,其特征在于:所述步骤S2、S6中的二值化处理是:将wa...
【专利技术属性】
技术研发人员:谢箭,赵文政,刘林平,
申请(专利权)人:上海喆塔信息科技有限公司,
类型:发明
国别省市:上海;31
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