【技术实现步骤摘要】
集成光学器件、集成投射模组和集成光学器件的制作工艺
本专利技术涉及光学成像设备
，具体而言，涉及一种集成光学器件、集成投射模组和集成光学器件的制作工艺。
技术介绍
随着光学产业的快速发展，3D感测系统的功能越来越强大，已成为未来几年的产业大趋势。结构光投射模组用于向外投射结构化的图案，是3D感测系统的重要组成部分。该模组主要包括垂直腔面发射激光器和投射端镜头，而镜头又包括准直镜和衍射光学元器件。激光经过准直镜后形成均匀、平行的光束，在经过衍射光学元器件调制，形成散斑点云，投射在被测物体上；不同于结构光投射模组，飞行时间投射模组主要用于向外投射均匀光场，也是新兴的3D感测方案的主要部件。该部件主要由垂直腔面发射激光器和匀光片组成。垂直腔面发射激光器发射的激光通过匀光片调制，形成均匀的光场，投射到物体上。结构光方案与飞行时间方案有各自优劣，不同场景应用不相同，根据不同的应用场景，两种投射模式相互切换难以实现。也就是说，现有技术中存在结构光投射模式和飞行时间投射模式在不同应用场景下切换困难的问题。专利...
【技术保护点】
1.一种集成光学器件，其特征在于，包括依次叠置的保护层(10)、第一胶层(20)、第二胶层(30)和固定层(40)，所述集成光学器件还包括：/n衍射结构(21)；/n匀光结构(31)；/n其中，所述衍射结构(21)设置在所述第一胶层(20)上，所述匀光结构(31)设置在第二胶层(30)上，所述衍射结构(21)和所述匀光结构(31)向所述固定层(40)的投影不重合；或者所述衍射结构(21)设置在所述第二胶层(30)上，所述匀光结构(31)设置在第一胶层(20)上，所述衍射结构(21)和所述匀光结构(31)向所述固定层(40)的投影不重合。/n
【技术特征摘要】
1.一种集成光学器件，其特征在于，包括依次叠置的保护层(10)、第一胶层(20)、第二胶层(30)和固定层(40)，所述集成光学器件还包括：
衍射结构(21)；
匀光结构(31)；
其中，所述衍射结构(21)设置在所述第一胶层(20)上，所述匀光结构(31)设置在第二胶层(30)上，所述衍射结构(21)和所述匀光结构(31)向所述固定层(40)的投影不重合；或者所述衍射结构(21)设置在所述第二胶层(30)上，所述匀光结构(31)设置在第一胶层(20)上，所述衍射结构(21)和所述匀光结构(31)向所述固定层(40)的投影不重合。
2.根据权利要求1所述的集成光学器件，其特征在于，所述固定层(40)包括：
连接胶层(41)；
基底层(42)，所述第二胶层(30)通过所述连接胶层(41)与所述基底层(42)连接。
3.根据权利要求2所述的集成光学器件，其特征在于，
所述保护层(10)的材料包括聚对苯二甲酸乙二醇酯或玻璃中的一种；和/或
所述基底层(42)的材料包括聚对苯二甲酸乙二醇酯或玻璃中的一种；和/或
所述第一胶层(20)的折射率n1大于所述第二胶层(30)的折射率n2；和/或
所述第二胶层(30)的折射率n2小于所述连接胶层(41)的折射率n3；和/或
所述第一胶层(20)的厚度大于等于1微米且小于等于10微米；和/或
所述第二胶层(30)的厚度大于等于10微米且小于等于100微米；和/或
所述连接胶层(41)的厚度大于等于10微米且小于等于100微米。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的集成光学器件，其特征在于，所述衍射结构(21)是衍射光栅，
所述衍射光栅的线宽大于等于100纳米且小于等于500纳米；和/或
所述衍射光栅的深度大于等于500纳米且小于等于1500纳米。
5.根据权利要求1至3中任一项所述的集成光学器件，其特征在于，所述匀光结构(31)设置在所述第二胶层(30)上，所述匀光结构(31)包括多个微透镜(311)，多个所述微透镜(311)设置在所述第二胶层(30)靠近所述固定层(40)的一侧上，且所述微透镜(311)与所述固定层(40)连接，
所述微透镜(311)的高度大于等于3微米且小于等于50微米；和/或
所述微透镜(311)的直径大于等于3微米且小于等于50微米。
6.一种集成投射模组，其特征在于，包括：
权利要求1至5中任一项所述的集成光学器件(50)；
激光结构(70)，所述激光结构(70)设置在所述集成光学器件(50)的固定层(40)远离所述集成光学器件(50)的保护层(10)的一侧；
透镜(60)，所述透镜(60)设置在所述集成光学器件(50)与所述激光结构(70)之间，且所述透镜(60)与所述集成光学器件(50)的衍射结构(21)向所述激光结构(70)的投影至少部分重合；
投射结构(...
【专利技术属性】
技术研发人员：蔡胜，孙理斌，汪杰，陈远，
申请(专利权)人：宁波舜宇奥来技术有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33
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