用于包括指纹认证装置的有机发光二极管显示器的保护膜制造方法及图纸

技术编号:26168881 阅读:37 留言:0更新日期:2020-10-31 13:29
本发明专利技术公开了一种用于包括指纹认证装置(30)的有机发光二极管显示器(10)的保护膜(16)。保护膜(16)将覆盖部件(15)的表面覆盖起来。保护膜(16)具有平面内补偿值在25nm以下的基材层。因此,能够抑制误认证,生产效率高。

Protective film for organic light emitting diode display including fingerprint authentication device

【技术实现步骤摘要】
用于包括指纹认证装置的有机发光二极管显示器的保护膜
本专利技术涉及一种用于包括指纹认证装置的有机发光二极管显示器的保护膜。
技术介绍
近年来,智能手机、平板电脑等各种信息设备中,越来越多的机种通过在有机发光二极管(OLED:OrganicLightEmittingDiode)显示器上进行指纹认证来进行上锁与解锁(例如参照专利文献1)。在利用指纹并通过光学方式进行身份认证的光学式指纹认证装置中,用LED作光源对认证对象照射光,用图像传感器读取来自指纹面的反射光。在包括这样的光学式指纹认证装置的有机发光二极管显示器中,盖玻片经由防止外部光线映入的圆偏光片层叠在有机发光二极管面板上。当使用者将有机发光二极管显示器(或者是安装有有机发光二极管显示器的信息设备,以下统称为设备。)摔落在地,或者,使用者用力强烈地按压盖玻片时,盖玻片就有可能破损,掉落的碎玻璃片就有可能导致设备、有机发光二极管显示器破损。因此,为了防止上述盖玻片破损、破损时碎玻璃片四处掉落,而使用PET薄膜等保护膜覆盖盖玻片的表面。专利文献1:日本公开专利公报特开2018-88248号公报
技术实现思路
然而,因为现有的作指纹认证装置的保护膜用的PET薄膜都会经过单轴拉伸,所以其平面内补偿值(Re)高,会因双折射而产生相位差。这样一来,在利用指纹对光的反射量的不同这一特性的光学式指纹认证装置中,图像传感器所接收的光的量会因为保护膜与圆偏光片的位置关系而发生变化,结果发生误认证。为了防止发生这样的误认证,在对成为保护膜的母材进行冲裁加工并使加工出的尺寸与所使用的设备一样大时,需要确定角度而使薄膜的取向轴与圆偏光片的光轴一致,其结果就会有约30~40%的母材浪费掉。薄膜的取向轴与圆偏光片的光轴还会因冲裁加工的公差与薄膜的取向轴的公差等而发生偏移,也就会生产出发生了这样的偏移的不良品,结果是成品率下降。因此,本专利技术的目的,在于:提供一种用于包括指纹认证装置的有机发光二极管显示器的保护膜,使用该保护膜能够抑制误认证,该保护膜的生产效率良好。为了达成上述目的,本专利技术所涉及的用于包括指纹认证装置的有机发光二极管显示器的保护膜在包括指纹认证装置的有机发光二极管显示器中将覆盖部件的表面覆盖起来,该保护膜具有平面内补偿值在25nm以下的基材层。根据本专利技术所涉及的用于包括指纹认证装置的有机发光二极管显示器的保护膜,其基材层的平面内补偿值非常小,在25nm以下,因此难以发生由于双折射引起的相位差。因此,即使将其作为指纹认证装置的保护膜使用,图像传感器所接收的光的量也不易发生变化,结果是能够抑制误认证的发生。平面内补偿值低,因此基材层的取向所造成的影响小。因此,当对成为基材层的母材进行冲裁加工并使加工出的尺寸与所使用的设备一样大时,无需确定角度而使薄膜的取向轴与圆偏光片的光轴一致,故难以出现母材浪费这样的问题。也难以产生起因于薄膜的取向轴的公差的不良品,结果是能够抑制成品率下降。本专利技术所涉及的用于包括指纹认证装置的有机发光二极管显示器的保护膜可以是这样的:指纹认证装置包括:对认证对象照射光的光源、接收来自认证对象的反射光的图像传感器;有机发光二极管显示器还包括:有机发光二极管面板、设置在有机发光二极管面板的上侧的圆偏光片;覆盖部件设置在圆偏光片的上侧;指纹认证装置设置在有机发光二极管面板的下侧。这样一来,容易地即能够制成包括指纹认证装置的有机发光二极管显示器。需要说明的是,在使用本专利技术中的保护膜且包括指纹认证装置的有机发光二极管显示器中,将其可视侧称为上侧,将可视侧的相反侧称为下侧。本专利技术所涉及的用于包括指纹认证装置的有机发光二极管显示器的保护膜可以是这样的:在基材层的覆盖部件侧的面上设置有黏合层。这样一来,便很容易将保护膜安装在覆盖部件上。本专利技术所涉及的用于包括指纹认证装置的有机发光二极管显示器的保护膜可以是这样的:在基材层的与覆盖部件相反一侧的面上设置有硬涂层。这样一来,保护膜的强度便会提高。本专利技术所涉及的用于包括指纹认证装置的有机发光二极管显示器的保护膜可以是这样的:基材层以聚碳酸酯类树脂、丙烯酸类树脂、环烯烃类树脂或聚酯类树脂为主要成分。需要说明的是,上述“主要成分”为以质量为基准时最多的成分(例如50质量%以上)。这样一来,利用例如T模(T-Die)法等的已知方法,便能够制造出平面内补偿值较低的保护膜。需要说明的是,在将硬涂层或黏合层等层叠于基材层来形成保护膜的情况下,在层叠工序中热或张力(拉力)会施加于基材层,基材层的平面内补偿值因此而会发生变化。但毋容置疑,本专利技术中所叙述的“基材层的平面内补偿值”意指经过上述层叠工序形成了保护膜后的“基材层的平面内补偿值”。由于硬涂层与黏合层为非晶质而不具有取向性,因此平面内补偿值基本上不会因硬涂层或黏合层而发生变化。换句话说,将硬涂层或黏合层等层叠于基材层来形成保护膜的情况下的“保护膜整体的平面内补偿值”实质上与“基材层的平面内补偿值”相等。在层叠多个基材层来形成保护膜的情况下,毋容置疑,本专利技术中所叙述的“基材层的平面内补偿值”意指“形成保护膜的所有基材层的平面内补偿值之和”。举例而言,在按照从上到下的顺序依次层叠硬涂层、第一基材层、黏合层、第二基材层来形成保护膜的情况下,“基材层的平面内补偿值”为“第一基材层的平面内补偿值”与“第二基材层的平面内补偿值”之和。专利技术效果根据本专利技术,能够提供一种用于包括指纹认证装置的有机发光二极管显示器的保护膜,能够抑制误认证,生产效率良好。附图说明图1为使用实施方式所涉及的保护膜且包括指纹认证装置的有机发光二极管显示器之一例的结构简图;图2为示出图1所示的指纹认证装置的指纹认证原理的图;图3为示出图1所示的有机发光二极管显示器中的有机发光二极管面板和圆偏光片的示意图;图4为示出实施方式所涉及的保护膜的效果的图;图5为用于测量平面内补偿值的装置的结构简图;图6为示出实施例所涉及的保护膜的平面内补偿值与指纹认证成功率之间的关系的图。符号说明10-有机发光二极管显示器;11-有机发光二极管面板;11A-阴极;11B-阳极;12-光源;13-图像传感器;14-圆偏光片;14A-1/4波片;14B-直线偏光片;15-覆盖部件;16-保护膜;17-照射光;18-反射光;20-手指;21-外部光线;22-线偏振光;23-圆偏振光;24-圆偏振光;25-线偏振光;30-指纹认证装置。具体实施方式下面,参照附图说明本专利技术实施方式所涉及的用于包括指纹认证装置的有机发光二极管显示器的保护膜。需要说明的是,本专利技术的范围并不限于以下实施方式,能够在本专利技术的技术思想范围内任意地改变本专利技术的范围。图1为使用实施方式所涉及的保护膜且包括指纹认证装置的有机发光二极管显示器之一例的结构简图。图2为示出图1所示的指纹认证装置的指纹认证原理的图。图3为示出图1所示的有机发光二极本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于包括指纹认证装置的有机发光二极管显示器的保护膜,在包括指纹认证装置的有机发光二极管显示器中,由该保护膜将覆盖部件的表面覆盖起来,其特征在于:/n该保护膜具有平面内补偿值在25nm以下的基材层。/n

【技术特征摘要】
20190425 JP 2019-0842201.一种用于包括指纹认证装置的有机发光二极管显示器的保护膜,在包括指纹认证装置的有机发光二极管显示器中,由该保护膜将覆盖部件的表面覆盖起来,其特征在于:
该保护膜具有平面内补偿值在25nm以下的基材层。


2.根据权利要求1所述的用于包括指纹认证装置的有机发光二极管显示器的保护膜,其特征在于:
所述指纹认证装置包括对认证对象照射光的光源、接收来自所述认证对象的反射光的图像传感器;
所述有机发光二极管显示器还包括有机发光二极管面板、设置在所述有机发光二极管面板的上侧的圆偏光片;
所述覆盖部件设置...

【专利技术属性】
技术研发人员:古田旭寺本晃史
申请(专利权)人:惠和株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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