【技术实现步骤摘要】
一种用于物理气相沉积的球体零件镀膜夹具
本专利技术涉及物理气相沉积技术零件镀膜领域，具体涉及用于物理气相沉积的球体零件镀膜夹具。
技术介绍
物理气相沉积(简称PVD)是将金属、合金或化合物放在真空室中蒸发(或称溅射)，使这些气相原子或分子在一定条件下沉积在工件表面上的工艺。物理气相沉积可分为真空蒸镀、真空溅射和离子镀互类。与CVD相比，PVD法的主要优点是处理温度较低，沉积速度较快，无公害等，因而有很高的实用价值。随着物理气相沉积技术的发展，镀膜的夹具层出不穷，但是目前市场上还未出现针对球体零件的PVD涂层夹具，因为球体零件不易夹持固定，并且从固定位置对球体零件的球面进行涂层，涂层效果不好。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供，一种用于物理气相沉积的球体零件镀膜夹具，实现对球体零件的夹持和旋转喷涂。为了解决上述技术问题，本专利技术提供了一种用于物理气相沉积的球体零件镀膜夹具，包括分别固定在转炉杆上的上夹具和下夹具，所述上夹具包括套设在转炉杆上的基盘，所述基盘上设置有若干转盘轴承...
【技术保护点】
1.一种用于物理气相沉积的球体零件镀膜夹具，包括分别固定在转炉杆上的上夹具和下夹具，其特征在于，所述上夹具包括套设在转炉杆上的基盘，所述基盘上设置有若干转盘轴承，所述转盘轴承内设置有上支架；所述下夹具包括依次套设在转炉杆上的底盘、中盘和上盘，所述上盘固定在所述转炉杆上，所述上盘设置有与所述转盘轴承位置对应的转动柱，所述转动柱上设置有与所述上支架位置对应的下支架，所述底盘固定在上盘上，所述中盘夹在底盘和上盘之间，所述中盘能够相对于底盘和上盘转动，所述中盘的一侧设置有突出部，所述突出部上设置有拨片，所述拨片能够拨动所述转动柱转动。/n
【技术特征摘要】
1.一种用于物理气相沉积的球体零件镀膜夹具，包括分别固定在转炉杆上的上夹具和下夹具，其特征在于，所述上夹具包括套设在转炉杆上的基盘，所述基盘上设置有若干转盘轴承，所述转盘轴承内设置有上支架；所述下夹具包括依次套设在转炉杆上的底盘、中盘和上盘，所述上盘固定在所述转炉杆上，所述上盘设置有与所述转盘轴承位置对应的转动柱，所述转动柱上设置有与所述上支架位置对应的下支架，所述底盘固定在上盘上，所述中盘夹在底盘和上盘之间，所述中盘能够相对于底盘和上盘转动，所述中盘的一侧设置有突出部，所述突出部上设置有拨片，所述拨片能够拨动所述转动柱转动。
2.如权利要求1所述的用于物理气相沉积的球体零件镀膜夹具，其特征在于，所述转盘轴承和转动柱均以转炉杆为中心，分别周向均匀分布在基盘和上盘上。
3.如权利要求1所述的用于物理气相沉积的球体零件镀膜夹具，其特征在于，所述上盘上突出设置有小圆柱，所述转动柱底端设置有圆柱孔与上盘上小圆柱配合，所述转动柱能够在小圆柱上转动。
4.如权利要求1所述的用于物理气相沉积的球体零件镀膜夹具，其特征在于，所述转动柱的外周设置有与所述拨片...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈火根，
申请(专利权)人：昆山欧思克精密工具有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32
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