一种低水接高折射率硬化液及其制备ITO导电膜的方法技术

本发明专利技术提供了一种低水接高折射率硬化液及其制备ITO导电膜的方法，其低水接高折射率硬化液包括高耐磨高硬度树脂、高折射率填料、分散剂、光引发剂、有机溶剂和可重涂流平剂；其低水接高折射率硬化液制备ITO导电膜的方法，包括以下步骤：步骤S001，选取合适的基材；步骤S002，制备低水接高折射率硬化液；步骤S003，涂布低水接高折射率层；将低水接高折射率硬化液涂布在基材上，并经UV固化后形成低水接高折射率层；步骤S004，溅射ITO导电层；在低水接高折射率层上溅射ITO导电层形成ITO导电膜；本发明专利技术提供了低水接高折射率硬化液及其制备ITO导电膜的方法，克服了现有ITO导电膜制备效果差以及制备工艺繁琐的缺陷。

【技术实现步骤摘要】
一种低水接高折射率硬化液及其制备ITO导电膜的方法
本专利技术涉及导电薄膜领域，特别是涉及一种低水接高折射率硬化液及其制备ITO导电膜的方法。
技术介绍
随着触控式显示设备的兴起，对透明导电膜的需求日益增长。透明导电膜主要有三种技术路线，分别为ITO导电膜、纳米银导电膜和metalmesh；其中ITO导电膜因其电阻稳定和价格优势，已经广泛应用在市场中。ITO导电膜是指采用磁控溅射的方法，在透明有机薄膜材料上溅射透明氧化铟锡(ITO)导电薄膜镀层并经高温退火处理得到的高技术产品。ITO膜层的厚度不同，膜的导电性能和透光性能也不同。一般来说，在相同的工艺条件和性能相同的PET基底材料的情况下，ITO膜层越厚，PET-ITO膜的表面电阻越小，光透过率也相应的越小。普通硬化膜制作的ITO导电膜，有明显的蚀刻纹路，影响显示效果，制备效果差；通过在基膜上面设置高折射率硬化涂层可减轻蚀刻纹路，但一般的高折射率硬化涂层因填料与涂料的相容性限制，折射率极限值低，且达因值较低，与ITO附着力不佳，影响正常使用；并且现有ITO导电膜制备工艺复杂，制备过程繁琐本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种低水接高折射率硬化液，其特征在于，包括以下组成成分：10～50重量份的高耐磨高硬度树脂、10～70重量份的高折射率填料、1～7重量份的分散剂、0.5～2.5重量份的光引发剂、30～80重量份的有机溶剂以及0.1～1重量份的可重涂流平剂。/n

【技术特征摘要】
1.一种低水接高折射率硬化液，其特征在于，包括以下组成成分：10～50重量份的高耐磨高硬度树脂、10～70重量份的高折射率填料、1～7重量份的分散剂、0.5～2.5重量份的光引发剂、30～80重量份的有机溶剂以及0.1～1重量份的可重涂流平剂。


2.如权利要求1所述的低水接高折射率硬化液，其特征在于：所述高折射率填料为金属氧化物颗粒或金属丙烯酸化合物，所述金属氧化物颗粒包括氧化锆、氧化锌、氧化钛、氧化铝中的一种或几种组合，所述金属氧化物颗粒的表面有接枝含双键官能团，所述官能团包括丙烯酸酯键和碳碳双键，所述金属氧化物颗粒粒径为15-500nm；所述金属丙烯酸化合物包括锆丙烯酸或铪丙烯酸。


3.如权利要求1所述的低水接高折射率硬化液，其特征在于：所述可重涂流平剂为丙烯酸酯流平剂或氟素可重涂流平剂。


4.如权利要求1所述的低水接高折射率硬化液，其特征在于：所述高耐磨高硬度树脂为聚氨酯丙烯酸酯类化合物，官能度为3～30。


5.如权利要求1所述的低水接高折射率硬化液，其特征在于：所述分散剂为羧酸盐、聚氨酯、聚酰胺或丙烯酸嵌段共聚物。


6.如权利要求1所述的低水接高折射率硬化液，其特征在于：所述光引发剂为184光引发剂、TPO光引发剂、2959光引发剂、819光引发剂、127光引发剂中的一种或几种组合；所述有机溶剂包括乙酸乙酯、丁酮、丙酮、甲基异丁酮、丙二醇甲醚中的一种或几种组合。


7.一种低水接高折射率硬化液制备ITO导电膜的方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤S001，选取合适的基材；
步骤S002，制备低水接高折射率硬化液；将高耐磨高硬度树脂、高折射率填料、分散剂、光引发剂和可重涂流平剂溶于有机溶剂中，并搅拌均匀制备低水接高折射率硬化液；
步骤S003，涂布低水接...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘楷楷，董红星，
申请(专利权)人：宁波惠之星新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33