用于OLED中的含硼化合物制造技术

技术编号:26160910 阅读:100 留言:0更新日期:2020-10-31 12:43
本发明专利技术涉及用于OLED中的含硼化合物。具体地,本发明专利技术涉及具有式(I)或(II)的双环结构单元的含硼化合物,和涉及含有所述化合物的电子器件,特别是有机电致发光器件,例如OLED。

【技术实现步骤摘要】
用于OLED中的含硼化合物本专利技术专利申请是国际申请号为PCT/EP2014/002493,国际申请日为2014年9月16日,进入中国国家阶段的申请号为201480054533.6,专利技术名称为“用于OLED中的含硼化合物”的专利技术专利申请的分案申请。
本专利技术涉及用于OLED中的含硼化合物。具体地,本专利技术涉及适合用于电子器件中的含硼化合物。本专利技术还涉及其制备方法和涉及电子器件。
技术介绍
含有有机半导体、有机金属半导体和/或聚合物半导体的电子器件正日益变得重要,并且出于成本的原因和由于它们的性能正在很多商业产品中使用。这里的实例包括影印机中的有机类电荷传输材料(例如三芳基胺类空穴传输体),读出和显示装置中的有机或聚合物发光二极管(OLED或PLED),或者影印机中的有机光感受器。有机太阳能电池(O-SC)、有机场效应晶体管(O-FET)、有机薄膜晶体管(O-TFT)、有机集成电路(O-IC)、有机光学放大器和有机激光二极管(O-laser)处于发展的高级阶段并且可能具有重大的未来意义。不管各自的最终用途如何,这本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种含硼化合物,其包含至少一种式(II)的结构/n

【技术特征摘要】
20131002 EP 13004765.71.一种含硼化合物,其包含至少一种式(II)的结构



其中所使用的符号如下:
X1,X3,X4,X5,X6,X8,X9,X10,X12,X13,X15,X16在每种情况下相同或不同并且是CR2或C-Z,其中X1、X3、X4、X5、X6、X8、X9、X10、X12、X13、X15、X16基团中的至少一个是C-Z;
X2、X7、X11和X14基团是式CR2的基团;
Y是键;
Y1在每种情况下相同或不同并且是键或选自如下的二价桥连基:O、N(R3);
R3在每种情况下相同或不同并且是H,D,F,Cl,Br,I,CHO,C(=O)Ar1,P(=O)(Ar1)2,S(=O)Ar1,S(=O)2Ar1,CN,NO2,Si(R4)3,B(OR4)2,OSO2R4,具有1至40个碳原子的直链烷基、烷氧基或硫代烷氧基基团或者具有3至40个碳原子的支链或环状的烷基、烷氧基或硫代烷氧基基团,所述基团中的每个可以被一个或多个R4基团取代,其中一个或多个非相邻的CH2基团可以被R4C=CR4、C≡C、Si(R4)2、Ge(R4)2、Sn(R4)2、C=O、C=S、C=Se、P(=O)(R4)、SO、SO2、O、S或CONR4代替并且其中一个或多个氢原子可以被D、F、Cl、Br、I、CN或NO2代替,或者具有5至40个芳族环原子的芳族或杂芳族环系,所述环系中的每个可以被一个或多个R4基团取代,或者具有5至40个芳族环原子并且可以被一个或多个R4基团取代的芳氧基或杂芳氧基基团,或这些体系的组合;同时,两个或更多个相邻的R2或R3取代基也可以彼此形成单环或多环的脂族或芳族环系;
R2在每种情况下相同或不同并且是H,D,F,Cl,I,CHO,C(=O)Ar1,P(=O)(Ar1)2,S(=O)Ar1,S(=O)2Ar1,CN,NO2,B(OR4)2,OSO2R4,具有1至40个碳原子的直链烷基、烷氧基或硫代烷氧基基团或者具有3至40个碳原子的支链或环状的烷基、烷氧基或硫代烷氧基基团,所述基团中的每个可以被一个或多个R4基团取代,其中一个或多个非相邻的CH2基团可以被C≡C、Si(R4)2、Ge(R4)2、Sn(R4)2、C=O、C=S、C=Se、P(=O)(R4)、SO、SO2、O、S或CONR4代替并且其中一个或多个氢原子可以被D、F、Cl、Br、I、CN或NO2代替,或者具有5至40个芳族环原子的芳族或杂芳族环系,所述环系中的每个可以被一个或多个R4基团取代,或者具有5至40个芳族环原子并且可以被一个或多个R4基团取代的芳氧基或杂芳氧基基团,或这些体系的组合;同时,两个或更多个相邻的R2或R3取代基也可以彼此形成单环或多环的脂族或芳族环系;
R4在每种情况下相同或不同并且是H,D,F,Cl,Br,I,CHO,C(=O)Ar1,P(=O)(Ar1)2,S(=O)Ar1,S(=O)2Ar1,CN,NO2,Si(R5)3,B(OR5)2,OSO2R5,具有1至40个碳原子的直链烷基、烷氧基或硫代烷氧基基团或者具有3至40个碳原子的支链或环状的烷基、烷氧基或硫代烷氧基基团,所述基团中的每个可以被一个或多个R5基团取代,其中一个或多个非相邻的CH2基团可以被C≡C、Si(R5)2、Ge(R5)2、Sn(R5)2、C=O、C=S、C=Se、P(=O)(R5)、SO、SO2、O、S或CONR5代替并且其中一个或多个氢原子可以被D、F、Cl、Br、I、CN或NO2代替,或这些体系的组合;同时,两个或更多个相邻的R4取代基也可以彼此形成单或多环的脂族或芳族环系;
Ar1在每种情况下相同或不同并且是具有5至30个芳族环原子并可以被一个或多个R3基团取代的芳族或杂芳族环系;同时,与同一磷原子键合的两个Ar1基团也可以通过单键或选自B(R5)、C(R5)2、Si(R5)2、C=O、C=NR5、C=C(R5)2、O、S、S=O、SO2、N(R5)、P(R5)和P(=O)R5的桥连基彼此连接;
R5在每种情况下相同或不同并且是H,D,F或者具有1至20个碳原子的脂族、芳族和/或杂芳族烃基基团,其中氢原子也可以被F代替;同时,两个或更多个相邻的R5取代基一起也可以形成单环或多环的脂族或芳族环系;
Z是式(III)的基团



其中所使用的符号如下:
Ar2,Ar3在每种情况下相同或不同并且是具有5至30个芳族环原子并可以被一个或多个R3基团取代的...

【专利技术属性】
技术研发人员:菲利普·施特塞尔
申请(专利权)人:默克专利有限公司
类型:发明
国别省市:德国;DE

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