一种具有抗划伤晶钻闪点效果玻璃的制备工艺制造技术

本发明专利技术属于蚀刻玻璃技术领域，具体涉及一种具有抗划伤晶钻闪点效果玻璃的制备工艺，包括以下步骤：制备蚀刻液并对玻璃原片进行蚀刻处理，本发明专利技术依托氟化物对玻璃具有的蚀刻作用，在一定浓度与种类的酸液中与玻璃表面发生多级化学反应，生成纳米级钻石状微晶颗粒附着层，并在整个玻璃表面均匀分布，从而实现在迎光时呈现金光闪烁的视觉效果，同时具有抗反射光、抗划伤、抗粉尘、抗指纹等优良性能，本发明专利技术工艺简单实用、容易操作、成本低廉，制得的抗划伤晶钻闪点效果玻璃表面微晶钻石颗粒分布均匀、大小一致，粗糙度、光泽度、透光率、雾度等技术指标符合艺术装饰玻璃行业的具体要求。

【技术实现步骤摘要】
一种具有抗划伤晶钻闪点效果玻璃的制备工艺
本专利技术属于抗划伤晶钻闪点效果玻璃的化学蚀刻
，尤其涉及一种具有抗划伤晶钻闪点效果玻璃的制备工艺。
技术介绍
随着人们生活水平的大幅度提高，人们对家具装饰、商务空间隔断等方面的需求档次也得以提升，具有抗划伤晶钻闪点效果的玻璃需求大幅提升，但在装饰玻璃生产领域一般都是采用喷涂树脂与金属闪光粉相结合的工艺来实现玻璃表面晶钻闪点效果的目的，这种物理喷涂工艺实现的晶钻闪点效果玻璃存在着易老化、易划伤、附着力差、寿命周期短等缺陷。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种具有抗划伤晶钻闪点效果玻璃的制备工艺，研制出来的抗划伤晶钻闪点效果玻璃产品在迎光时呈现金光闪烁的效果，不同的观赏角度呈现出不同的炫变晶钻闪点视觉效果，该产品具有抗反射光、抗划伤、抗粉尘、抗指纹等优良性能，可广泛应用于建筑装饰玻璃、高端商务空间隔断、沐浴房、高档家私、玻璃壁画等领域，满足人们对玻璃装饰产品的不同需求。为达到上述目的，本专利技术采用的技术方案是：一种具有抗划伤晶钻闪点效果玻璃的制备工艺，包括以下步骤：1）按照以下百分比配置玻璃蚀刻液：NH4HF212-25%、NaF5-18%、HCL6-18%、HNO35-15%、K2HPO33-8%、NaNO33-6%、(NH4)2SiF60.5-1.0%、烷基苯磺酸钠0.3-0.8%、粘度调节剂5-8%、H2O15-28%；2）将玻璃原片不需蚀刻的一面用抗蚀刻油墨进行丝印覆膜保护；3）将玻璃原片需要蚀刻的一面用预处理液清洗干净，在湿式状态下放入蚀刻液中进行浸泡式蚀刻处理；4）控制蚀刻液温度为18-25℃，浸泡蚀刻时间为5-8分钟，达到浸泡蚀刻时间后从蚀刻液中取出被蚀刻后的玻璃，然后用纯水清洗干净，并风干或烘干即制得抗划伤晶钻闪点效果玻璃产品。进一步的，所述步骤1）中玻璃蚀刻液在配置时按照蚀刻液配方依次添加原料后，再搅拌至呈现均匀稳定的过饱和溶液状态，过饱和溶液是指一定温度、压力下，当溶液中溶质的浓度已超过该温度、压力下溶质的溶解度，而溶质仍未析出的溶液，该现象叫过饱和现象，过饱和溶液是不稳定的，如果搅拌溶液、使溶液受到震动、摩擦容器器壁、或者往溶液里投入固体“晶种”，溶液里的过量溶质就会马上结晶析出，并在常温状态下静置熟化36-72小时即可。进一步的，所述步骤3）中预处理液的组成为15%硫酸、8%氢氟酸和77%水。本专利技术的机理：本专利技术蚀刻液配方中的氟化物作为蚀刻玻璃的主要原材料，起到在玻璃表面形成纳米级蒙砂颗粒的作用，不同种类、不同浓度的酸液与氟硅酸铵、硝酸钠等一起可以控制形成微晶颗粒的结构与形状，从而实现成分决定结构、结构决定性能的目的；粘度调节剂用于调节药液的粘稠度，以利于实现均匀蚀刻的目的，让生成的纳米级微晶钻石颗粒在玻璃表面均匀分布，从而达到均匀的晶钻效果，烷基苯磺酸钠作用是作为表面活性物质来促进蒙砂颗粒的形成，增强了药液与玻璃表面的亲和力，促进晶核均匀有序生长，从而实现蒙砂效果更细腻更均匀的目的，起到催化剂的作用，在玻璃表面形成的这些微晶钻石状颗粒的强度大、附着力强，故具有优异的抗划伤性能。本专利技术具有的优点是：本专利技术采用浸泡式化学蚀刻工艺来制作抗划伤晶钻闪点效果玻璃，对蚀刻液的配方进行了成分及含量的优化与创新，并掺入合适的表面活性物质与粘度调节剂，依托氟化物对玻璃具有的蚀刻作用，在一定浓度与种类的酸液中与玻璃表面发生多级化学反应，生成纳米级钻石状微晶颗粒附着层，从而实现玻璃表面呈现出来晶钻闪点蚀刻效果，烷基苯磺酸钠是是作为表面活性物质来促进蒙砂颗粒的形成，增强了药液与玻璃表面的亲和力，促进晶核均匀有序生长，从而实现蒙砂效果更细腻更均匀的目的，起到催化剂的作用，为了促进蚀刻液在玻璃表面实现均匀一致的化学反应，添加粘度调节剂的目的是为了调节蚀刻液的粘稠度，保持过饱和蚀刻液的稳定性与悬浮效果，本专利技术实现了对玻璃表面的化学蚀刻处理，在玻璃表面形成25-80nm厚度的纳米级钻石状微晶颗粒层并在整个玻璃表面均匀分布，从而实现在迎光时呈现金光闪烁的视觉效果，同时具有抗反射光、抗划伤、抗粉尘、抗指纹等优良性能。附图说明图1是本专利技术制备的抗划伤晶钻闪点效果玻璃显微镜照片。图2是普通蒙砂玻璃显微镜照片。具体实施方式实施例11、按照如下配方配制晶钻闪点效果玻璃蚀刻液（wt%）：NH4HF222.3%、NaF15.8%、HCL13.6%、HNO311.8%、K2HPO34.5%、NaNO33.5%、(NH4)2SiF60.6%、烷基苯磺酸钠0.3%、粘度调节剂4.7%、H2O22.9%;按照蚀刻工艺要求依次加入上述原料，然后再充分搅拌均匀，呈现均匀稳定的过饱和溶液状态，并在常温状态下静置熟化36-72小时，即制得合乎要求的蚀刻液，就可以开始进行玻璃原片的抗划伤晶钻闪点效果玻璃的蚀刻处理工作；2、将玻璃原片不需蚀刻的一面用抗蚀刻油墨进行丝印覆膜保护；3、将玻璃原片需要蚀刻的一面用去预处理液清洗干净，在湿式状态下放入蚀刻液中进行浸泡式蚀刻处理；4、控制蚀刻液温度为18-25℃，控制浸泡蚀刻时间为5-8分钟；5、达到浸泡蚀刻时间要求后及时从蚀刻液中取出被蚀刻后的玻璃，然后用纯水清洗干净，并风干或烘干即制得抗划伤晶钻闪点效果玻璃产品。实施例21、按照如下配方配制晶钻闪点效果玻璃蚀刻液（wt%）：NH4HF224.1%、NaF15.3%、HCL13.6%、HNO312.6%、K2HPO34.2%、NaNO33.5%、(NH4)2SiF60.5%、烷基苯磺酸钠0.3%、粘度调节剂5.1%、H2O20.8%;按照蚀刻工艺要求依次加入上述原料，然后再充分搅拌均匀，呈现均匀稳定的过饱和溶液状态，并在常温状态下静置熟化36-72小时，即制得合乎要求的蚀刻液，就可以开始进行玻璃原片的抗划伤晶钻闪点效果玻璃的蚀刻处理工作；2、将玻璃原片不需蚀刻的一面用抗蚀刻油墨进行丝印覆膜保护；3、将玻璃原片需要蚀刻的一面用去预处理液清洗干净，在湿式状态下放入蚀刻液中进行浸泡式蚀刻处理；4、控制蚀刻液温度为18-25℃，控制浸泡蚀刻时间为5-8分钟；5、达到浸泡蚀刻时间要求后及时从蚀刻液中取出被蚀刻后的玻璃，然后用纯水清洗干净，并风干或烘干即制得抗划伤晶钻闪点效果玻璃产品。实施例31、按照如下配方配制晶钻闪点效果玻璃蚀刻液（wt%）：NH4HF223.8%、NaF15.2%、HCL14.2%、HNO312.7%、K2HPO34.5%、NaNO33.2%、(NH4)2SiF60.6%、烷基苯磺酸钠0.3%、粘度调节剂4.5%、H2O22.0%;按照蚀刻工艺要求依次加入上述原料，然后再充分搅拌均匀，呈现均匀稳定的过饱和溶液状态，并在常温状态下静置熟化36-72小时，即制得合乎要求的专用蚀刻液，就可以开始进行玻璃原片的抗划伤晶钻闪点效果玻璃的蚀刻处理工作；2、将玻璃原片不需蚀刻本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种具有抗划伤晶钻闪点效果玻璃的制备工艺，其特征在于，包括以下步骤：/n1)按照以下百分比配置玻璃蚀刻液：NH

【技术特征摘要】
1.一种具有抗划伤晶钻闪点效果玻璃的制备工艺，其特征在于，包括以下步骤：
1)按照以下百分比配置玻璃蚀刻液：NH4HF212-25%、NaF5-18%、HCL6-18%、HNO35-15%、K2HPO33-8%、NaNO33-6%、(NH4)2SiF60.5-1.0%、烷基苯磺酸钠0.3-0.8%、粘度调节剂5-8%、H2O15-28%；
2)将玻璃原片不需蚀刻的一面用抗蚀刻油墨进行丝印覆膜保护；
3）将玻璃原片需要蚀刻的一面用预处理液清洗干净，在湿式状态下放入蚀刻液中进行浸泡式蚀刻处理；
4）控制蚀刻液温度为18-...

【专利技术属性】
技术研发人员：熊国祥，
申请(专利权)人：郑州恒昊光学科技有限公司，
类型：发明
国别省市：河南;41