【技术实现步骤摘要】
一种高通量制备均匀单乳液滴的装置及方法
本专利技术涉及单乳液滴制备
,尤其是涉及一种高通量制备均匀单乳液滴的装置及方法。
技术介绍
微米和亚微米级的单乳液滴在各种科学和工程应用中都具有重要意义。在过去的几十年中,已经开发了新兴的微流体技术来制备单分散液滴,例如,微流控芯片、玻璃微毛细管和流动聚焦技术。在科学研究以及实际应用中,单乳液滴的制备是在滴模式下进行,通量小,且制备效率低。若提高通量,则单乳液滴的制备将由滴模式转换为射流模式,射流模式下的液滴的尺寸分布会变宽,且射流断裂的长度也具有一定的随机性。因此,如何实现高通量生产单乳液滴,且保证单乳液滴的尺寸均匀是本领域技术人员亟待解决的技术问题。
技术实现思路
有鉴于此,本专利技术的第一个目的是提供一种高通量制备均匀单乳液滴的装置,能够实现高通量生产单乳液滴,且保证单乳液滴的尺寸均匀。本专利技术的第二个目的是提供一种高通量制备均匀单乳液滴的方法。为了实现上述第一个目的,本专利技术提供了如下方案:一种高通量制备均匀 ...
【技术保护点】
1.一种高通量制备均匀单乳液滴的装置,其特征在于,包括基座、腔体、毛细结构和致动单元;/n所述基座上开设有分散相液体通道,所述分散相液体通道的入口端用于分散相液体的输入,且所述基座上还开设有与所述分散相液体通道导通的扰动接口,所述扰动接口封装,所述致动单元通过封装的所述扰动接口输入扰动;/n所述分散相液体通道的出口端设置在所述基座的底端,所述毛细结构密封安装在所述基座的底端,且所述毛细结构的顶端与所述分散相液体通道的出口端导通;/n所述腔体密封安装在所述基座的底端,且所述毛细结构置于所述腔体内;/n所述腔体上开设有驱动相入口,所述驱动相入口用于输入驱动相液体到所述腔体内,所 ...
【技术特征摘要】
1.一种高通量制备均匀单乳液滴的装置,其特征在于,包括基座、腔体、毛细结构和致动单元;
所述基座上开设有分散相液体通道,所述分散相液体通道的入口端用于分散相液体的输入,且所述基座上还开设有与所述分散相液体通道导通的扰动接口,所述扰动接口封装,所述致动单元通过封装的所述扰动接口输入扰动;
所述分散相液体通道的出口端设置在所述基座的底端,所述毛细结构密封安装在所述基座的底端,且所述毛细结构的顶端与所述分散相液体通道的出口端导通;
所述腔体密封安装在所述基座的底端,且所述毛细结构置于所述腔体内;
所述腔体上开设有驱动相入口,所述驱动相入口用于输入驱动相液体到所述腔体内,所述驱动相液体和所述分散相液体互不相溶;
所述腔体的底端开设有排出孔,所述排出孔与所述毛细结构的出口端同心。
2.根据权利要求1所述的高通量制备均匀单乳液滴的装置,其特征在于,所述排出孔的直径为待制备单乳液滴的直径的2倍;
所述毛细结构的出口端的内径与所述排出孔的直径相当,且所述毛细结构的出口端到所述排出孔的距离与所述毛细结构的出口端的内径相当;
和/或
所述单乳液滴的直径计算公式为D=(6Q/πf)1/3,
Q为所述分散相液体的流量,
f为所述致动单元输入到所述扰动接口的激励频率。
3.根据权利要求1所述的高通量制备均匀单乳液滴的装置,其特征在于,还包括基板和支撑柱;
所述支撑柱安装在所述基座的顶端,所述基板安装在所述支撑柱的顶端,所述致动单元安装在所述基板上,且所述致动单元的致动端向所述扰动接口输入扰动。
4.根据权利要求1所述的高通量制备均匀单乳液滴的装置,其特征在于,所述致动单元包括信号发生器、功率放大器和致动器;
所述信号发生器与所述功率放大器信号连接,所述功率放大器与所述致动器信号连接;
所述信号发生器发出的扰动信号经过所述功率放大器放大后,通过所述致动器输出到所述扰动接口处。
5.根据权利要求4...
【专利技术属性】
技术研发人员:司廷,杨超宇,乔然,
申请(专利权)人:中国科学技术大学,
类型:发明
国别省市:安徽;34
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。