【技术实现步骤摘要】
一种辐射面控制系统
本技术属于辐射测量领域,更具体地,涉及一种辐射面控制系统。
技术介绍
辐射计接收的通常是一块区域的辐射和散射的能量,并且接收能力在各个方向上是非均匀的,由天线直接决定。描述能量相对分布的方向函数成为天线辐射方向图,进入辐射计的能量包括待测目标有效照射面积以及周围空间发射或反射的能量,因此,辐射计的输出电压与两者直接相关。一般来讲,待测目标都放置在天线的主波束照射范围内,因此,待测目标的辐射面大小直接决定了辐射计输出结果,但是,通常对于不同的测量需求,待测目标的辐射面大小要求是不同的,而且当前无具体的辐射面控制系统。
技术实现思路
针对现有技术的缺陷,本技术的目的在于提供一种辐射面控制系统,旨在解决现有技术未提供待测目标辐射面可调节装置的问题。为实现上述目的,本技术提供了一种辐射面控制系统,包括:第二层吸波模块和滑轨;第二层吸波模块包括n层吸波单元,位于待测目标上方;滑轨固定于第二层吸波模块的上方;第二层吸波模块的中间留有孔洞;工作时,辐射计用于接收孔洞处待测目标的辐 ...
【技术保护点】
1.一种辐射面控制系统,其特征在于,包括:第二层吸波模块(1-4)和滑轨(7);/n所述第二层吸波模块(1-4)包括n层吸波单元,位于待测目标上方;所述滑轨(7)固定于第二层吸波模块(1-4)的上方;所述第二层吸波模块(1-4)的中间留有孔洞;工作时,辐射计(9)用于接收孔洞处待测目标的辐射能量和散射能量;n层吸波单元随着滑轨的运动分离,形成不同大小的孔洞,其中,n≥2的整数;孔洞的大小为待测目标的辐射面积(8)。/n
【技术特征摘要】
1.一种辐射面控制系统,其特征在于,包括:第二层吸波模块(1-4)和滑轨(7);
所述第二层吸波模块(1-4)包括n层吸波单元,位于待测目标上方;所述滑轨(7)固定于第二层吸波模块(1-4)的上方;所述第二层吸波模块(1-4)的中间留有孔洞;工作时,辐射计(9)用于接收孔洞处待测目标的辐射能量和散射能量;n层吸波单元随着滑轨的运动分离,形成不同大小的孔洞,其中,n≥2的整数;孔洞的大小为待测目标的辐射面积(8)。
2.根据权利要求1所述的辐射面控制系统,其特征在于,还包括:第一层吸波模块(5)和支架组件(6);
所述支架组件(6)固定与滑轨(7)的上方,所述第一层吸波模块(5)固定于所述支架组件(6)的上方;所述第一层吸波模块(5)的中间留有预设置的待测目标最大孔洞;所述支架组件(6)的中间位置留有大于等于所述预设置的待测目标最大孔洞的孔洞,避免对所述第一层吸波模块(5)的孔洞的遮挡...
【专利技术属性】
技术研发人员:胡飞,伍宏飞,苏金龙,
申请(专利权)人:华中科技大学,
类型:新型
国别省市:湖北;42
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