一种新型全封闭式用于制造气相法二氧化硅的反应器制造技术

本实用新型专利技术提供了一种新型全封闭式用于制造气相法二氧化硅的反应器，解决了反应器为开式燃烧器与反应器本体两者分离，反应易受外界环境影响的问题。该装置包括燃烧器、反应器本体和点火装置，燃烧器的腔体两端设置有原料入口和喷嘴，且至少燃烧器的喷嘴部分由反应器本体的一端延伸至其内腔中以使燃烧器和反应器本体形成一体式的封闭结构，反应器本体的另一端设置有反应出口；点火装置设置于靠近喷嘴位置处用于点燃反应原料。本实用新型专利技术燃烧器与反应器本体形成一体式的封闭结构，反应火焰不受外界环境和大气影响，避免空气中的杂质和水分进入系统。反应器工作或停车状态下均可避免环境中的水分与系统残留物料接触，进而腐蚀设备的可能性。

【技术实现步骤摘要】
一种新型全封闭式用于制造气相法二氧化硅的反应器
本技术涉及气相法二氧化硅生产设备
，尤其是涉及一种新型全封闭式用于制造气相法二氧化硅的反应器。
技术介绍
气相二氧化硅俗称气相白炭黑，是一种重要的纳米无机化工材料，粒径微小(7～40nm)，比表面积大(50～400m2/g)，产品纯度高(SiO2≥99.9％)。该产品具有优越的表面化学性能以及良好的生理惰性，在硅橡胶、胶粘剂、油漆、涂料、油墨、电子、纸张、化妆品、医药、食品和农业等领域有着广泛的应用，主要起到补强、增稠、触变、消光等作用，是国家基础民生工业、国防工业、高科技领域中不可缺少的原材料和添加助剂，有工业味精之称。气相法二氧化硅的基本制造方法：气化的四氯化硅或一甲基三氯硅烷、压缩空气、氢气为原料，三者充分混合后进入高温水解反应器(简称“反应器”)，发生反应如下：a：SiCl4+3H2+1.5O2→SiO2+4HCl+H2Ob：CH3SiCl3+H2+2.5O2→SiO2+3HCl+H2O+CO2制备的SiO2在反应器呈现纳米级粉体粒子，经过冷却降温，多个粉体粒本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种新型全封闭式用于制造气相法二氧化硅的反应器，其特征在于，包括燃烧器、反应器本体和点火装置，其中：/n所述燃烧器为多层腔体的套筒结构，且所述燃烧器的腔体两端设置有原料入口和喷嘴，且至少所述燃烧器的喷嘴部分由所述反应器本体的一端延伸至其内腔中以使所述燃烧器和所述反应器本体形成一体式的封闭结构，所述反应器本体的另一端设置有反应出口；/n所述点火装置设置于靠近所述喷嘴位置处用于点燃反应原料。/n

【技术特征摘要】
1.一种新型全封闭式用于制造气相法二氧化硅的反应器，其特征在于，包括燃烧器、反应器本体和点火装置，其中：
所述燃烧器为多层腔体的套筒结构，且所述燃烧器的腔体两端设置有原料入口和喷嘴，且至少所述燃烧器的喷嘴部分由所述反应器本体的一端延伸至其内腔中以使所述燃烧器和所述反应器本体形成一体式的封闭结构，所述反应器本体的另一端设置有反应出口；
所述点火装置设置于靠近所述喷嘴位置处用于点燃反应原料。


2.根据权利要求1所述的新型全封闭式用于制造气相法二氧化硅的反应器，其特征在于，所述燃烧器的中轴线与所述反应器本体的中轴线共线设置。


3.根据权利要求1或2所述的新型全封闭式用于制造气相法二氧化硅的反应器，其特征在于，所述燃烧器的多层套筒由内至外依次包括存在有所述原料入口的第一腔体、存在有点火气体入口的第二腔体、存在有助燃气体入口的第三腔体和存在有调节气体入口的第四腔体，上述第一腔体、第二腔体、第三腔体和第四腔体均与所述喷嘴连通。


4.根据权利要求3所述的新型全封闭式用于制造气相法二氧化硅的反应器，其特征在于，所述喷嘴可拆卸连接于所述燃烧器的出口端，且所述喷嘴由内至外包括分别与所述第一腔体、所述第二腔体、所述第三腔体及所述第四腔体相连通的多层喷射道。


5.根据权利要求3...

【专利技术属性】
技术研发人员：李正宾，袁闯，
申请(专利权)人：郑州格矽科技发展有限公司，
类型：新型
国别省市：河南;41