【技术实现步骤摘要】
FP标准具温漂参数校准装置
本技术涉精密测量领域,具体涉及一种FP标准具温漂参数校准装置。
技术介绍
在半导体芯片加工领域,随着对IC芯片特征尺寸要求越来越小,对光刻机性能要求也越来越高,为了实现更细的线条,需要光刻机采用的光源的中心波长越来越短。目前在芯片加工领域,准分子激光器因其能量大、线宽窄、波长短,是半导体光刻的理想光源,最常用的有KrF准分子激光器和ArF准分子激光器,它的中心波长分别为248nm和193nm。在光刻机曝光过程中要求准分子激光器的波长保持稳定,波长的变化会引起光刻机成像面的位置变化,从而引起曝光线条变宽,芯片的良品率下降。对于110nm工艺节点,要求激光器的波长稳定性高于0.05pm,而对于28nm工艺节点,要求激光器的波长稳定性高于0.03pm。为了得到稳定的中心波长,准分子激光器中通过内部的检测模块实时测量激光器的中心波长,并通过调整线宽压窄模块中的光栅角度,使激光器的中心波长保持恒定。因此对在线检测模块的中心波长测量精度要求很高。测量准分子激光器中心波长的方法主要有中阶梯光栅法 ...
【技术保护点】
1.一种FP标准具温漂参数校准装置,其特征在于,所述FP标准具温漂参数校准装置包括:/n检测模块,用于测量激光器产生的激光光束的中心波长并获取FP波长计测量所述激光光束过程中产生的温漂校准数据;/n以及控制器,用于根据所述温漂校准数据,计算得到温漂校准参数,根据所述温漂校准参数调整激光光束;/n其中,所述检测模块包括:/n第一分束镜,所述第一分束镜设于所述激光器发射出的激光光束路径上,用于将所述激光光束分成第一激光光束和第二激光光束;/n阴极灯,含有金属原子,用于吸收特定波长的激光能量,/n光强探测器,用于检测所述第一激光光束穿过阴极灯后的能量变化,/n控制器计算所述光强探 ...
【技术特征摘要】
1.一种FP标准具温漂参数校准装置,其特征在于,所述FP标准具温漂参数校准装置包括:
检测模块,用于测量激光器产生的激光光束的中心波长并获取FP波长计测量所述激光光束过程中产生的温漂校准数据;
以及控制器,用于根据所述温漂校准数据,计算得到温漂校准参数,根据所述温漂校准参数调整激光光束;
其中,所述检测模块包括:
第一分束镜,所述第一分束镜设于所述激光器发射出的激光光束路径上,用于将所述激光光束分成第一激光光束和第二激光光束;
阴极灯,含有金属原子,用于吸收特定波长的激光能量,
光强探测器,用于检测所述第一激光光束穿过阴极灯后的能量变化,
控制器计算所述光强探测器探测到的最小能量值;
FP波长计,用于将所述第二激光光束形成干涉条纹;
成像元件,用于接收并显示所述FP波长计产生的所述干涉及条纹;
控制器用于根据所述干涉条纹计算对应光强探测器能量值最小时刻的激光器中心波长,并计算中心波长与理论中心波长相比的中心波长漂移量;
以及温度传感器,设于所述FP标准具上,用于实时记录所述FP标准具的温度和温度导数变化。
2.如权利要求1所述的FP标准具温漂参数校准装置,其特征在于,所述检测模块还包括:
第二分束镜,所述第二分束镜和所述第一分束镜平行设置,所述第二...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘广义,韩晓泉,江锐,冯泽斌,沙鹏飞,殷青青,周翊,
申请(专利权)人:北京科益虹源光电技术有限公司,
类型:新型
国别省市:北京;11
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