【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】羰基化合物的制造方法
本专利技术涉及羰基化合物的制造方法。
技术介绍
作为羰基化合物的制造方法,已知有后述专利文献1~3和非专利文献1~3中记载的方法。现有技术文献专利文献专利文献1:日本专利第5613150号公报专利文献2:日本专利第5524861号公报专利文献3:日本特开2003-73324号公报非专利文献非专利文献1:JournalofCatalysis,142,1993,pp.540-551.非专利文献2:TetrahedronLetters,43,2002,pp.8887-8891.非专利文献3:J.Am.Chem.Soc.,127,2005,pp.2796-2797
技术实现思路
专利技术所要解决的技术问题然而,进一步要求开发羰基化合物的制造方法。用于解决技术问题的技术方案本说明书提供如下所示的用于解决上述技术问题的技术方案。项1.一种式(1)的羰基化合物的制造方法,其包括: ...
【技术保护点】
1.一种式(1)的羰基化合物的制造方法,其特征在于,包括:/n将式(2)所示的烯烃化合物,在/n(a)非醇有机溶剂、/n(b)水、/n(c)金属催化剂、和/n(d)式:MXn所示的添加剂/n的存在下,通过氧化剂进行氧化的工序A,/n式(1):/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180309 JP 2018-0435721.一种式(1)的羰基化合物的制造方法,其特征在于,包括:
将式(2)所示的烯烃化合物,在
(a)非醇有机溶剂、
(b)水、
(c)金属催化剂、和
(d)式:MXn所示的添加剂
的存在下,通过氧化剂进行氧化的工序A,
式(1):
式(1)中,
R1为氢或有机基团,
R2为氢或有机基团,且
R3为氢或有机基团,或者
R1、R2和R3中的2个或3个可以连结而形成可以具有1个以上的取代基的环;
式(2):
式(2)中的符号与上述意义相同;
式MXn中,
M为属于元素周期表第1族、第2族、第13族、第14族和第15族的任意一族的元素或为NR4,该式NR4中,R为氢或碳原子数1~10的有机基团,
X为卤素,且
n为1~5的数。
2.如权利要求1所述的制造方法,其特征在于:
R1和R2独立地为:
氢、
可以具有1个以上的取代基的碳原子数1~10的烷基、
可以具有1个以上的取代基的碳原子数1~10的芳香族基、或
可以具有1个以上的取代基的碳原子数1~10的杂环基。
3.如权利要求2所述的制造方法,其特征在于:
R1和R2独立地为:
氢、
碳原子数1~4的烷基、
可以具有1个以上的取代基的碳原子数1~10的芳香族基、或
可以具有1个以上的取代基的碳原子数1~10的杂环基,
所述碳原子数1~4的烷基可以具有1个以上的取代基,该取代基独立地选自羟基、氨基、羧基、磺酸基、膦酸基和它们的盐。
4.如权利要求1~3中任一项所述的或权利要求2所述的制造方法,其特征在于:
R3为:
氢、
可以具有1个以上的取代基的碳原子数1~20的烷基、
可以具有1个以上的取代基的碳原子数1~20的芳香族基、或可以具有1个以上的取代基的碳原子数1~20的杂环基。
5.如权利要求4所述的制造方法,其特征在于:
R3为:
氢、
碳原子数1~20的烷基、
可以具有1个以上的取代基的碳原子数1~10的芳香族基、或
可以具有1个以上的取代基的碳原子数1~10的杂环基,
所述碳原子数1~20的烷基可以具有1个以上的取代基,该取代基独立地选自羟基、氨基、羧基、磺酸基、膦酸基和它们的盐。
6.如权利要求1~5中任一项所述的制造...
【专利技术属性】
技术研发人员:东昌弘,米田聪,石原寿美,岸川洋介,
申请(专利权)人:大金工业株式会社,
类型:发明
国别省市:日本;JP
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