一种AlTiN梯度硬质涂层及其制备方法技术

技术编号:26056985 阅读:52 留言:0更新日期:2020-10-28 16:28
本发明专利技术公开了一种AlTiN梯度硬质涂层,包括基体,基体的顶部附着有Cr打底层,Cr打底层的顶部附着有CrN过渡层,CrN过渡层的顶部附着有CrN+AlTiN过渡层,CrN+AlTiN过渡层的顶部附着有AlTiN梯度层。本发明专利技术还提供了一种AlTiN梯度硬质涂层的制备方法,包括以下步骤:首先在基体上表面采用电弧离子镀沉积Cr打底层;然后在Cr打底层上沉积CrN过渡层,继而在CrN过渡层上沉积CrN+AlTiN过渡层,最后在CrN+AlTiN过渡层上通过改变四个梯度的偏压沉积AlTiN梯度层。本发明专利技术的AlTiN涂层具有高的硬度和良好的膜基结合力。因此采用梯度AlTiN涂层,既可以维持AlTiN涂层自身的优点,又提高了膜基结合力。

【技术实现步骤摘要】
一种AlTiN梯度硬质涂层及其制备方法
本专利技术属于硬质镀膜领域,更具体地说,涉及一种AlTiN梯度硬质涂层及其制备方法。
技术介绍
AlTiN是一种以TiN为基础发展起来的新型Ti系涂层,其中Al含量更多的涂层被称为AlTiN以区别于TiAlN涂层,具有热硬性较好、膜基结合力高、硬度高、氧化温度高、摩擦系数小等特点,目前在切削刀具、模具制造、航空发动机和生物医学等方面已得到广泛应用。较高的Al含量使得AlTiN涂层在高温条件下,表面可形成致密、完整且连续的Al2O3保护膜,这能提高涂层的抗高温氧化性能。有研究表明,随着沉积时偏压增大,涂层的硬度会增大,但同时残余应力也会随着增大。残余应力过大会使涂层与基体产生开裂,从而降低膜基结合力。鉴于上述情况,有必要设计一种AlTiN梯度硬质涂层及其制备方法,通过梯度的改变沉积偏压,使其接近基体处的膜层残余应力较小,接近表面的膜层硬度较大。通过合理设计,采用梯度AlTiN涂层,既可以维持AlTiN涂层自身的优点,又提高了膜基结合力。
技术实现思路
针对现有技术存在的不足,本专本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种AlTiN梯度硬质涂层,其特征在于:包括基体,基体的顶部附着有Cr打底层,Cr打底层的顶部附着有CrN过渡层,CrN过渡层的顶部附着有CrN+AlTiN过渡层,CrN+AlTiN过渡层的顶部附着有AlTiN梯度层;/nCrN过渡层中各元素的原子百分比30%~55%的Cr及45%~70%的N;/nCrN+AlTiN过渡层中,CrN中各元素的原子百分比30%~55%的Cr及45%~70%的N;AlTiN中各元素的原子百分比为:Al:30~40at.%,Ti:10~20at.%,N:45~55at.%;/nAlTiN梯度层中各元素的原子百分比为:Al:30~40at.%,Ti:10~20at...

【技术特征摘要】
1.一种AlTiN梯度硬质涂层,其特征在于:包括基体,基体的顶部附着有Cr打底层,Cr打底层的顶部附着有CrN过渡层,CrN过渡层的顶部附着有CrN+AlTiN过渡层,CrN+AlTiN过渡层的顶部附着有AlTiN梯度层;
CrN过渡层中各元素的原子百分比30%~55%的Cr及45%~70%的N;
CrN+AlTiN过渡层中,CrN中各元素的原子百分比30%~55%的Cr及45%~70%的N;AlTiN中各元素的原子百分比为:Al:30~40at.%,Ti:10~20at.%,N:45~55at.%;
AlTiN梯度层中各元素的原子百分比为:Al:30~40at.%,Ti:10~20at.%,N:45~55at.%,AlTiN梯度层包含4种沉积状态的AlTiN涂层,从下到上其沉积偏压依次为40~60A、80~100A、120~140A和160~180A。


2.根据权利要求1所述的一种AlTiN梯度硬质涂层的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:首先在基体上表面采用电弧离子镀沉积Cr打底层;然后在Cr打底层上沉积CrN过渡层,继而在CrN过渡层上沉积CrN+AlTiN过渡层,最后在CrN+AlTiN过渡层上通过改变四个梯度...

【专利技术属性】
技术研发人员:兰睿卢国英石昌仑
申请(专利权)人:常州夸克涂层科技有限公司
类型:发明
国别省市:江苏;32

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