一种高频超声降解水中全氟辛烷磺酸的高级还原方法及装置制造方法及图纸

本发明专利技术申请提供一种高频超声还原降解水中全氟辛烷磺酸的高级还原方法及装置，所述的装置包括以下几部分：高频超声波发生器、用于盛放全氟辛烷磺酸水溶液的反应器和恒温冷却槽；所述的方法利用上述装置，在强碱性条件下利用高频超声诱导产生还原剂‑水合电子，并将之用于全氟辛烷磺酸降解。相较于常规的光化学降解方法，反应中无需添加光引发剂，节省了成本，避免了二次污染；不需要专门的反应设备，节省了成本；反应体系最终产物为F‑、SO42‑以及部分含氟烯烃或烷烃，无二次污染。

【技术实现步骤摘要】
一种高频超声降解水中全氟辛烷磺酸的高级还原方法及装置
本专利技术申请涉及一种在强碱性条件下利用高频超声诱导产生还原剂-水合电子，并将之用于全氟辛烷磺酸(PFOS)降解的方法及其装置，属于水处理

技术介绍
由于具有较强的化学及热稳定性、疏水疏油、低表面张力等优良的理化性质，全氟化物已经被广泛用于纺织、皮革、油墨涂料、泡沫灭火剂、乳化剂等产品生产和使用中，并随之扩散到各类环境介质。作为最为常见的一类全氟化物，全氟辛烷磺酸(PFOS)已经在水、大气、土壤、人体等环境介质中都有检出，因而逐渐受到重视。近期研究表明，PFOS具有环境持久性、生物累积性及毒性，可引起人体内生殖、发育、遗传等多种毒性，甚至可诱发癌症等疾病。因此，寻找有效的PFOS降解技术显得尤为重要。C-F较高的键能以及F极高的还原电势使得PFOS具有很强的化学稳定性。常规的生物法、化学法、以及基于·OH的高级氧化方法等都不能有效降解PFOS，且氧化方法大多存在反应时间长、脱氟效率低、反应条件苛刻等弊病。水合电子(eaq-)是目前已知最强的还原剂之一(E°＝-2.9本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高频超声还原降解水中全氟辛烷磺酸的装置，其特征在于：包括高频超声波发生器、用于盛放全氟辛烷磺酸水溶液的反应器和恒温冷却槽，所述高频超声波发生器包括超声发生器、振子和外槽，所述外槽与恒温冷却槽相通，所述反应器放置在所述外槽内。/n

【技术特征摘要】
1.一种高频超声还原降解水中全氟辛烷磺酸的装置，其特征在于：包括高频超声波发生器、用于盛放全氟辛烷磺酸水溶液的反应器和恒温冷却槽，所述高频超声波发生器包括超声发生器、振子和外槽，所述外槽与恒温冷却槽相通，所述反应器放置在所述外槽内。


2.根据权利要求1所述的高频超声还原降解水中全氟辛烷磺酸的装置，其特征在于：所述超声发生器与振子连接，所述外槽位于所述振子的上方，所述超声发生器设有操作面板，不同振子对应不同频率的超声波，反应器设置在外槽内。


3.根据权利要求1或2所述的高频超声还原降解水中全氟辛烷磺酸的装置，其特征在于：所述外槽设有进水口和出水口，分别与所述恒温冷却槽相通。


4.根据权利要求1或2所述的高频超声还原降解水中全氟辛烷磺酸的装置，其特征在于：所述反应器为惰性石英反应器。


5.根据权利要求4所述的高频超声还原降解水中全氟辛烷磺酸的装置，其特征在于：所述惰性石英反应器为密闭的圆柱形，其顶部及侧壁分别设有进气口、出气口和取样口，以供反应中曝气及取样。


6.根据权利要求1或2所述的高频超声还原降解水中全氟辛烷磺酸的装置，其特征在于：所述反应器固定在所述高频超声波发生器的外槽内某一位置，距外槽底部3-6cm，反应过程中，反应器内外液面高度始终保持一致。


7.一种利用权...

【专利技术属性】
技术研发人员：顾玉蓉，董紫君，刘彤宙，李绍峰，王宏杰，
申请(专利权)人：深圳职业技术学院，
类型：发明
国别省市：广东;44