【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】以合成图像训练机器学习模型
本专利技术大体上涉及经配置用于使用一或多个合成图像训练机器学习模型的方法及系统。
技术介绍
以下描述及实例不因其包含于此段落中而被承认是现有技术。制作例如逻辑及存储器装置的半导体装置通常包含使用大量半导体制作过程处理例如半导体晶片的衬底以形成半导体装置的各种特征及多个层级。例如,光刻是涉及将图案从光罩转印到布置于半导体晶片上的光致抗试剂的半导体制作过程。半导体制作过程的额外实例包含但不限于化学机械抛光(CMP)、蚀刻、沉积及离子植入。多个半导体装置可以布置制作于单一半导体晶片上且接着被分成个别半导体装置。在半导体制程期间的各个步骤使用检验过程来检测样品上的缺陷以驱使制程中的更高良率及因此更高利润。检验始终为制作半导体装置的重要部分。然而,随着半导体装置的尺寸减小,检验对于成功地制造可接受半导体装置变得更为重要,这是因为较小缺陷可能引起装置不合格。缺陷检视通常涉及重新检测本身通过检验过程检测的缺陷及使用高放大率光学系统或扫描电子显微镜(SEM)以较高分辨率产生关于缺陷的额外信息。因此,在其中已通过检验检测到缺陷的样品上的离散位置处执行缺陷检视。通过缺陷检视产生的缺陷的较高分辨率数据更适用于确定例如轮廓、粗糙度、更准确大小信息等的缺陷的属性。相较于检验,基于通过缺陷检视确定的信息,一般可将缺陷更准确地分类为缺陷类型。深度学习的进展已使深度学习成为用于缺陷检测及分类中的有吸引力的框架。为了分类,在训练中,用户可将卷标指派给缺陷图像。在生产期间(在训练之后),运用缺 ...
【技术保护点】
1.一种经配置以训练机器学习模型的系统,其包括:/n一或多个计算机子系统;及/n一或多个组件,其由所述一或多个计算机子系统执行,其中所述一或多个组件包括:/n图形用户接口GUI,其经配置用于:/n将样品的一或多个图像及图像编辑工具显示给用户;及/n从所述用户接收输入,其中所述输入包括使用所述图像编辑工具中的一或多者对所述一或多个图像中的至少一者进行的一或多个更改;/n图像处理模块,其经配置用于将所述一或多个更改应用于所述一或多个图像中中的所述至少一者,借此产生至少一个经修改图像且将所述至少一个经修改图像存储于训练集中;及/n机器学习模型,其经配置用于使用通过成像子系统针对所述样品产生的图像针对所述样品执行一或多个功能;/n其中所述一或多个计算机子系统经配置用于以其中存储所述至少一个经修改图像的所述训练集训练所述机器学习模型。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180321 US 62/646,2071.一种经配置以训练机器学习模型的系统,其包括:
一或多个计算机子系统;及
一或多个组件,其由所述一或多个计算机子系统执行,其中所述一或多个组件包括:
图形用户接口GUI,其经配置用于:
将样品的一或多个图像及图像编辑工具显示给用户;及
从所述用户接收输入,其中所述输入包括使用所述图像编辑工具中的一或多者对所述一或多个图像中的至少一者进行的一或多个更改;
图像处理模块,其经配置用于将所述一或多个更改应用于所述一或多个图像中中的所述至少一者,借此产生至少一个经修改图像且将所述至少一个经修改图像存储于训练集中;及
机器学习模型,其经配置用于使用通过成像子系统针对所述样品产生的图像针对所述样品执行一或多个功能;
其中所述一或多个计算机子系统经配置用于以其中存储所述至少一个经修改图像的所述训练集训练所述机器学习模型。
2.根据权利要求1所述的系统,其中显示于所述GUI中的所述一或多个图像是包含于初始训练集中的图像,且其中所述存储包括将所述至少一个经修改图像添加到所述初始训练集以借此产生所述训练集。
3.根据权利要求1所述的系统,其中所述一或多个更改包括以缺陷类别标签对所述一或多个图像中的所述至少一者进行批注。
4.根据权利要求1所述的系统,其中所述一或多个更改包括在所述一或多个图像中的所述至少一者中产生合成缺陷。
5.根据权利要求1所述的系统,其中所述一或多个更改包括通过所述用户运用包含于所述图像编辑工具中的绘制工具输入的一或多个手动绘制更改。
6.根据权利要求1所述的系统,其中所述一或多个更改包括将对应于已知所关注缺陷的图像的一部分转贴到所述一或多个图像中的所述至少一者中。
7.根据权利要求1所述的系统,其中所述一或多个更改包括基于所述样品的已知所关注缺陷的一或多个特性在所述一或多个图像中的所述至少一者中产生合成缺陷。
8.根据权利要求1所述的系统,其中显示于所述GUI中的所述一或多个图像是初始训练集中的图像,其中所述初始训练集不包括所述样品的已知所关注缺陷的任何例子,其中所述一或多个更改包括基于所述已知所关注缺陷的一或多个特性在所述一或多个图像中的所述至少一者中产生合成缺陷,且其中所述存储包括将所述至少一个经修改图像添加到所述初始训练集以借此产生所述训练集。
9.根据权利要求1所述的系统,其中显示于所述GUI中的所述一或多个图像是初始训练集中的图像,其中所述初始训练集包括所述样品的已知所关注缺陷的少于预定数目个例子,其中所述一或多个更改包括基于所述已知所关注缺陷的一或多个特性在所述一或多个图像中的所述至少一者中产生一或多个合成缺陷,借此产生所述至少一个经修改图像中的一或多者,且其中所述存储包括将所述至少一个经修改图像中的所述一或多者添加到所述初始训练集以借此产生所述训练集。
10.根据权利要求1所述的系统,其中所述一或多个更改包括对对应于缺陷的所述一或多个图像中的所述至少一者的一部分的一或多个修改,且其中产生所述至少一个经修改图像包括:基于所述一或多个修改产生新图像。
11.根据权利要求10所述的系统,其中所述一或多个修改包括按比例调整、旋转、边缘模糊或强度修改。
12.根据权利要求1所述的系统,其中所述GUI进一步经配置用于将所述训练的结果显示给所述用户。
13.根据权利要求1所述的系统,其中所述GUI...
【专利技术属性】
技术研发人员:I·赖利,贺力,S·梵卡泰若曼,M·科瓦尔斯基,A·希迪,
申请(专利权)人:科磊股份有限公司,
类型:发明
国别省市:美国;US
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