【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于使用质谱法量化两种或更多种分析物的方法和系统
本申请涉及使用质谱法量化两种或更多种分析物的方法和系统。在某些配置中，描述了在检测瞬态样品中的两种或更多种不同分析物时填充质谱数据间隙以准许量化这两种或更多种不同分析物中的每一种的方法和系统。
技术介绍
在许多质谱方法中，将样品引入电离源中以使样品中的物质电离。可从样品中的其他离子中选择或过滤要检测的分析物离子，之后将感兴趣的分析物离子提供到检测器。
技术实现思路
在一个方面，提供了一种使用质谱仪来量化表示瞬态样品中的两种或更多种分析物的瞬态事件的方法。在某些配置中，所述方法包括：通过有区别地降低碰撞反应池中的离子云中的不同分析物离子的离子速度来加宽离子云。所述离子云可包括来自所述瞬态样品的第一分析物的离子和来自所述瞬态样品的第二分析物的离子。例如，通过利用气体对所述碰撞反应池进行加压，可有区别地降低所述不同离子的离子速度。在其他配置中，所述方法可包括：将包括离子速度有区别地增加的所述不同离子的所述加宽离子云从所述碰撞反应池提供到在所述碰撞反应池下游流体耦接到所述碰撞反应池的质量分析器，以使用所述质量分析器来在来自所述第一分析物的所述离子与来自所述第二分析物的所述离子之间交替选择。在一些配置中，所述方法可包括：将交替选择的来自所述第一分析物的所述离子和来自所述第二分析物的所述离子从所述质量分析器提供到流体耦接到所述质量分析器的下游检测器，以在检测时段期间将来自所述第一分析物的所提供离子检测为第一检测值，并且在所述检测时段期间...
【技术保护点】
1.一种使用质谱仪来量化表示瞬态样品中的两种或更多种分析物的瞬态事件的方法，所述方法包括：/n借助于通过用气体对碰撞反应池进行加压而有区别地降低所述碰撞反应池中的离子云中的不同分析物离子的离子速度来加宽离子云，所述离子云包括来自所述瞬态样品的第一分析物的离子和来自所述瞬态样品的第二分析物的离子；/n将包括离子速度有区别地增加的所述不同离子的所述加宽离子云从所述碰撞反应池提供到在所述碰撞反应池下游流体耦接到所述碰撞反应池的质量分析器，以使用所述质量分析器来在来自所述第一分析物的所述离子与来自所述第二分析物的所述离子之间交替选择；/n将交替选择的来自所述第一分析物的所述离子和来自所述第二分析物的所述离子从所述质量分析器提供到流体耦接到所述质量分析器的下游检测器，以在检测时段期间将来自所述第一分析物的所提供离子检测为第一检测值，并且在所述检测时段期间将来自所述第二分析物的所提供离子检测为第二检测值；/n使用所检测的第一检测值来生成表示所述样品中的所述第一分析物的第一强度曲线；/n使用所检测的第二检测值来生成表示所述样品中的所述第二分析物的第二强度曲线；/n使用所生成的第一强度曲线来确定所述瞬...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180108 US 62/614,8881.一种使用质谱仪来量化表示瞬态样品中的两种或更多种分析物的瞬态事件的方法，所述方法包括：
借助于通过用气体对碰撞反应池进行加压而有区别地降低所述碰撞反应池中的离子云中的不同分析物离子的离子速度来加宽离子云，所述离子云包括来自所述瞬态样品的第一分析物的离子和来自所述瞬态样品的第二分析物的离子；
将包括离子速度有区别地增加的所述不同离子的所述加宽离子云从所述碰撞反应池提供到在所述碰撞反应池下游流体耦接到所述碰撞反应池的质量分析器，以使用所述质量分析器来在来自所述第一分析物的所述离子与来自所述第二分析物的所述离子之间交替选择；
将交替选择的来自所述第一分析物的所述离子和来自所述第二分析物的所述离子从所述质量分析器提供到流体耦接到所述质量分析器的下游检测器，以在检测时段期间将来自所述第一分析物的所提供离子检测为第一检测值，并且在所述检测时段期间将来自所述第二分析物的所提供离子检测为第二检测值；
使用所检测的第一检测值来生成表示所述样品中的所述第一分析物的第一强度曲线；
使用所检测的第二检测值来生成表示所述样品中的所述第二分析物的第二强度曲线；
使用所生成的第一强度曲线来确定所述瞬态样品中的所述第一分析物的量，以及使用第二所生成的强度曲线来确定所述瞬态样品中的所述第二分析物的量。
2.如权利要求1所述的方法，其还包括：使用第一分析物预扫描曲线来确定所述所生成的第一强度曲线的形状，以及使用第二分析物预扫描曲线来确定所述所生成的第二强度曲线的形状。
3.如权利要求2所述的方法，其还包括：使用所述所生成的第一强度曲线的峰高来确定所述第一分析物的量。
4.如权利要求3所述的方法，其还包括：使用所述所生成的第二强度曲线的峰高来确定所述第二分析物的量。
5.如权利要求2所述的方法，其还包括：使用所述所生成的第一强度曲线下方的面积来确定所述第一分析物的量。
6.如权利要求5所述的方法，其还包括：使用所述所生成的第二强度曲线下方的面积来确定所述第二分析物的量。
7.如权利要求1所述的方法，其还包括：更改所述碰撞反应池内的轴向场强度以进一步加宽所述碰撞反应池内中的所述离子云。
8.如权利要求1所述的方法，其还包括：降低向所述碰撞反应池内的轴向电极提供的电压以更改所述碰撞反应池内的所述轴向场强度。
9.如权利要求1所述的方法，其还包括：更改所述质谱仪的采样深度以进一步加宽所述离子云。
10.如权利要求1所述的方法，其还包括：将所述瞬态样品配置成包括单纳米颗粒、单纳米结构、单微粒、单微结构、单细胞或细胞的单细胞器。
11.一种使用质谱仪来量化瞬态样品中的两种或更多种无机分析物的方法，其中所述瞬态样品包括各自存在于单系统中的第一无机分析物和第二无机分析物，所述方法包括：
将所述单系统引入电离源中以使所述第一无机分析物和所述第二无机分析物电离并且提供包括电离的第一无机分析物和电离的第二无机分析物的离子云；
将包括所述电离的第一无机分析物和所述电离的第二无机分析物的所述离子云提供到流体耦接到所述电离源并且在所述电离源下游的碰撞反应池；
加宽所述碰撞反应池中的所提供的离子云；
将所加宽的离子云从所述碰撞反应池提供到在所述碰撞反应池下游流体耦接到所述碰撞反应池的质量分析器，以使用所述质量分析器在来自所述电离的第一无机分析物的离子与来自所述电离的第二无机分析物的离子之间交替选择；
将交替选择的来自所述电离的第一无机分析物的所述离子和来自所述电离的第二无机分析物的所述离子从所述质量分析器提供到流体耦接到所述质量分析器的下游检测器，以在检测时段期间将来自所述电离的第一无机分析物的所提供的离子检测为第一检测值，并且在所述检测时段期间将来自所提供的电离的第二无机分析物的所述离子检测为第二检测值；
使用所检测的第一检测值来生成表示所述单系统中的所述第一无机分析物的第一强度曲线；
使用所检测的第二检测值来生成表示所述单系统中的所述第二无机分析物的第二强度曲线；
使用所生成的第一强度曲线来确定所述单系统中的所述第一分析物的量，以及使用所生成的第二强度曲线来确定所述单系统中的所述第二分析物的量。
12.如权利要求11所述的方法，其还包括：通过更改所述碰撞反应池中的压力或更改所述碰撞反应池中的轴向场强度或两者以有区别地降低所述所提供的离子云中的离子的离子速度来加宽所述碰撞反应池中的所述所提供的离子云。
13.如权利要求12所述的方法，其还包括：使用第一分析物预扫描曲线来确定所述所生成的第一强度曲线的形状，以及使用第二分析物预扫描曲线来确定所述所生成的第二强度曲线的形状。
14.如权利要求13所述的方法，其还包括：使用所述所生成的第一强度曲线的峰高来确定所述第一分析物的量。
15.如权利要求14所述的方法，其还包括：使用所述所生成的第二强度曲线的峰高来确定所述第二分析物的所述量。
16.如权利要求13所述的方法，其还包括：使用所述所生成的第一强度曲线下方的面积来确定所述第一分析物的量。
17.如权利要求16所述的方法，其还包括：使用所述所生成的第二强度曲线下方的面积来确定所述第二分析物的所述量。
18.如权利要求11所述的方法，其还包括：在将所述离子云提供到所述碰撞反应池之前更改所述质谱仪的采样深度以加宽所述离子云。
19.如权利要求18所述的方法，其还包括：将所述离子云提供到定位在所述碰撞反应池上游的离子偏转器。
20.如权利要求11所述的方法，其还包括：将所述单系统配置成包括单纳米颗粒、单纳米结构、单微粒、单微结构、单细胞或细胞的单细胞器。
21.一种使用质谱仪来量化单系统中的两种或更多种无机分析物的方法，其中所述单系统包括所述单系统中的第一无机分析物和所述单系统中的第二无机分析物，所述方法包括：
将所述单系统引入电离源中以使所述第一无机分析物和所述第二无机分析物电离并且提供包括来自所述电离的第一无机分析物的离子和来自所述电离的第二无机分析物的离子的离子云；
将包括来自所述电离的第一无机分析物的离子和来自所述电离的第二无机分析物的离子的所述离子云提供到流体耦接到所述电离源并且在所述电离源下游的碰撞反应池；
加宽所述碰撞反应池中的所提供的离子云；
将所加宽的离子云从所述碰撞反应池提供到在所述碰撞反应池下游流体耦接到所述碰撞反应池的质量分析器，以使用所述质量分析器在来自所述电离的第一无机分析物的所述离子与来自所述电离的第二无机分析物的所述离子之间交替选择；
将交替选择的来自电离的第一无机分析物的所述离子和来自电离的第二无机分析物的所述离子从所述质量分析器提供到流体耦接到所述质量分析器的下游检测器，以在检测时段期间将来自所述电离的第一无机分析物的所提供的离子检测为第一检测值，并且在所述检测时段期间将来自所述电离的第二无机分析物的所提供的离子检测为第二检测值；
使用所检测的第一检测值来生成表示所述单系统中的所述第一无机分析物的第一强度曲线；
使用所检测的第二检测值来生成表示所述单系统中的所述第二无机分析物的第二强度曲线；
使用所生成的第一强度曲线来确定所述单系统中的所述第一分析物的量，以及使用所生成的第二强度曲线来确定所述单系统中的所述第二分析物的量。
22.如权利要求21所述的方法，其还包括：将所述电离源配置为电感耦合等离子体。
23.如权利要求22所述的方法，其还包括：通过更改所述碰撞反应池中的压力或更改所述碰撞反应池中的轴向场强度或两者以有区别地降低所述所提供的离子云中的离子的离子速度来加宽所述碰撞反应池中的所述所提供的离子云。
24.如权利要求23所述的方法，其还包括：在将所述离子云提供到所述碰撞反应池更改采样深度以加宽所述离子云。
25.如权利要求23所述的方法，其还包括：将所述离子云提供到定位在所述电离源与所述碰撞反应池之间的离子偏转器。
26.如权利要求24所述的方法，其还包括：使用第一分析物预扫描曲线来确定所述所生成的第一强度曲线的形状，以及使用第二分析物预扫描曲线来确定所述所生成的第二强度曲线的形状。
27.如权利要求26所述的方法，其还包括：使用所述所生成的第一强度曲线的峰高来确定所述第一分析物的量，以及使用所述所生成的第二强度曲线的峰高来确定所述第二分析物的量。
28.如权利要求27所述的方法，其还包括：将所述单系统配置成包括单纳米颗粒、单纳米结构、单微粒、单微结构、单细胞或细胞的单细胞器。
29.如权利要求26所述的方法，其还包括：使用所述所生成的第一强度曲线下方的面积来确定所述第一分析物的量，以及使用所述所生成的第二强度曲线下方的面积来确定所述第二分析物的量。
30.如权利要求29所述的方法，其还包括：将所述单系统配置成包括单纳米颗粒、单纳米结构、单微粒、单微结构、单细胞或细胞的单细胞器。
31.一种使用质谱仪来量化瞬态样品中的两种或更多种无机分析物的方法，其中所述瞬态样品包括存在于单系统中的第一无机分析物和第二无机分析物中的每一者，所述方法包括：
将所述单系统引入电离源中以使所述第一无机分析物和所述第二无机分析物电离并且提供包括电离的第一无机分析物和电离的第二无机分析物的离子云；
将所述离子云提供到所述电离源下游的质量分析器，以使用所述质量分析器在来自所述电离的第一无机分析物的离子与来自所述电离的第二无机分析物的离子之间交替选择；
将交替选择的来自所述电离的第一无机分析物的所述离子和来自所述电离的第二无机分析物的所述离子从所述质量分析器提供到流体耦接到所述质量分析器的下游检测器，以在检测时段期间将来自所述电离的第一无机分析物的所提供的离子检测为第一检测值，并且在所述检测时段期间将来自所提供的电离的第二无机分析物的所述离子检测为第二检测值；
使用所检测的第一检测值来生成表示所述单系统中的所述第一无机分析物的第一强度曲线；
使用所检测的第二检测值来生成表示所述单系统中的所述第二无机分析物的第二强度曲线；
使用所生成的第一强度曲线来确定所述单系统中的所述第一分析物的量，以及使用所生成的第二强度曲线来确定所述单系统中的所述第二分析物的量。
32.如权利要求31所述的方法，其还包括：将所述电离源配置成包括激光以烧蚀所述单系统，以作为通过所述激光烧蚀形成的固体样品的羽流提供所述离子云，其中所述固体样品的羽流包括所述第一无机分析物和所述第二无机分析物。
33.如权利要求31所述的方法，其还包括：将所述电离源配置成包括电热蒸发器，以作为通过电热蒸发形成的蒸气塞提供所述离子云，其中所述蒸气塞包括所述第一无机分析物和所述第二无机分析物。
34.如权利要求32或33所述的方法，其还包括：使用第一分析物预扫描曲线来确定所述所生成的第一强度曲线的形状，以及使用第二分析物预扫描曲线来确定所述所生成的第二强度曲线的形状。
35.如权利要求34所述的方法，其还包括：使用所述所生成的第一强度曲线的峰高来确定所述第一分析物的量，以及使用所述所生成的第二强度曲线的峰高来确定所述第二分析物的量。
36.如权利要求34所述的方法，其还包括：使用所述所生成的第一强度曲线下方的面积来确定所述第一分析物的量，以及使用所述所生成的第二强度曲线下方的面积来确定所述第二分析物的量。
37.如权利要求32或33所述的方法，其还包括：在将所述离子云提供到所述下游质量分析器之前更改所述质谱仪的采样深度以加宽所述离子云。
38.如权利要求32或33所述的方法，其还包括：将所述离子云提供到定位在所述电离源下游的离子偏转器。
39.如权利要求38所述的方法，其还包括：将所述离子云提供到定位在所述离子偏转器与所述质量分析器之间的碰撞反应池。
40.如权利要求39所述的方法，其还包括：将所述碰撞反应池配置成具有四极杆组和两个或更多个轴向电极。
41.一种针对交替检测存在于瞬态样品中的包括第一分析物和第二分析物的两种或更多种分析物期间的数据间隙进行校正以准许使用质谱仪来量化所述第一分析物和所述第二分析物中的每一者的方法，所述方法包括：在加宽的检测间隔期间交替检测来自电离的第一分析物的离子和来自电离的第二分析物的离子，其中在所述加宽的检测间隔期间，当与在未加宽的检测间隔内针对所述电离的第一分析物和所述电离的第二分析物中的每一者能检测到的非零检测值的数量相比时，针对所述电离的第一分析物和所述电离的第二分析物中的每一者检测到的非零检测值的数量更大。
42.如权利要求41所述的方法，其还包括：通过加宽包括来自电离的第一分析物的离子和来自电离的第二分析物的离子的离子云来加宽所述检测间隔。
43.如权利要求42所述的方法，其还包括：通过更改碰撞反应池中的压力或更改所述碰撞反应池中的轴向场强度或两者来加宽所述碰撞反应池中的所述离子云。
44.如权利要求42所述的方法，其还包括：通过更改所述质谱仪的采样深度来加宽所述离子云。
45.如权利要求41-44中任一项所述的方法，其还包括：使用来自在所述加宽的检测间隔期间交替检测的来自电离的第一分析物的离子和来自电离的第二分析物的离子的检测值来量化所述瞬态样品中的所述第一分析物和所述第二分析物中的每一者的量。
46.如权利要求45所述的方法，其还包括：使用所检测的来自电离的第一分析物的离子的所述检测值来生成第一强度曲线。
47.如权利要求46所述的方法，其还包括：使用所检测的来自电离的第二分析物的离子的所述检测值来生成第二强度曲线。
48.如权利要求47所述的方法，其还包括：使用第一分析物预扫描曲线来确定所生成的第一强度曲线的形状，以及使用第二分析物预扫描曲线来确定所生成的第二强度曲线的形状。
49.如权利要求48所述的方法，其还包括：选择包括所述第一分析物和所述第二分析物的单系统，其中所述单系统包括
单纳米颗粒、单纳米结构、单微粒、单微结构、单细胞或细胞的单细胞器。
50.如权利要求48所述的方法，其还包括：选择包括所述第一分析物和所述第二分析物的单系统，其中所述单系统提供通过激光烧蚀形成的固体样品的羽流...
【专利技术属性】
技术研发人员：S巴扎甘，H巴蒂艾，
申请(专利权)人：珀金埃尔默健康科学加拿大股份有限公司，
类型：发明
国别省市：加拿大;CA
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